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    一種無鎘銅銦鎵硒薄膜太陽能電池及其制備方法技術(shù)

    技術(shù)編號:8272491 閱讀:174 留言:0更新日期:2013-01-31 05:02
    本發(fā)明專利技術(shù)涉及一種無鎘銅銦鎵硒薄膜太陽能電池,采用金屬柵極層/透明電極層/緩沖層/光吸收層/背電極層/襯底的結(jié)構(gòu),去除了銅銦鎵硒薄膜太陽能典型結(jié)構(gòu)中的本征ZnO窗口層,。本發(fā)明專利技術(shù)還提供了上述電池的全濺射制備方法。本發(fā)明專利技術(shù)去除了本征ZnO窗口層,簡化了工藝制備步驟,降低了生產(chǎn)成本。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
    本專利技術(shù)屬于光電材料新能源
    ,具體涉及一種無鎘銅銦鎵硒薄膜太陽能電池及其制備方法
    技術(shù)介紹
    銅銦鎵硒(CIGS)太陽能電池作為最有潛力的薄膜太陽能電池之一,具有高吸收系數(shù)、帶隙可調(diào)、抗輻射能力強(qiáng),性能穩(wěn)定、弱光性能好、成本低等優(yōu)點(diǎn)。典型結(jié)構(gòu)為多層膜結(jié)構(gòu),從入光面開始,依次包括金屬柵極層(Al) /透明導(dǎo)電層(AZO) /窗口層(ZnO) /緩沖層(CdS) /光吸收層(CIGS) /背電極層(Mo) /玻璃,其中CIGS吸收層的制備主要采用共蒸發(fā)法或濺射后硒化法,如CN02104073和CN201110367960,這兩種方法都有工藝過程繁復(fù),難于規(guī)模化的缺點(diǎn)。CdS作為緩沖層一般采用化學(xué)浴沉積法,這存在著一些缺點(diǎn)(I)Cd對 人體有害,污染環(huán)境(2)化學(xué)浴沉積法屬于濕法制備方法,破壞了采用真空沉積方法制備銅銦鎵硒薄膜太陽能電池的完整性。因此人們致力于干法制備無鎘銅銦鎵硒薄膜太陽能緩沖層的開發(fā),如專利CN201110294472中用濺射法制備硫化鋅(ZnS)緩沖層取代傳統(tǒng)的水浴沉積法制備CdS緩沖層,但這個專利仍使用本征ZnO作為窗口層,工藝過程繁復(fù),生產(chǎn)成本較聞。
    技術(shù)實現(xiàn)思路
    本專利技術(shù)的目的是提供一種無鎘銅銦鎵硒薄膜太陽能電池及其制備方法,去除了本征ZnO窗口層,簡化了工藝制備步驟,降低了生產(chǎn)成本。本專利技術(shù)是通過如下技術(shù)方案實現(xiàn)的一種無鎘銅銦鎵硒薄膜太陽能電池,其從上往下依次由透明導(dǎo)電層、緩沖層、光吸收層、金屬背電極層和襯底組成。所述金屬背電極層為金屬M(fèi)o層,所述光吸收層為銅銦鎵硒(CuInxGahSe2)薄膜,所述緩沖層為ZnS薄膜,所述透明導(dǎo)電層為氧化鋅摻鋁AZO薄膜。一種無鎘銅銦鎵硒薄膜太陽能電池,采用全濺射方法,包含以下制備步驟(I)在磁控濺射腔體內(nèi)安裝Mo靶、CuInxGa1^xSe2靶(O彡x彡I)、ZnS靶和AZO靶,并安裝清洗好的鈉鈣玻璃基片,然后對腔體抽真空至lX10_3Pa以下。在通入99. 999%的高純Ar氣,使用射頻電源在基片上濺射厚度為O. 5 μ m-1. 5 μ m的Mo薄膜,作為薄膜太陽能電池的背電極,濺射條件為基片溫度為25-600°C,靶基距為5-lOcm,Ar氣的流量為10-100SCCM,Mo的濺射氣壓為l_5mTorr,濺射功率為100-400W,相應(yīng)的濺射時間為20_90mino(2)制備好Mo層后,使用射頻電源在鍍有Mo的鈉鈣玻璃基片上濺射厚度為I. 5-3 μ m的CIGS薄膜,作為薄膜太陽能電池的吸收層,濺射條件為基片溫度為25_600°C,靶基距為5-10cm, Ar氣的流量為10-100SCCM,濺射氣壓為O. 5-4mTorr,濺射功率為100-400W,濺射時間為l-4h。(3)制備好CIGS層后,使用射頻電源濺射厚度為30-100nm的ZnS薄膜,作為薄膜太陽能電池的緩沖層,濺射條件為基片溫度為25-600°C,靶基距為5-10cm,Ar氣的流量為10-100SCCM,濺射氣壓為l_5mTorr,濺射功率為100W-400W,濺射時間為2_15min。(4)制備好ZnS層后,使用射頻電源濺射厚度為500-1000nm的AZO薄膜,作為薄膜太陽能電池的透明導(dǎo)電層,濺射條件為基片溫度為25-600°C,靶基距為5-10cm,Ar氣的流量為20-100SCCM,濺射氣壓為l_4mTorr,濺射功率為100W-400W,濺射時間為10_60min。(5)最后在透明導(dǎo)電層上覆鋁金屬引線,制成太陽能電池。步驟(I)所述的AZO靶中Al2O3摻雜比例為I. 5%_3%。本專利技術(shù)的技術(shù)效果體現(xiàn)在現(xiàn)有技術(shù)通常認(rèn)為無鎘銅銦鎵硒薄膜太陽能電池必須包含有窗口層(本征ZnO),這樣才能夠防止電池短路,但是其導(dǎo)致整個太陽能電池工藝過程繁復(fù),生產(chǎn)成本較高。本·專利技術(shù)克服了現(xiàn)有技術(shù)的偏見,除去了典型銅銦鎵硒薄膜太陽能電池結(jié)構(gòu)中的窗口層(本征ZnO),試驗證明,制備得到的電池仍然能正常穩(wěn)定工作,而且結(jié)構(gòu)簡單,簡化了其制備工藝,大幅度降低了成本,提聞了良品率。附圖說明圖I為本專利技術(shù)太陽能電池結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本專利技術(shù)實施案例一中所制備的無鎘銅銦鎵硒(CIGS)薄膜太陽能電池的斷面SEM圖。圖3為本專利技術(shù)實施案例一中所制備的無鎘銅銦鎵硒(CIGS)薄膜太陽能電池的I-V特性曲線圖。具體實施例方式下面通過具體實施例和圖f 3的闡述,以進(jìn)一步說明本專利技術(shù)實質(zhì)性特點(diǎn)和顯著的進(jìn)步,但本專利技術(shù)絕非僅局限于實施例。實施例一一種無鎘銅銦鎵硒薄膜太陽能電池,制備步驟如下(I)在磁控濺射腔體內(nèi)安裝Mo靶、CuIna 3Ga0.7Se2靶、ZnS靶和AZO (Al2O3摻雜比例為2%)靶,并安裝清洗好的鈉鈣玻璃基片,然后對腔體抽真空至IXlO-3Pa以下。在通入99. 999%的高純Ar氣,使用射頻電源在基片上濺射厚度為I. 2 μ m的Mo薄膜,作為薄膜太陽能電池的背電極,濺射條件為基片溫度為25°C,靶基距為9cm,Ar氣的流量為30SCCM,Mo的濺射氣壓為4mTorr,濺射功率為300W,相應(yīng)的濺射時間為60min。(2)制備好Mo層后,使用射頻電源在鍍有Mo的鈉鈣玻璃基片上濺射厚度為2 μ m的CIGS薄膜,作為薄膜太陽能電池的吸收層,濺射條件為基片溫度為350°C,靶基距為9cm,Ar氣的流量為30SCCM,濺射氣壓為lmTorr,濺射功率為200W,濺射時間為3h。(3)制備好CIGS層后,使用射頻電源濺射厚度為50nm的ZnS薄膜,作為薄膜太陽能電池的緩沖層,濺射條件為基片溫度為25°C,靶基距為9cm,Ar氣的流量為30SCCM,濺射氣壓為3. 75mTorr,濺射功率為100W,濺射時間為5min。(4)制備好ZnS層后,使用射頻電源濺射厚度為700nm的AZO薄膜,作為薄膜太陽能電池的透明導(dǎo)電層,濺射條件為基片溫度為25 °C,靶基距為9cm,Ar氣的流量為30SCCM,濺射氣壓為3mTorr,濺射功率為200W,濺射時間為35min。( 5 )最后在透明導(dǎo)電層上覆鋁金屬引線,制成太陽能電池。圖2為本實施例所制備的無鎘銅銦鎵硒(CIGS)薄膜太陽能電池的斷面SEM照片,從圖中可看出薄膜結(jié)晶狀態(tài)良好。圖3為本實施例所制備的無鎘銅銦鎵硒(CIGS)薄膜太陽能電池的I-V特性曲線圖,制備得到的電池開路電壓為627mV,短路電流密度為15. 6mA/cm2。填充因子為O. 37,光電轉(zhuǎn)化效率為3. 61%。實施例二(I)在磁控濺射腔體內(nèi)安裝Mo靶、CuIna2Gaa8Se2靶、ZnS靶和AZO (Al2O3摻雜比例為2%)靶,并安裝清洗好的鈉鈣玻璃基片,然后對腔體抽真空至IXlO-3Pa以下。在通入 99. 999%的高純Ar氣,使用射頻電源在基片上濺射厚度為O. 5μ m的Mo薄膜,作為薄膜太陽能電池的背電極,濺射條件為基片溫度為25°C,靶基距為10cm,Ar氣的流量為10SCCM,Mo的濺射氣壓為ITorr,濺射功率為100W,相應(yīng)的濺射時間為90min。(2)制備好Mo層后,使用射頻電源在鍍有Mo的鈉鈣玻璃基片上濺射厚度為I. 5 μ m的CIGS薄膜,作為薄膜太陽能電池的吸收層,濺射條件為基片溫度為25°C,靶基距為IOcm, Ar氣的流量為10SCCM,濺射氣壓為O. 5mT本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
    一種無鎘銅銦鎵硒薄膜太陽能電池,其特征在于,其從上往下依次由透明導(dǎo)電層、緩沖層、光吸收層、金屬背電極層和襯底組成。

    【技術(shù)特征摘要】
    1.一種無鎘銅銦鎵硒薄膜太陽能電池,其特征在于,其從上往下依次由透明導(dǎo)電層、緩沖層、光吸收層、金屬背電極層和襯底組成。2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的無鎘銅銦鎵硒薄膜太陽能電池,其特征在于,所述金屬背電極層為金屬M(fèi)o層,所述光吸收層為銅銦鎵硒薄膜,所述緩沖層為ZnS薄膜,所述透明導(dǎo)電層為氧化鋅摻鋁AZO薄膜。3.制備權(quán)利要求I或2所述無鎘銅銦鎵硒薄膜太陽能電池的方法,具體為 (1)在磁控濺射腔體內(nèi)安裝Mo靶、CuInxGahSe2靶、ZnS靶和AZO祀,并安裝...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:繆向水向君黃醒
    申請(專利權(quán))人:華中科技大學(xué)
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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