一種檢測裝置及采用上述檢測裝置檢測圓軸的外徑、跳動值、真圓度的方法，包括基部、光學(xué)測量部、頂尖部和PC-PLC控制中心；其中基部包括基板和兩基板導(dǎo)軌，光學(xué)測量部和頂尖部滑動安裝在基部上；光學(xué)測量部包括光學(xué)測量儀導(dǎo)軌和光學(xué)測量儀，光學(xué)測量儀導(dǎo)軌滑動設(shè)于基板導(dǎo)軌上；光學(xué)測量儀滑動設(shè)于所述光學(xué)測量儀導(dǎo)軌上；頂尖部包括頂尖導(dǎo)軌及滑動地設(shè)置在頂尖導(dǎo)軌上第一頂尖結(jié)構(gòu)和第二頂尖結(jié)構(gòu)。PC-PLC控制中心控制光學(xué)測量部、頂尖部相對基部的運動。通過光學(xué)測量儀對待檢測圓軸測量，并將測量數(shù)據(jù)反饋給PC-PLC控制中心，PC-PLC控制中心則可根據(jù)所測量數(shù)據(jù)計算出待檢測圓軸的外徑、跳動值和真圓度。
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及一種光學(xué)檢測裝置，尤其涉及一種可用于檢測軸的外徑、跳動值、真圓度等的檢測裝置及檢測方法。
技術(shù)介紹
目前，隨著工業(yè)的高速發(fā)展，為避免圓軸類零部件因外徑、跳動值、真圓度波動過大在所應(yīng)用的設(shè)備造成磨損或故障，因此，對圓軸部件的檢測成為必要。在測量行業(yè)，現(xiàn)有技術(shù)多利用平行光、掃描平行光束或擴束平行光速照射被測物，對其投影尺寸進行光速掃描遮擋時間的測量，或平行光遮擋位置的測量。然而，這樣的測量方式多為半自動方式檢 測人員需手持光學(xué)測量儀器對圓軸進行測量，并一一記錄測量數(shù)據(jù)，檢測效率十分低下。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本專利技術(shù)所要解決的技術(shù)問題在于，提供了一種可快速準(zhǔn)確自動檢測軸外徑、跳動值、真圓度的檢測裝置。本專利技術(shù)是這樣實現(xiàn)的，提供一種檢測裝置，其包括基部、光學(xué)測量部、頂尖部和PC-PLC控制中心；所述光學(xué)測量部和所述頂尖部滑動地安裝在所述基部上；所述PC-PLC控制中心控制所述光學(xué)測量部、所述頂尖部相對所述基部的運動；所述基部包括基板和設(shè)于所述基板上的兩條基板導(dǎo)軌；所述兩條基板導(dǎo)軌分別沿其橫向延伸，并在縱向上相間設(shè)置；所述光學(xué)測量部包括光學(xué)測量儀導(dǎo)軌和設(shè)于所述光學(xué)測量儀導(dǎo)軌上的光學(xué)測量儀；所述光學(xué)測量儀用于對待檢測圓軸進行測量，并將測量數(shù)據(jù)反饋給所述PC-PLC控制中心，所述PC-PLC控制中心根據(jù)所述測量數(shù)據(jù)計算出所述待檢測圓軸的檢測數(shù)據(jù)；所述光學(xué)測量儀導(dǎo)軌橫向滑動設(shè)置在所述基板導(dǎo)軌上；所述光學(xué)測量儀滑動地設(shè)置在所述光學(xué)測量儀導(dǎo)軌上；所述頂尖部包括頂尖導(dǎo)軌、第一頂尖結(jié)構(gòu)和第二頂尖結(jié)構(gòu)；所述頂尖導(dǎo)軌沿橫向其橫向延伸設(shè)置在所述基板上，并在縱向上與所述兩個基板導(dǎo)軌間隔設(shè)置；所述第一頂尖結(jié)構(gòu)沿橫向其橫向可滑動地設(shè)置在所述頂尖導(dǎo)軌的一端；所述第二頂尖結(jié)構(gòu)沿其橫向橫向可滑動地設(shè)置在所述頂尖導(dǎo)軌的另一端。。進一步地，所述頂尖部還包括V型支撐座；所述V型支撐座沿其橫向滑動設(shè)置在所述頂尖導(dǎo)軌上，并位于所述第一頂尖結(jié)構(gòu)與所述第二頂尖結(jié)構(gòu)之間用于支撐所述待檢測圓軸。進一步地，所述第一頂尖結(jié)構(gòu)和所述第二頂尖結(jié)構(gòu)分別包括殼體、氣缸導(dǎo)軌、氣缸、氣缸伸縮桿、頂尖和電機；所述殼體包括底板、基座和固定塊；所述底板上設(shè)有與所述頂尖導(dǎo)軌相配合的滑槽；所述基座安裝在所述底板上并隨著所述底板相對于所述頂尖導(dǎo)軌滑動；所述基座上設(shè)有開口 ；所述固定塊設(shè)置在所述底板上；所述氣缸導(dǎo)軌設(shè)置在所述底板上并沿其橫向延伸；所述基座滑動安裝在所述氣缸導(dǎo)軌上；所述氣缸安裝在所述基座上；所述氣缸伸縮桿的一端位于所述氣缸中，所述氣缸伸縮桿的另一端延伸到所述氣缸的外部并可伸縮穿過所述基座上的所述開口，并通過所述固定塊使得所述氣缸帶動所述基座在所述氣缸導(dǎo)軌上沿其橫向相對于所述氣缸導(dǎo)軌往復(fù)滑動；所述頂尖設(shè)置在所述基座上，并隨著所述基座一同運動；所述電機設(shè)置在所述殼體的一側(cè)，驅(qū)動所述頂尖轉(zhuǎn)動。進一步地，所述第一頂尖結(jié)構(gòu)的所述固定塊位于所述殼體的臨近所述第一頂尖結(jié)構(gòu)的所述頂尖的一側(cè)；所述第二頂尖結(jié)構(gòu)的所述固定塊位于所述殼體的遠離所述第二頂尖結(jié)構(gòu)的所述頂尖的一側(cè)。進一步地，所述頂尖包括形成在其前端的內(nèi)凹部和可更換地設(shè)在所述內(nèi)凹部中的限位塊；所述限位塊與所述待檢測圓軸配合。進一步地，所述限位塊呈圓臺形，用以檢測實心的圓軸；所述圓臺形的限位塊上設(shè)有內(nèi)凹槽，所述內(nèi)凹槽的外圈與所述測實心的圓軸的倒角相配合。進一步地，所述限位塊呈圓錐形，用以檢測空心的圓軸；所述圓錐形的限位塊與所述空心的圓軸的內(nèi)圈相配合。所述檢測裝置進一步包括上料機構(gòu)、下料分揀機構(gòu)和機械手機構(gòu)；所述上料機構(gòu) 抓取所述待檢測圓軸，并將檢測完的圓軸放置到所述下料分揀機構(gòu)中；所述PLC-PC控制中心控制所述機械手機構(gòu)對圓軸的抓取，并控制所述下料分揀機構(gòu)根據(jù)測量、分類結(jié)果進行下料和分揀。進一步地，所述機械手機構(gòu)設(shè)置于所述基板上，具有豎直設(shè)立于所述基板上之兩立柱及架設(shè)于兩所述立柱上的橫梁，機械手部件設(shè)于該橫梁上，沿所述橫梁上設(shè)置的導(dǎo)軌滑移。本專利技術(shù)還提供了一種采用上述所述檢測裝置檢測圓軸的外徑、跳動值、真圓度的方法，其所述光學(xué)測量儀根據(jù)其發(fā)出光線被所述待檢測圓軸遮蔽后產(chǎn)生的陰影得到數(shù)據(jù)，以與光線垂直段圓軸邊緣點作切線，得到陰影間距山以圓軸邊緣與光線各個切點與光線邊緣間距測得間距LI或者L2 ;當(dāng)所述待檢測圓軸旋轉(zhuǎn)至少一周后，所述光學(xué)測量儀得到數(shù)據(jù)(dl，d2，...，dn)、(Lll，...，Lln)或者(L21，…，L2n)，所述PC-PLC控制中心將所述數(shù)據(jù)記錄并進行計算通過對(dl，d2,…，dn)平均值計算所述待檢測圓軸的外徑值；通過計算(L11,…，Lln)或者(L21，…，L2n)中最大值與最小值之差，得出所述待檢測圓軸的一個軸跳動值，通過計算若干軸跳動值，得出所述待檢測圓軸的平均跳動值；通過計算(dl，d2,…,dn)中最大值與最小值之差，得出所述待檢測圓軸的一個真圓度值，通過計算若干真圓度值，得出所述待檢測圓軸的平均真圓度。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本專利技術(shù)的檢測裝置通過PC-PLC控制中心控制光學(xué)測量部、頂尖部相對基部的運動，并且通過調(diào)節(jié)光學(xué)測量儀導(dǎo)軌與基板導(dǎo)軌之間的相對運動以及光學(xué)測量儀與光學(xué)測量儀導(dǎo)軌之間的相對運動，可將光學(xué)測量儀快速準(zhǔn)確滴調(diào)到合適的測量位置，同時，第一頂尖結(jié)構(gòu)和第二頂尖結(jié)構(gòu)在第一方向上可滑動地設(shè)置在頂尖導(dǎo)軌上可快速、方便地加緊或松開待檢測圓軸，因此，本專利技術(shù)的檢測裝置可快速準(zhǔn)確自動檢測軸外徑、跳動值、真圓度的檢測裝置。上述說明僅是本專利技術(shù)技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本專利技術(shù)的技術(shù)手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實施，并且為了讓本專利技術(shù)的上述和其他目的、特征和優(yōu)點能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，并配合附圖，詳細說明如下。附圖說明圖I為本專利技術(shù)一實施例中檢測裝置的示意圖。圖2為圖I中檢測裝置的主視圖。圖3為圖I中檢測裝置的俯視圖。圖4為圖I中頂尖部的放大示意圖。圖5為圖4中頂尖部的另一角度的示意圖。圖6為本專利技術(shù)另一實施例中頂尖部的示意圖。圖7為本專利技術(shù)一實施例中頂尖部與圓臺形限位塊配合的示意圖。圖8為本專利技術(shù)一實施例中頂尖部與圓錐形限位塊配合示意圖。圖9為本專利技術(shù)另一實施例中檢測裝置的示意圖。圖10為圖9中檢測裝置的另一角度的示意圖。圖11本專利技術(shù)測量圓軸外徑、跳動值和真圓度原理示意圖。具體實施例方式為了使本專利技術(shù)所要解決的技術(shù)問題、技術(shù)方案及有益效果更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實施例，對本專利技術(shù)進行進一步詳細說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本專利技術(shù)，并不用于限定本專利技術(shù)。圖I所示為本專利技術(shù)一實施例中檢測裝置100的示意圖。如圖I中所示，檢測裝置100包括基部110、光學(xué)測量部120、頂尖部130和PC-PLC控制中心(未圖示)。其中，光學(xué)測量部120和頂尖部130均設(shè)置在基部110上并可相對基部110運動。具體地，基部110可用于安裝光學(xué)測量部120和頂尖部130。基部110包括基板112和設(shè)于基板112上的第一導(dǎo)軌或基板導(dǎo)軌113。基板112具有橫向(圖示為第一方向Dl)和縱向(圖示為第二方向D2)。在圖I所示的實施例中，基板112呈矩形，第一方向Dl為基板112的長度方向，第二方向D2為基板112的寬度方向。兩條基板導(dǎo)軌113相互平行且間隔的設(shè)于基板112上。在圖I所示的實施例中，兩條基板導(dǎo)軌113本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護點】
一種檢測裝置，其特征在于，其包括基部、光學(xué)測量部、頂尖部和PC？PLC控制中心；所述光學(xué)測量部和所述頂尖部滑動地安裝在所述基部上；所述PC？PLC控制中心控制所述光學(xué)測量部、所述頂尖部相對所述基部的運動；所述基部包括基板和設(shè)于所述基板上的兩條基板導(dǎo)軌；所述兩條基板導(dǎo)軌分別沿其橫向延伸，并在縱向上相間設(shè)置；所述光學(xué)測量部包括光學(xué)測量儀導(dǎo)軌和設(shè)于所述光學(xué)測量儀導(dǎo)軌上的光學(xué)測量儀；所述光學(xué)測量儀用于對待檢測圓軸進行測量，并將測量數(shù)據(jù)反饋給所述PC？PLC控制中心，所述PC？PLC控制中心根據(jù)所述測量數(shù)據(jù)計算出所述待檢測圓軸的檢測數(shù)據(jù)；所述光學(xué)測量儀導(dǎo)軌橫向滑動設(shè)置在所述基板導(dǎo)軌上；所述光學(xué)測量儀滑動地設(shè)置在所述光學(xué)測量儀導(dǎo)軌上；所述頂尖部包括頂尖導(dǎo)軌、第一頂尖結(jié)構(gòu)和第二頂尖結(jié)構(gòu)；所述頂尖導(dǎo)軌沿橫向其橫向延伸設(shè)置在所述基板上，并在縱向上與所述兩個基板導(dǎo)軌間隔設(shè)置；所述第一頂尖結(jié)構(gòu)沿橫向其橫向可滑動地設(shè)置在所述頂尖導(dǎo)軌的一端；所述第二頂尖結(jié)構(gòu)沿其橫向橫向可滑動地設(shè)置在所述頂尖導(dǎo)軌的另一端。
【技術(shù)特征摘要】
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：鄭青煥，
申請(專利權(quán))人：深圳深藍精機有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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