本發(fā)明專利技術(shù)涉及氣密截斷流動路徑的閥門。閥體(1)設(shè)有具有幾何開口軸線(4)的第一開口(3)和閥座(5)。閥盤(8)具有外盤部(9)和可相對于外盤部(9)直線運動的內(nèi)盤部(11)，從而在關(guān)閉位置(C)，閥盤(8)上的壓差作用于活動的內(nèi)盤部(11)并且內(nèi)盤部(11)支承到閥體(1)上。根據(jù)本發(fā)明專利技術(shù)，閥座(5)具有徑向朝內(nèi)的第一內(nèi)表面(14)，外盤部(9)具有徑向朝外的第一外表面(15)，它們?nèi)绱藰?gòu)成和設(shè)置，在關(guān)閉位置(C)存在與第一內(nèi)表面(14)的徑向密封接觸。外盤部具有徑向朝內(nèi)的第二內(nèi)表面(16)，內(nèi)盤部具有徑向朝外的第二外表面(17)，它們?nèi)绱嗽O(shè)置和構(gòu)成，存在與第二內(nèi)表面的徑向密封接觸。
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及根據(jù)權(quán)利要求I的前序部分的、用于基本上氣密截斷流動路徑的閥門。這種尤其呈擺閥或滑閥形式的閥門尤其被用在真空
技術(shù)介紹
根據(jù)權(quán)利要求I的前序部分的閥門由US 2007/0138424(蓋斯納)所公開，它被視為最接近現(xiàn)有技術(shù)。從現(xiàn)有技術(shù)中知道了上述類型閥門的不同實施方式并且所述閥門尤其應(yīng)用在IC加工、半導(dǎo)體加工或者基片加工領(lǐng)域的真空系統(tǒng)中，這樣的加工必然發(fā)生在保護性氣氛中且盡量不含污染性顆粒。這樣的真空系統(tǒng)尤其包括至少一個設(shè)置用來容納待加工的或待制造的半導(dǎo)體元件或基片的、可被抽真空的真空室，該真空室有至少一個真空室開口，半導(dǎo)體元件或其它基片可以通過該真空室開口進出真空室，該真空系統(tǒng)還包括用于抽空真空室的至少一個真空泵。例如在用于半導(dǎo)體晶片或液晶基片的加工設(shè)備中，非常敏感的半導(dǎo)體元件或液晶元件先后經(jīng)過多個處理真空室，在這些處理真空室內(nèi)，位于處理真空室內(nèi)的元件分別借助一個處理裝置被加工處理。不僅在處理真空室內(nèi)的加工處理過程中，而且在室與室之間的輸送過程中，非常敏感的半導(dǎo)體元件或基片必須始終處于保護性氣氛中，尤其是排空空氣的環(huán)境中。對此，一方面采用了外圍閥門用于啟閉氣體送入或排出，另一方面采用了傳送閥門用于啟閉真空室的傳送開口以便送入和送出元件。半導(dǎo)體元件所穿過的真空閥門因為所述的應(yīng)用領(lǐng)域和與之相關(guān)的尺寸設(shè)定的緣故被稱為真空傳送閥門，因為其矩形的開口橫截面緣故也被稱為矩形閥門，并且因為其常見的工作方式也被稱為滑閥、矩形滑閥或者傳送滑閥。外圍閥門尤其被用于控制或調(diào)整在真空室和真空泵或其它真空室之間的氣體流動。外圍閥門例如位于處理真空室或傳送室和真空泵、大氣或其它處理真空室之間的管道系統(tǒng)內(nèi)。這種也稱為泵閥的閥門的開口橫截面一般小于真空傳送閥門的開口橫截面。因為外圍閥門取決于應(yīng)用領(lǐng)域地不僅被用于完全開啟和關(guān)閉開口，也被用于通過在全開位置和氣密關(guān)閉位置之間連續(xù)調(diào)整開口橫截面來控制或調(diào)整流經(jīng)狀況，所以它們也被稱為控制閥。用于控制或調(diào)整氣體流動的可能的外圍閥門是擺閥。在典型的、例如像由US 6，089，537 (奧姆斯特德)所述的擺閥中，在第一步驟中，一般為圓形的閥盤通過一般也為圓形的開口從一個露出該開口的位置回轉(zhuǎn)進入一個覆蓋該開口的中間位置。在例如像US 6，416，037 (蓋斯納)或US 6，056，266 (布萊察)所述的滑閥的情況下，閥盤以及該開口大多呈矩形并且在第一步驟中被從一個露出該開口的位置被直線推移到一個覆蓋該開口的中間位置。在中間位置上，擺閥或滑閥的閥盤與圍繞該開口的閥座間隔對置。在第二步驟中，閥盤和閥座之間的距離將被縮短，從而閥盤和閥座被均勻壓合且該開口被基本上氣密關(guān)閉。第二運動優(yōu)選基本上在垂直于閥座的方向上進行。密封例如可以通過設(shè)于閥盤封閉側(cè)的且被壓到環(huán)繞該開口的閥座上的密封圈來完成，或是通過在閥座上的、閥盤封閉側(cè)被壓到其上的密封圈來完成。通過在第二步驟中完成的關(guān)閉過程，密封圈在閥盤和閥座之間幾乎沒有遇到會損毀密封圈的剪切力，這是因為在第二步驟中的閥盤運動基本上以直線形式垂直于閥座進行。從現(xiàn)有技術(shù)中，例如從用于擺閥的US 6，089，537 (奧姆斯特德)和用于滑閥的US6，416，037(蓋斯納)中，知道了不同的驅(qū)動系統(tǒng)，用于實現(xiàn)在擺閥時的閥盤平行回轉(zhuǎn)運動經(jīng)過開口和在滑閥時的閥盤平行平移運動經(jīng)過開口和垂直于開口的基本上平移運動的組合運動。將閥盤壓緊到閥座上須如此實現(xiàn)，不僅在整個壓力范圍內(nèi)確保所要求的氣密性，而且要避免密封機構(gòu)且尤其呈O型圈形式的密封圈因承受過高壓力載荷而受損。為保證做到這一點，已知的閥門規(guī)定了根據(jù)在兩個閥盤側(cè)之間存在的壓差來調(diào)整的閥盤壓緊力控制。不過，特別是在壓力波動大或者從負(fù)壓變?yōu)檎龎夯驈恼龎鹤優(yōu)樨?fù)壓時，無法總是保證沿密封圈的整個周邊有均勻的力分布。一般力求使密封圈與因施加于閥門上的壓力而產(chǎn)生的支承力無關(guān)聯(lián)。在US 6，629，682 (杜爾立)中，為此提出一種包括密封機構(gòu)的真空閥門，該密封機構(gòu)由密封圈和與之并列的支承圈組成，從而密封圈基本上不受支承力。為了或許不僅針對正壓也針對負(fù)壓獲得所需要的氣密性，作為第二運動步驟的補充或者替代，許多已知的擺閥或滑閥規(guī)定了可垂直于閥盤運動的且圍繞該開口的閥門圈，該閥門圈被壓到閥盤上以便氣密關(guān)閉閥門。這樣的具有可相對于閥盤主動移動的閥門圈的 閥門例如由 DE I 264 191B1、DE 34 47 008C2、US3, 145，969 (馮·茨維克)和 DE 77 31993U公開。在US 5，577，707 (布里達)中描述了一種擺閥，它具有帶有開口的閥體和可平行轉(zhuǎn)動經(jīng)過該開口的且用于控制經(jīng)該開口的流動的閥盤。圍繞該開口的閥門圈可垂直于垂直指向閥盤地借助多個彈簧和壓縮空氣缸被主動移動。在US2005/0067603A1 (盧卡斯等人)中提出了該擺閥的一個可行的改進方案。US 6，561，483 (中川)和US 6，561，484 (中川等人)公開了真空閥門的不同實施方式，其包括分為兩個部分的閥盤。裝有軸向密封的第一盤部具有一個開口。第二盤部利用可伸展體與第一盤部連接。在第一和第二盤部之間設(shè)有操作機構(gòu)，從而可以使這兩個盤部主動靠攏和相互分開地移動。可伸展體呈褶囊形式。第一盤部可借助操作機構(gòu)被緊壓到閥座上，從而出現(xiàn)軸向密封接觸，在這里，第二盤部尤其在存在閥座側(cè)正壓時有可能支承在對置的閥體側(cè)上。所述真空閥門的結(jié)構(gòu)尤其因為構(gòu)件眾多和需要使用褶囊來相對第二盤部密封第一盤部以及在褶囊內(nèi)需要獨立的驅(qū)動機構(gòu)而比較復(fù)雜。此外，所述的閥門不利于維修且容易受到臟東西影響。此外，軸向密封無法完全擺脫位于閥門上的壓差力，因此軸向壓緊力遇到一定波動變化，結(jié)果，軸向密封的磨損加劇，或者說尤其可能在軸向密封的壓緊力太小時出現(xiàn)失密性。這種具有可主動調(diào)節(jié)的閥門圈的閥門的其它缺點是閥門結(jié)構(gòu)相對復(fù)雜且構(gòu)造空間大，需要壓緊力的復(fù)雜控制并且在流動通道中有許多活動零件，這些活動零件使閥門的維護清理變得困難。尤其是因為擺閥和滑閥應(yīng)用在長型加工設(shè)備的處理室和真空泵之間，所以就開口與開口之間的間距而言要求盡量扁平的閥門結(jié)構(gòu)，例如用于保持小的零件或者氣體的輸送路徑和內(nèi)部的氣體總體積并且盡量緊密排布加工設(shè)備的這些獨立組成部分，因而允許得到緊湊的加工設(shè)備結(jié)構(gòu)。特別是，具有可主動調(diào)節(jié)的閥門圈或閥盤部的閥門不足以滿足針對許多應(yīng)用的要求。從US2007/0138424(蓋斯納)和US2007/0138425(蓋斯納)中公開一種閥門，尤其是擺閥或滑閥，用于基本上氣密截斷流動路徑。該閥門包括具有第一壁的閥體，第一壁具有第一開口和第一閥座，閥門還包括具有帶密封圈的封閉側(cè)的閥盤和至少一個驅(qū)動機構(gòu)。借助驅(qū)動機構(gòu)，閥盤可從打開位置基本上平行于第一閥座地轉(zhuǎn)動或者移動，在閥盤和第一閥座之間的垂直距離可如此縮短，即,通過密封圈和第一閥座之間的軸向密封接觸,流動路徑在關(guān)閉位置上被基本上氣密地截斷。閥盤包括外盤部，在其背面設(shè)有一個星形斜撐，其使該外盤部在中心的、靠近第一開口的中心軸線的區(qū)域內(nèi)與一臂相連，該臂與驅(qū)動機構(gòu)連接。閥盤在垂直于第一閥座的方向上固定該密封圈。而且，閥盤具有帶有外周面的內(nèi)盤部。內(nèi)盤部可相對于外盤部在基本上垂直于第一閥座的方向上運動地支承。外周面被密封圈基本氣密地內(nèi)密本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護點】
一種用于基本上氣密截斷流動路徑(F)的閥門，該閥門具有：·閥體(1)，該閥體具有第一壁(2)，該第一壁在該閥體(1)的第一側(cè)(20)具有用于流動路徑(F)的第一開口(3)和圍繞第一開口(3)的閥座(5)，所述第一開口具有幾何形狀的開口軸線(4)；·閥盤(8)，其具有：？尤其為環(huán)形或框形的外盤部(9)，和？封閉的內(nèi)盤部(11)，該內(nèi)盤部是按照在平行于該開口軸線(4)的方向上能夠相對于該外盤部(9)在移入位置(A)和移出位置(B)之間直線運動的方式密封地支承在該外盤部(9)內(nèi)的，·至少一個驅(qū)動機構(gòu)(12)，該驅(qū)動機構(gòu)與該外盤部(9)連接并且如此構(gòu)成：使得該閥盤(8)能夠借助基本上橫向于該開口軸線(4)進行的橫向運動(x)在打開位置(O)和中間位置(I)之間轉(zhuǎn)動或移動，其中，在所述打開位置，該閥盤(8)定位在設(shè)于第一開口(3)側(cè)旁的停留部(13)中并且開放第一開口(3)和流動路徑(F)，在所述中間位置，該閥盤(8)定位在第一開口(3)上方并且遮蓋第一開口(3)的開口橫截面；并且使得該閥盤(8)能夠借助平行于該開口軸線(4)進行的縱向運動(y)在所述中間位置(I)和關(guān)閉位置(C)之間移動，其中，在所述關(guān)閉位置，在所述外盤部(9)和所述閥座(5)之間存在氣密關(guān)閉所述第一開口(3)且截斷該流動路徑(F)的氣密接觸，其中在該關(guān)閉位置(C)，該閥盤(8)上的壓差基本上作用于活動的內(nèi)盤部(11)上，并且該內(nèi)盤部(11)在平行于該開口軸線(4)的方向上基本上與該外盤部(9)無關(guān)聯(lián)地直接或間接支承到該閥體(1)上，其特征在于，·該閥座(5)具有第一內(nèi)表面(14)，所述第一內(nèi)表面(14)徑向朝內(nèi)且平行于該開口軸線(4)延伸，·該外盤部(9)具有第一外表面(15)，所述第一外表面(15)徑向朝外且平行于該開口軸線(4)延伸，所述第一外表面如此設(shè)置和構(gòu)成，即，在該關(guān)閉位置(C)，通過位于其間的第一密封件(10)存在與所述第一內(nèi)表面(14)的徑向密封接觸，·該外盤部(9)具有第二內(nèi)表面(16)，所述第二內(nèi)表面(16)徑向朝內(nèi)且平行于該開口軸線(4)延伸，·該內(nèi)盤部(11)具有第二外表面(17)，所述第二外表面(17)徑向朝外且平行于該開口軸線(4)延伸，所述第二外表面如此設(shè)置和構(gòu)成，即，通過位于其間的第二密封件(18)，在移入位置(A)和移出位置(B)之間的區(qū)域內(nèi)存在與該第二內(nèi)表面(16)的徑向密封接觸。...
【技術(shù)特征摘要】
...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：M·蘭普雷克特，W·維斯，
申請(專利權(quán))人：VAT控股公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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