掩膜板、制造有機發光顯示面板的蒸鍍裝置及其方法制造方法及圖紙

本發明專利技術提供了一種掩膜板、制造有機發光顯示面板的蒸鍍裝置及其方法。該掩膜板包括呈陣列狀分布的多個開口區，其中，每一開口區包括呈矩形設置的第一開口區以及設置于第一開口區的四個角的第二開口區，第二開口區與第一開口區連通。本發明專利技術通過改變掩膜板的開口區設計，能夠降低開口區的成膜無效區的面積，從而提高有機發光顯示面板的開口率。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及顯示
，具體而言涉及一種。
技術介紹
有機發光顯示面板(Organic Light-Emitting Diode, 0LED)是一種自主發光的顯示面板，其具備結構簡單、省電等特性。目前，制備有機發光顯示面板的過程中，掩膜板(Shadow Mask)是其中不可缺少的 一個輔助元件，圖I是現有技術中掩膜板的結構示意圖，圖2是圖I所示掩膜板的開口區的示意圖。參閱圖I和圖2，掩膜板100包括呈陣列狀分布的多個開口區110，每一開口區110呈圓角矩形，且相鄰的兩個圓角R之間的區域為成膜不保證區120。在使用掩膜板100蒸鍍形成有機發光顯示面板的有機發光層時，由于蒸鍍源與不同位置的開口區110具有的角度差異，極易使得蒸鍍源提供的有機發光材料在對應成膜不保證區120處的成膜填充率不足，從而導致有機發光顯示面板的有機發光層的每一發光區在對應成膜不保證區120處形成高度Hl為15微米以上的成膜無效區，進而降低有機發光顯示面板的開口率。綜上所述，有必要提供一種，以解決上述問題。
技術實現思路
本專利技術主要解決的技術問題是提供一種，以降低成膜無效區的面積，提高有機發光顯示面板的開口率。為解決上述技術問題，本專利技術采用的一個技術方案是提供一種掩膜板，包括呈陣列狀分布的多個開口區，每一開口區包括呈矩形設置的第一開口區以及設置于第一開口區的四個角的第二開口區，第二開口區與第一開口區連通。其中，第二開口區是與第一開口區連通的側翼，側翼設置的寬度沿著遠離第一開口區的方向逐漸減小。其中，第二開口區采用蝕刻或電鑄工藝成型，且與第一開口區一體成型。為解決上述技術問題，本專利技術采用的另一個技術方案是提供一種制造有機發光顯示面板的蒸鍍裝置，包括掩膜板，包括呈陣列狀分布的多個開口區，且每一開口區包括呈矩形設置的第一開口區以及設置于第一開口區的四個角的第二開口區，第二開口區與第一開口區連通；蒸鍍源，間隔設置于掩膜板遠離基板的一側，用于為基板提供有機發光材料，以形成有機發光層；以及加熱裝置，用于加熱蒸鍍源。其中，蒸鍍裝置設置于真空且密閉的空間內。其中，第二開口區是與第一開口區連通的側翼，側翼設置的寬度沿著遠離第一開口區的方向逐漸減小。其中，第二開口區采用蝕刻或電鑄工藝成型，且與第一開口區一體成型。為解決上述技術問題，本專利技術采用的又一個技術方案是提供一種制造有機發光顯示面板的蒸鍍方法，包括提供一掩膜板，掩膜板包括呈陣列分布的多個開口區，且每一開口區包括呈矩形設置的第一開口區以及設置于第一開口區的四個角的第二開口區，第二開口區與第一開口區連通；提供一基板，與掩膜板相鄰貼合設置；在真空且密閉的空間內，通過掩膜板的開口區向基板提供有機發光材料形成有機發光層，有機發光材料由設置于掩膜板遠離基板一側的蒸鍍源提供。其中，第二開口區采用蝕刻或電鑄工藝成型。其中，第二開口區與第一開口區一體成型。本專利技術的有益效果是區別于現有技術，本專利技術通過在掩膜板的矩形第一開口區的側翼設置第二開口區，將成膜不保證區的圓角對成膜填充率的影響轉移到第二開口區， 提高了第一開口區在蒸鍍成膜時的成膜填充率，從而降低了成膜無效區的面積，進而提高了有機發光顯示面板的開口率。附圖說明圖I是現有技術中掩膜板的結構示意圖；圖2是圖I所示掩膜板的開口區的示意圖；圖3是本專利技術掩膜板的結構示意圖；圖4是圖3所示掩膜板的開口區的示意圖；圖5是本專利技術制造有機發光顯示面板的蒸鍍裝置的結構示意圖；圖6是本專利技術制造有機發光顯示面板的蒸鍍方法的流程圖；圖7是本專利技術制造有機發光顯示面板的蒸鍍方法的實施效果示意圖。具體實施例方式下面結合附圖和實施例對本專利技術進行詳細說明。圖3是本專利技術掩膜板的結構示意圖，圖4是圖3所示掩膜板的開口區的示意圖。參閱圖3和圖4，掩膜板300包括呈陣列狀分布的多個開口區310。其中，每一開口區310包括第一開口區311和第二開口區312。第一開口區311呈矩形設置，第二開口區312設置于第一開口區311的四個角，即第二開口區312構成與第一開口區311連通的側翼，并且每一第二開口區312設置的寬度沿著遠離第一開口區311的方向逐漸減小。在本實施例中，第二開口區312與第一開口區311 —體成型，且采用蝕刻或電鑄工藝成型?；诖耍谀ぐ?00的材質可以為任何合適的材料，并以具有高結構強度或低膨脹系數的磁性材料為佳，舉例而言，掩膜板300的材質可以為各式金屬或合金，例如為鐵鎳合金(Invar)ο圖5是采用圖3所示掩膜板300的蒸鍍裝置的結構示意圖。如圖5所示，蒸鍍裝置600包括掩膜板300、蒸鍍源620以及加熱裝置630。蒸鍍裝置600用于對放置于掩膜板300上的基板640進行蒸鍍處理,其中，加熱裝置630用于加熱蒸鍍源620，蒸鍍源620與掩膜板300平行間隔設置，用于在達到一定溫度后為基板640提供有機發光材料，以在基板640上形成有機發光顯不面板的有機發光層。需要說明的是，蒸鍍裝置600在蒸鍍成膜時，必須設置于真空密閉的空間內。圖6是采用圖5所示蒸鍍裝置600制造有機發光顯示面板的蒸鍍方法的流程圖。如圖6所示，本專利技術制造有機發光顯示面板的蒸鍍方法包括以下步驟步驟S 101 :提供一掩膜板，掩膜板包括呈陣列分布的多個開口區，且每一開口區包括呈矩形設置的第一開口區以及設置于第一開口區的四個角的第二開口區，第二開口區與第一開口區連通。步驟S102 :提供一基板，與掩膜板相鄰設置。步驟S103 :在真空且密閉的空間內，通過掩膜板的開口區向基板提供有機發光材料以形成有機發光層，其中，有機發光材料由設置于掩膜板遠離基板一側的蒸鍍源提供。 下面結合圖5和圖6，詳細說明采用圖3所示的掩膜板300制造有機發光顯示面板的蒸鍍過程首先，將蒸鍍源620設置于一真空且密閉的空間內，且相鄰于加熱裝置630。然后，開啟加熱裝置630對蒸鍍源620進行加熱，通過蒸發除去蒸鍍源620表面的雜質。值得注意的是，在加熱過程中，控制加熱除雜的溫度低于蒸鍍所需的溫度，以避免因溫度過高使蒸鍍源620過度蒸發造成浪費。將除雜之后的蒸鍍源620移至另一真空密閉的空間內，例如蒸鍍室。使用加熱裝置630在高溫狀態下對蒸鍍源620進行持續性加熱，蒸鍍源620在達到一定溫度后蒸發出有機發光材料粒子，一部分的有機發光材料粒子穿過掩膜板300的開口區310，并在接觸到溫度較低的基板640后以結晶狀態沉積，另一部分的有機發光材料粒子在接觸到溫度較低的掩膜板300后以結晶狀態沉積。綜上所述，本專利技術通過改變掩膜板300的開口設計，對于每一開口區310，在矩形第一開口區311的兩側設置第二開口區312，將成膜不保證區320的兩個圓角Rl設置在第二開口區312，使得有機發光材料粒子穿過第一開口區311在基板640上沉積時，不會形成圖2所示的圓角R，由此提高了開口區310在蒸鍍成膜時的成膜填充率，降低成膜無效區的面積。圖7是本專利技術制造有機發光顯示面板的蒸鍍方法的實施效果示意圖。如圖7所示，本專利技術能夠使成膜無效區從現有技術的大于15微米降低至5 10微米(如H2所示)，進而提高了有機發光顯示面板的開口率。需要說明的是，第二開口區312的形狀并不限定于圖4所示的實施例，只要能夠降低成膜無效區的面積，提高有機發光顯示面板的開口率即可。以上所述僅為本專利技術本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括呈陣列狀分布的多個開口區，其中，每一所述開口區包括：呈矩形設置的第一開口區以及設置于所述第一開口區的四個角的第二開口區，所述第二開口區與所述第一開口區連通。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：吳泰必，吳元均，
申請(專利權)人：深圳市華星光電技術有限公司，
類型：發明
國別省市：