基板用玻璃及玻璃基板制造技術

本發明專利技術提供適合于高記錄密度化的不容易破裂的基板用玻璃。本發明專利技術的基板用玻璃，以下述氧化物基準的摩爾％表示，含有66～77％的SiO2、7～17％的Al2O3、0～7％的B2O3、0～9％的Li2O、0～8％的Na2O、0～3％的K2O、0～13％的MgO、0～6％的CaO、0～5％的TiO2、0～5％的ZrO2，SiO2、Al2O3及B2O3的含量之和SiO2+Al2O3+B2O3為81～92％，Li2O、Na2O及K2O的含量之和Li2O+Na2O+K2O為3～9％，MgO及CaO的含量之和MgO+CaO為4～13％，Na2O、K2O及CaO的含量之和Na2O+K2O+CaO為0～10％，TiO2及ZrO2的含量之和TiO2+ZrO2為0～5％。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及磁盤(硬盤)等信息記錄媒體、被用于信息記錄媒體等的玻璃基板以及用于這些基板的玻璃。
技術介紹
近年來，隨著硬盤驅動器的記錄容量的增加，快速推進高記錄密度化。但是，隨著高記錄密度化，存在磁性粒子的微細化損害熱穩定性、串擾以及再生信號的SN比降低的問題。因此，作為光和磁的融合技術，熱輔助磁記錄技術備受矚目。該技術是在通過對磁記錄層照射激光或近場光而使得局部被加熱的部分的矯頑磁力降低的狀態下施加外部磁場并記錄、通過GMR元件等讀取記錄磁化的技術，能夠記錄在高保持力的媒體，因此能夠保持熱穩定性的同時使磁性粒子微細化。但是，在將高保持力媒體制成多層膜而進行成膜的情況下，需要充分地加熱基板，要求高耐熱基板。·另外，提出了在垂直磁記錄方式中也滿足高記錄密度化要求的與以往的磁記錄層不同的磁記錄層，但是這樣的磁記錄層的形成通常需要在基板為高溫的情況下進行。因此，提出了作為能夠滿足如前所述的熱輔助磁記錄技術的基板的硅基板(參照專利文獻I)。硅基板與玻璃基板相比通常存在強度方面的問題。因此，基板為高溫的情況下形成磁記錄層的磁盤的制造方法中也優選使用玻璃基板。作為信息記錄媒體用基板、特別是磁盤用基板，廣泛使用玻璃基板，使用例如高楊氏模量的含鋰的鋁硅酸鹽玻璃或對其實施化學強化處理后的玻璃(參照專利文獻2)，或者對具有特定組成的玻璃進行熱處理而使結晶相析出的結晶化玻璃(參照專利文獻3)。現有技術文獻專利文獻專利文獻I:日本專利特開2009-199633號公報專利文獻2:日本專利特開2001-180969號公報專利文獻3:日本專利特開2000-119042號公報專利技術內容專利技術所要解決的技術問題對于化學強化處理用基板玻璃，為了高效地實施化學強化處理，將其耐熱性降低，有可能會因在將上述高保持力媒體制成多層膜而進行成膜時的加熱而發生彎曲。此外，如果對化學強化處理玻璃基板進行上述加熱，則有可能導致經離子交換處理的交換層內因該加熱而擴散，從而強度降低。此外，如果想使用結晶化玻璃基板，則有可能因結晶相和塊體的熱膨脹系數的差異而由上述加熱引起基板表面變形。如果提高記錄媒體的轉速，則記錄媒體發生撓曲、共振增大，記錄媒體的表面與磁頭發生沖突，讀取錯誤或磁頭撞毀的危險性增高。因此，在目前的記錄媒體中，不能將磁頭與記錄媒體的距離(浮上距離)減小到一定程度以下，因此成為阻礙磁記錄層的記錄密度增加的主要因素。上述記錄媒體的撓曲和共振的問題可通過使用高彈性模量的基板材料來解決。使用玻璃作為磁盤基板時，需要進行圓形加工、去芯、內外圓周面加工等大量的加工處理。這些加工處理中，在玻璃邊緣部等產生大量會成為破壞基點的損傷，在制作過程中和安裝到心軸等其他操作時形成的微小的損傷都會導致基板的破損。特別是伴隨著磁盤旋轉的高速化，該問題變得更嚴重。該問題可通過使用不容易產生裂紋的基板用玻璃來解決。本專利技術的目的在于提供可全面地對應上述要求的具有理想的高比彈性模量和高玻璃化溫度、且不容易損壞的基板用玻璃。解決技術問題所采用的技術方案本專利技術提供一種基板用玻璃(以下稱為本專利技術的玻璃)，以下述氧化物基準的摩爾％表示，含有66 77%的Si02、7 17%的A1203、0 7%的B203、0 9%的Li20、0 8% 的 Na20、0 3%的1(20、0 13% 的 Mg0、0 6% 的 Ca0、0 5% 的 Ti02、0 5% 的 ZrO2, Si02、Al2O3 及 B2O3 的含量之和 Si02+Al203+B203 為 81 92%，Li20、Na2O 及 K2O 的含量之和Li20+Na20+K20 為 3 9%，MgO 及 CaO 的含量之和 MgO+CaO 為 4 13%，Na20、K20 及 CaO 的含量之和Na20+K20+Ca0為O 10%,TiO2及ZrO2的含量之和Ti02+Zr02為O 5%。另外，例如含有O 7%的B2O3是指B2O3不是必須的，但可以含有其至7%的涵義。此外，還提供上述基板用玻璃，其中，B2O3含量與Al2O3含量的比B2O3Al2O3為O. 6以下。此外，還提供上述基板用玻璃，其中，Na20+K20+Ca0與Si02+Al203+B203的比(Na20+K20+Ca0)/(Si02+Al203+B203)為 O. 125 以下。 此外，還提供上述基板用玻璃，其中，SiO2為74%以下、Al2O3為8%以上、Li2O為低于2%、Mg0 為 11% 以下、TiO2 為 3% 以下、ZrO2 為 3% 以下、Li20+Na20+K20 為 3. 5% 以上、MgO+CaO為 5 12. 5%,Ti02+Zr02 為 3. 5% 以下、(MgO+CaO)/(Si02+Al203+B203)為 0. 15 以下。此外，還提供含有Li2O或Na2O的上述基板用玻璃。此外，還提供上述基板用玻璃，其中，B2O3為3%以下、Li2O為2%以上、Na2O為4%以下、Li20+Na20+K20 為 3. 5% 以上。此外，還提供上述基板用玻璃，其中，(MgO+CaO)/(Si02+Al203+B203)為0.04 0. 16。此外，還提供上述10種成分的含量合計為98%以上的上述基板用玻璃。此外，還提供由上述基板用玻璃形成的玻璃基板。此外，還提供用于信息記錄媒體基板的上述玻璃基板。此外，還提供信息記錄媒體基板為磁盤基板的上述玻璃基板。此外，還提供將由上述基板用玻璃形成的玻璃板化學強化而成的化學強化玻璃基板。此外，還提供用于信息記錄媒體基板的上述化學強化玻璃基板。此外，還提供信息記錄媒體基板為磁盤基板的上述化學強化玻璃基板。本專利技術提供一種磁盤，其在上述玻璃基板或者上述化學強化玻璃基板上形成有磁記錄層。專利技術的效果可獲得用于信息記錄媒體等的玻璃化溫度高的基板用玻璃。藉此，可提高在基板上形成磁性膜后所實施的熱處理溫度、獲得記錄密度高的信息記錄媒體。此外，可獲得用于信息記錄媒體等的比彈性模量高的基板用玻璃。藉此，可以獲得在驅動裝置旋轉中不易發生翹曲或撓曲、記錄密度高的信息記錄媒體。此外，可獲得用于信息記錄媒體等的不容易損傷的基板用玻璃。藉此，在制造工序及安裝到心軸等其他操作時，不易受損，且不容易發生基板破裂。此外，在安裝基板時金屬制的心軸由金屬制的構件固定，因此如果該金屬制的心軸及金屬制構件與基板的熱膨脹系數的差較大，則有可能在溫度變化時產生應力、發生基板破裂。通常玻璃的熱膨脹系數比金屬的熱膨脹系數小，因此理想的是，在基板使用玻璃時盡可能使用熱膨脹系數大的基板用玻璃，來提高與金屬制的心軸及金屬驅動裝置等其他構件的熱膨脹匹配。根據本專利技術，可獲得用于信息記錄媒體等的平均線膨脹系數大的基板用玻璃。藉此，與金屬制的驅動裝置等其他構件的熱膨脹匹配提高、溫度波動時所產生的應力變小、不 易發生基板破裂等情況。實施專利技術的最佳方式以下，以本專利技術的玻璃用于磁盤基板的情況為例進行說明，但本專利技術不限定于此。優選本專利技術的玻璃的比彈性模量E/d為32MNm/kg以上。如果E/d低于32MNm/kg，則磁盤驅動裝置旋轉中易發生翹曲或撓曲，可能很難獲得高記錄密度的信息記錄媒體。典型的是，E/d為40MNm/kg以下。另外，E為楊氏模量(單位GPa)，d為本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種基板用玻璃，以下述氧化物基準的摩爾％表示，含有66～77％的SiO2、7～17％的Al2O3、0～7％的B2O3、0～9％的Li2O、0～8％的Na2O、0～3％的K2O、0～13％的MgO、0～6％的CaO、0～5％的TiO2、0～5％的ZrO2，SiO2、Al2O3及B2O3的含量之和SiO2+Al2O3+B2O3為81～92％，Li2O、Na2O及K2O的含量之和Li2O+Na2O+K2O為3～9％，MgO及CaO的含量之和MgO+CaO為4～13％，Na2O、K2O及CaO含量之和Na2O+K2O+CaO為0～10％，TiO2及ZrO2的含量之和TiO2+ZrO2為0～5％。

【技術特征摘要】
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【專利技術屬性】
技術研發人員：遠藤淳，中島哲也，
申請(專利權)人：旭硝子株式會社，
類型：發明
國別省市：