真空連續沉浸機的真空浸漬裝置制造方法及圖紙

本發明專利技術公開了一種密封效果好的真空連續沉浸機的真空浸漬裝置，包括真空浸漬缸和兩條相互平行的循環鏈，所述循環鏈安裝于機殼內部，兩條循環鏈對應的鏈軸之間連接有懸掛軸，該真空浸漬缸位于循環鏈下方的浸漬工位，且該真空浸漬缸由升降裝置驅動升降，所述真空浸漬裝置還包括若干個缸蓋，該缸蓋通過懸掛裝置間隔均勻的懸掛于循環鏈的各懸掛軸上，所述缸蓋的下端安裝有待浸漬工件，所述真空浸漬缸的上端法蘭上安裝有與缸蓋下端面密封配合的密封裝置，所述真空浸漬缸與抽真空裝置連接，在浸漬工位處位于下段循環鏈的上方安裝有限制缸蓋上移的缸蓋定位支撐裝置。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種真空浸潰裝置，特別是指一種真空連續沉浸機的真空浸潰裝置。
技術介紹
對于電機線圈、鐵芯、變壓器等工件需要浸潰和烘干處理，這主要利用到真空連續沉浸機，而專利號為ZL99228572. O的專利公開了一種真空連續沉浸機的真空浸潰裝置，主要結構包括機殼、設置于機殼內的兩條平行的循環鏈，兩條循環鏈之間一定間距的均勻間隔的懸掛有吊籃，吊籃內可放置待浸潰工件，在機殼內，位于下段的循環鏈的下方的設一浸潰工位，該工位上安裝一浸潰槽，浸潰槽由升降裝置驅動升降，吊籃上側設有一真空蓋板，升降裝置驅動浸潰槽上升后浸潰槽的上端與真空蓋板密封配合。然這種結構中，由于真空蓋板是安裝在吊籃的豎直桿上，豎直桿需要從真空蓋板伸出安裝在鏈條上，因此，真空蓋板與豎直桿之間的密封難以控制。另外，由于鏈條是軟結構，因此，浸潰槽上升時頂住真空蓋板的力不能太大，因此，同樣影響了浸潰槽與真空蓋板之間的密封。
技術實現思路
本專利技術所要解決的技術問題是提供一種密封效果好的真空連續沉浸機的真空浸潰裝置。為解決上述技術問題，本專利技術的技術方案是一種真空連續沉浸機的真空浸潰裝置，包括真空浸潰缸和兩條相互平行的循環鏈，所述循環鏈安裝于機殼內部，兩條循環鏈對應的鏈軸之間連接有懸掛軸，該真空浸潰缸位于循環鏈下方的浸潰工位，且該真空浸潰缸由升降裝置驅動，所述真空浸潰裝置還包括若干個缸蓋，該缸蓋通過懸掛裝置間隔均勻的懸掛于循環鏈的各懸掛軸上，所述缸蓋的下端安裝有待浸潰工件，所述真空浸潰缸的上端法蘭上安裝有與缸蓋下端面密封配合的密封裝置，所述真空浸潰缸與抽真空裝置連接，在浸潰工位處位于下段循環鏈的上方安裝有限制缸蓋上移的缸蓋定位支撐裝置。作為一種優選的方案，所述缸蓋定位支撐裝置包括固定于機殼上的支撐梁，該支撐梁可與懸掛裝置配合定位支撐。作為一種優選的方案，所述懸掛裝置包括沿懸掛軸軸向設置的若干個掛鉤，該掛鉤的下端與缸蓋固定連接，所述支撐梁上設有分別與各掛鉤上端部一一對應配合的定位支撐塊。作為一種優選的方案，所述缸蓋定位支撐裝置包括固定于機殼上的支撐梁，對應的，所述缸蓋的上端設有與支撐梁頂緊限位的頂塊。作為一種優選的方案，所述升降裝置為液壓升降平臺。作為一種優選的方案，所述密封裝置包括設置于真空浸潰缸的上端法蘭上的密封墊，該密封墊與缸蓋的下端面配合密封。作為一種優選的方案，所述待浸潰工件通過掛鉤或者懸掛吊籃安裝于缸蓋上。采用了上述技術方案后，本專利技術的效果是由于所述真空浸潰裝置還包括若干個缸蓋，該缸蓋通過懸掛裝置間隔均勻的懸掛于循環鏈的各懸掛軸上，所述缸蓋的下端安裝有待浸潰工件，所述真空浸潰缸的上端法蘭上安裝有與缸蓋下端面密封配合的密封裝置，所述真空浸潰缸與抽真空裝置連接，在浸潰工位處位于下段循環鏈的上方安裝有限制缸蓋上移的缸蓋定位支撐裝置，因此，利用缸蓋直接懸掛在懸掛軸上，升降裝置驅動真空浸潰缸上升，當真空浸潰缸的上端法蘭頂著缸蓋時則帶動缸蓋以及懸掛裝置一起繼續上升，最終由缸蓋定位支撐裝置定位，這時，真空浸潰缸和缸蓋之間在升降裝置和缸蓋定位支撐裝置之間壓緊密封，其壓緊力可比較大，并且只需考慮缸蓋和真空浸潰缸上端法蘭之間的密封，而無其他須密封的密封部位，因此，密封效果好，從而使真空連續沉浸機的真空浸潰裝置工作的可靠性高。附圖說明下面結合附圖和實施例對本專利技術進一步說明。圖I是本專利技術實施例的正面局部結構示意圖； 圖2是本專利技術實施例的未沉浸狀態的側面結構示意圖；圖3是本專利技術實施例的沉浸狀態時的側面結構示意圖；附圖中1.機殼；2.升降裝置；21.支撐桿；22.升降板；23.升降油缸；3.真空浸潰；4.缸蓋；5.掛鉤；6.支撐梁；7.定位支撐塊；8.循環鏈；9.吊籃；10.待浸潰工件；11.密封裝置；12.懸掛軸。具體實施例方式下面通過具體實施例對本專利技術作進一步的詳細描述。如圖I至圖3所示，一種真空連續沉浸機的真空浸潰裝置，包括真空浸潰缸3和兩條相互平行的循環鏈8，所述循環鏈8安裝于機殼I內部，由電機帶動在機殼I內循環運動，兩條循環鏈8對應的鏈軸之間連接有懸掛軸12，也就是說，懸掛軸12的兩端可以作為鏈軸，也可以懸掛軸12與鏈軸分體，本實施例中懸掛軸12是作為循環鏈8的鏈軸，該真空浸潰缸3位于循環鏈8下方的浸潰工位，且該真空浸潰缸3由升降裝置2驅動，其中，所述升降裝置2為液壓升降平臺。該液壓升降平臺包括底板、升降板22、升降架和升降油缸23，該底板和升降板22之間鉸接有兩組升降架，每組升降架包括兩根中部鉸接的支撐桿21，該支撐桿21的兩端分別鉸接在底板和升降板22上，升降油缸23的一端鉸接在底板上，另一端鉸接在支撐桿21上。升降油缸23的活塞桿動作時驅動支撐桿21繞中部鉸接點轉動，從而帶動升降板22上升或下降。當然，該升降裝置2還可以是其他結構，如升降鏈條在減速器的驅動下可帶動升降板22升降。所述真空浸潰裝置還包括若干個缸蓋4，該缸蓋4通過懸掛裝置按照固定間距間隔均勻的懸掛于循環鏈8的各懸掛軸12上，所述缸蓋4的下端安裝有待浸潰工件10，所述真空浸潰缸3的上端法蘭上安裝有與缸蓋4下端面密封配合的密封裝置11，所述真空浸潰缸3與抽真空裝置連接，在浸潰工位處位于下段循環鏈8的上方安裝有限制缸蓋4上移的缸蓋定位支撐裝置。所述缸蓋定位支撐裝置包括固定于機殼I上的支撐梁6，該支撐梁6可與懸掛裝置配合。所述懸掛裝置包括沿懸掛軸12軸向設置的若干個掛鉤5，該掛鉤5的下端與缸蓋4固定連接，所述支撐梁6上設有分別與各掛鉤5上端部一一對應配合的定位支撐塊7，缸蓋4與掛鉤5可同步升降或下降，由于采用了定位支撐塊7，因此支撐梁6的高度相對設置較高，因此就有足夠的空間使循環鏈8等內部部件通過。當然，所述缸蓋定位支撐裝置還可以是其他結構，如包括固定于機殼I上的支撐梁6，對應的，所述缸蓋4的上端設有與支撐梁6頂緊限位的頂塊，也就是說缸蓋4上的懸掛裝置只起到懸掛的作用，而由缸蓋4上端的頂塊與支撐梁配合頂緊支撐定位。所述密封裝置11包括設置于真空浸潰缸3的上端法蘭上的密封墊，該密封墊與缸蓋4的下端面配合密封。其中，根據待浸潰工件10的本身的結構和形狀，所述待浸潰工件10通過掛鉤5或者懸掛吊籃9安裝于缸蓋4上。也就是說待浸潰工件10如果本身無法設置掛過，那么可以在缸蓋4的下端安裝吊籃9，待浸潰工件10可安放在吊籃9內，如果待浸潰工件10可安裝掛鉤5，那么則通過掛鉤5直接懸掛在缸蓋4的下端。另外抽真空裝置是固定在真空浸潰缸3的外側，真空浸潰缸3的上端法蘭上設有一排抽真空孔，由于抽真空孔的位置在上端法蘭上，因此，其位置高于真空浸潰缸3內的液體高度，從而避免抽真空時抽入液體。本專利技術的工作原理是首先，循環鏈8在電機的帶動下間歇性的循環，當待浸潰工件10移動到浸潰工位后，循環鏈8停止動作，此時，升降油缸23驅動升降架動作，使真空浸潰缸3上升，在上升過程中，真空浸潰缸3上端法蘭的密封墊與缸蓋4的下端面頂觸，并帶動缸蓋4和掛鉤5上升，直至掛鉤5上端部頂在支撐梁6的定位支撐塊7上，此時，真空浸潰缸3無法再上升，真空浸潰缸3和缸蓋4在定位支撐塊7和升降油缸23的作用下壓緊密封，其密封效果非常好，壓緊力可以比較大，并且無需考慮其他密封點，使整個真空浸潰裝置工作可靠，抽真空效果好。權利要求1.真空連續沉浸機的真空浸潰本文檔來自技高網...

【技術保護點】
真空連續沉浸機的真空浸漬裝置，包括真空浸漬缸和兩條相互平行的循環鏈，所述循環鏈安裝于機殼內部，其特征在于：兩條循環鏈對應的鏈軸之間連接有懸掛軸，該真空浸漬缸位于循環鏈下方的浸漬工位，且該真空浸漬缸由升降裝置驅動升降，所述真空浸漬裝置還包括若干個缸蓋，該缸蓋通過懸掛裝置間隔均勻的懸掛于循環鏈的各懸掛軸上，所述缸蓋的下端安裝有待浸漬工件，所述真空浸漬缸的上端法蘭上安裝有與缸蓋下端面密封配合的密封裝置，所述真空浸漬缸與抽真空裝置連接，在浸漬工位處位于下段循環鏈的上方安裝有限制缸蓋上移的缸蓋定位支撐裝置。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：戴振華，
申請(專利權)人：張家港市雙成電工設備有限公司，
類型：發明
國別省市：