反射構(gòu)件制造技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)提供具備銀反射膜且具有優(yōu)異耐熱性的反射構(gòu)件。反射構(gòu)件（1）具備反射構(gòu)件主體（11）、銀反射膜（13）和第一保護(hù)膜（15）。銀反射膜（13）形成在反射構(gòu)件主體（11）上。銀反射膜（13）由銀或含銀合金構(gòu)成。第一保護(hù)膜（15）形成在銀反射膜上。第一保護(hù)膜（15）由Ti、Ta或Nb構(gòu)成。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】
本專利技術(shù)涉及反射構(gòu)件，特別涉及具有銀反射膜的反射構(gòu)件。
技術(shù)介紹
目前，使用具備由銀或含銀合金構(gòu)成的銀反射膜的反射構(gòu)件。例如，相比于由鋁構(gòu)成的反射膜等，銀反射膜具有高的光反射率。因此，通過(guò)使用銀反射膜，能夠?qū)崿F(xiàn)具有高的光反射率的反射構(gòu)件。但是，銀反射膜的耐候性、特別是高溫下的耐熱性差，有銀反射膜的光反射率隨時(shí)間下降的問(wèn)題。鑒于這樣的問(wèn)題，例如，在下述的專利文獻(xiàn)I 3等中記載了在銀反射膜之上形成保護(hù)膜。在專利文獻(xiàn)I 3中，作為保護(hù)膜，記載有SiO2膜、Ni-Cr膜、Al2O3膜、TiO2 膜等。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :日本專利第2876325號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 日本特公平7 - 3483號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3 日本特開平8 - 234004號(hào)公報(bào)
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
專利技術(shù)所要解決的課題然而，即使在銀反射膜上設(shè)置保護(hù)膜，有時(shí)也不能得到具有充分優(yōu)異耐熱性的反射構(gòu)件。本專利技術(shù)是鑒于上述情況完成的，其目的在于提供具備銀反射膜并且具有優(yōu)異耐熱性的反射構(gòu)件。用于解決課題的方法本專利技術(shù)涉及的反射構(gòu)件具備反射構(gòu)件主體、銀反射膜和第一保護(hù)膜。銀反射膜形成在反射構(gòu)件主體上。銀反射膜由銀或含銀合金構(gòu)成。第一保護(hù)膜形成在銀反射膜上。第一保護(hù)膜由Ti、Ta或Nb構(gòu)成。在本專利技術(shù)中，在銀反射膜上形成有由Ti、Ta或Nb構(gòu)成的第一保護(hù)膜。因此，即使在反射構(gòu)件置于高溫氣氛中的情況下，通過(guò)第一保護(hù)膜也能良好地將銀反射膜與空氣中的氧和硫隔開。由此，能夠有效地抑制銀反射膜與空氣中的氧和硫反應(yīng)并且有效地抑制銀反射膜的光反射率下降。因此，根據(jù)本專利技術(shù)，通過(guò)在銀反射膜上形成由Ti、Ta或Nb構(gòu)成的第一保護(hù)膜，就能夠得到具有優(yōu)異耐熱性的反射構(gòu)件。特別從得到優(yōu)異的耐熱性的觀點(diǎn)出發(fā)，第一保護(hù)膜優(yōu)選為由Ti構(gòu)成的膜。另外，作為含銀合金的具體例子，例如，可以列舉Ag-Pd合金、Ag-Pd-Cu合金等。含銀合金中的銀的含量?jī)?yōu)選為90質(zhì)量％以上。在本專利技術(shù)中，還優(yōu)選反射構(gòu)件具備在銀反射膜和第一保護(hù)膜之間所形成的由氧化物構(gòu)成的第二保護(hù)膜。通過(guò)設(shè)置由氧化物構(gòu)成的第二保護(hù)膜，能夠有效地抑制在銀反射膜和第一保護(hù)膜之間產(chǎn)生銀等的遷移，并有效地抑制銀反射膜的光反射率下降。因此，能夠?qū)崿F(xiàn)更優(yōu)異的耐熱性。另外，在本專利技術(shù)中，第二保護(hù)膜只要由氧化物構(gòu)成，就沒(méi)有特別限定，但優(yōu)選由氧化鈦、氧化鈮、氧化鋯或氧化鉭構(gòu)成。這是因?yàn)榇藭r(shí)能夠提高第二保護(hù)膜本身的耐熱性，并且能夠提高第二保護(hù)膜與銀反射膜和第一保護(hù)膜的附著力。第二保護(hù)膜優(yōu)選為不含金屬Ag或氧化銀等Ag成分的膜。這是因?yàn)樵诘诙Ｗo(hù)膜包含Ag成分時(shí)，在第二保護(hù)膜與銀反射膜和第一保護(hù)膜之間有時(shí)容易產(chǎn)生遷移。在本專利技術(shù)中，反射構(gòu)件主體沒(méi)有特別限定，但優(yōu)選具有優(yōu)異的耐熱性。具體而言，例如，反射構(gòu)件主體優(yōu)選由玻璃構(gòu)成，更優(yōu)選由硅酸鹽類玻璃或硅酸鹽類結(jié)晶化玻璃等構(gòu)成。但是，此時(shí)如果在反射構(gòu)件主體上直接形成銀反射膜，則銀反射膜的附著力就容·易變低。因此，優(yōu)選在反射構(gòu)件主體和銀反射膜之間形成基底膜。基底膜只要相對(duì)于反射構(gòu)件主體和銀反射膜的附著力優(yōu)異，就沒(méi)有特別限定。例如，基底膜優(yōu)選由氧化鈦、氧化鋁或氧化鋯構(gòu)成。另外，在本專利技術(shù)中，優(yōu)選反射構(gòu)件還具備在第一保護(hù)膜的位于第二保護(hù)膜相反側(cè)的表面上所形成的第三保護(hù)膜。相比于由氧化物構(gòu)成的保護(hù)膜，由Ti、Ta或Nb構(gòu)成的第一保護(hù)膜一般機(jī)械耐久性低。因此，通過(guò)設(shè)置第三保護(hù)膜，能夠有效地抑制第一保護(hù)膜損傷。其結(jié)果，就能夠得到更高的耐熱性。優(yōu)選第三保護(hù)膜比第一保護(hù)膜的硬度高。具體而言，第三保護(hù)膜優(yōu)選為由氧化物或氮化物構(gòu)成的膜。更具體而言，第三保護(hù)膜例如優(yōu)選由氧化鈦、氧化鈮、氧化鉭、氧化鋯、氧化硅或氮化硅構(gòu)成。專利技術(shù)的效果根據(jù)本專利技術(shù)，能夠提供具備銀反射膜且具有優(yōu)異耐熱性的反射構(gòu)件。附圖說(shuō)明圖I是實(shí)施本專利技術(shù)的I個(gè)實(shí)施方式涉及的反射構(gòu)件的簡(jiǎn)略截面圖。圖2是變形例涉及的反射構(gòu)件的簡(jiǎn)略截面圖。圖3是表示實(shí)施例I和比較例1、2中的加熱溫度和平均光反射率的關(guān)系的圖表。具體實(shí)施例方式以下，關(guān)于實(shí)施本專利技術(shù)的優(yōu)選方式，以圖I所示的反射構(gòu)件I為例進(jìn)行說(shuō)明。但是，反射構(gòu)件I僅為例示。本專利技術(shù)涉及的反射構(gòu)件不受反射構(gòu)件I任何限定。圖I是本實(shí)施方式涉及的反射構(gòu)件I的簡(jiǎn)略截面圖。本實(shí)施方式涉及的反射構(gòu)件I是由銀反射膜13將從反射構(gòu)件主體11側(cè)入射的光進(jìn)行反射的構(gòu)件。反射構(gòu)件I具備反射構(gòu)件主體11。反射構(gòu)件主體11是使太陽(yáng)光等要由反射構(gòu)件I反射的光透過(guò)的構(gòu)件。反射構(gòu)件主體11是用于確保反射構(gòu)件I的機(jī)械強(qiáng)度的構(gòu)件。反射構(gòu)件主體11只要能夠確保反射構(gòu)件I的機(jī)械強(qiáng)度，就沒(méi)有特別限定。例如，反射構(gòu)件主體11能夠由玻璃、陶瓷、樹脂等形成。其中，因?yàn)榉瓷錁?gòu)件主體11優(yōu)選熱膨脹率低且具有優(yōu)異的耐熱性，所以優(yōu)選由硅酸鹽類玻璃或硅酸鹽類結(jié)晶化玻璃等的玻璃或者陶瓷構(gòu)成。反射構(gòu)件主體11在30°C 380°C時(shí)的熱膨脹系數(shù)優(yōu)選在-5 X I O—Vk 90 X I O—Vk的范圍內(nèi)。反射構(gòu)件主體11的厚度tl只要是能夠確保反射構(gòu)件I的機(jī)械強(qiáng)度的厚度，就沒(méi)有特別限定。例如，反射構(gòu)件主體11的厚度tl能夠設(shè)為O. Imm IOmm左右。在反射構(gòu)件主體11上形成有銀反射膜13。銀反射膜13是專門負(fù)責(zé)反射構(gòu)件I的反射特性的膜。銀反射膜13由銀或含銀合金構(gòu)成。在含銀合金中，優(yōu)選含銀量為90質(zhì)量％以上。另外，作為含銀合金的具體例子，可以列舉Ag-Pd合金、Ag-Pd-Pd合金等。銀反射膜13的厚度t3，例如，優(yōu)選為IOOnm以上，更優(yōu)選為150nm以上。這是因?yàn)殂y反射膜13的厚度t3如果過(guò)小，就有銀反射膜13的光反射率變得過(guò)低的情況。然而銀反射膜13的厚度t3如果過(guò)厚，用于銀反射膜13的形成所需的成本就變高。因此，銀反射膜13的厚度t3優(yōu)選為500nm以下，更優(yōu)選為300nm以下。 在銀反射膜13和反射構(gòu)件主體11之間設(shè)置有基底膜12。該基底膜12具有提高銀反射膜13與反射構(gòu)件主體11的附著強(qiáng)度的功能。因此，使用如下那樣的材料形成基底膜12，該材料使基底膜12與銀反射膜13的附著強(qiáng)度、以及反射構(gòu)件主體11與銀反射膜13的附著強(qiáng)度分別高于銀反射膜直接形成在反射構(gòu)件主體上時(shí)的銀反射膜與反射構(gòu)件主體的附著強(qiáng)度。基底膜12的材質(zhì)能夠根據(jù)反射構(gòu)件主體11和銀反射膜13的種類等適當(dāng)選擇。例如，基底膜12優(yōu)選由氧化鈦、氧化鋁或氧化鋯構(gòu)成。基底膜12的厚度t2只要為使銀反射膜13和反射構(gòu)件主體11的附著強(qiáng)度提高那樣的厚度，就沒(méi)有特別限定。例如，基底膜12能夠設(shè)為IOnm以上、500nm以下。在銀反射膜13上形成有第一保護(hù)膜15。第一保護(hù)膜15由Ti、Ta或Nb構(gòu)成。因此，第一保護(hù)膜15對(duì)空氣中的氧和硫的透過(guò)性低。由此，通過(guò)在銀反射膜13上形成第一保護(hù)膜15，能夠良好地保護(hù)銀反射膜13遠(yuǎn)離空氣中的氧和硫，因此能夠有效地抑制銀反射膜13與空氣中的氧和硫反應(yīng)，有效地抑制銀反射膜13的光反射率下降。從而能夠得到優(yōu)異的耐熱性。從得到特別優(yōu)異的耐熱性的觀點(diǎn)出發(fā)，更優(yōu)選第一保護(hù)膜15是由Ti構(gòu)成的膜。第一保護(hù)膜15的厚度t5優(yōu)選為30nm IOOOnm,更優(yōu)選為50nm 500nm,更加優(yōu)選為IOOnm 400nm。第一保護(hù)膜15的厚度t5如果過(guò)薄,就有不能充分得到上述氧和硫的阻隔效果的情況。第一保護(hù)膜15的厚度t5如果本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

【技術(shù)特征摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：櫻井武，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：日本電氣硝子株式會(huì)社，
類型：
國(guó)別省市：