本發明專利技術提供用于形成具有耐磨損性等機械耐久性、并充分確保無色透明性、且長時間曝光導致的紫外線吸收能力劣化少的紫外線吸收膜的涂布液,以及具備使用該涂布液形成的具有耐磨損性等機械耐久性、并充分確保無色透明性、且長時間曝光導致的紫外線吸收能力劣化少的紫外線吸收膜的紫外線吸收玻璃物品。含有由選自水解性硅化合物類中的至少1種構成的氧化硅系基體原料成分、紫外線吸收劑、第一質子的pKa為1.0~5.0的酸、和水的紫外線吸收膜形成用涂布液以及使用它得到的紫外線吸收玻璃物品。
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及用于在玻璃等物品表面形成紫外線吸收膜的涂布液以及具有使用該涂布液而形成的紫外線吸收膜的紫外線吸收玻璃物品。
技術介紹
近年來,已嘗試對透明基板形成紫外線吸收膜,上述透明基板包括汽車等車輛用的窗玻璃、安裝于房屋、大樓等建筑物的建材用窗玻璃等,上述紫外線吸收膜具有吸收通過它們而射入車內、屋內的紫外線的能力,并且具有耐磨損性等機械耐久性。為了獲得上述具有高耐磨損性和紫外線吸收能力的紫外線吸收被膜,從以往開 始,進行了使用將有機系紫外線吸收劑配合于硅烷化合物而得到的涂布液在基板上形成二氧化硅系紫外線吸收膜的嘗試。例如,在專利文獻I中記載了將含有硅醇鹽和聚乙二醇等水溶性有機聚合物、還含有紫外線吸收劑、有機色素的涂布液涂布于玻璃板上,使其固化而得到由有機無機復合膜構成的紫外線吸收膜。但是,專利文獻I記載的二氧化硅系紫外線吸收膜雖然具有耐摩擦性等機械耐久性,但在要求無色透明的情況下膜中出現黃色的方面、因長時間曝光而紫外線吸收能力劣化的方面存在問題。因此,需要確保耐磨損性等機械耐久性、并充分確保無色透明性、且長時間曝光導致的紫外線吸收能力劣化少的紫外線吸收膜。現有技術文獻專利文獻專利文獻I:國際公開第2006/137454號小冊子
技術實現思路
本專利技術是為了解決上述問題而完成的,其目的在于提供用于形成具有耐磨損性等機械耐久性、并充分確保無色透明性、且長時間曝光導致的紫外線吸收能力劣化少的紫外線吸收膜的涂布液,以及具備使用該涂布液而形成的具有耐磨損性等機械耐久性、并充分確保無色透明性、且長時間曝光導致的紫外線吸收能力劣化少的紫外線吸收膜的紫外線吸收玻璃物品。本專利技術提供具有以下構成的紫外線吸收膜形成用涂布液以及紫外線吸收玻璃物品O 一種紫外線吸收膜形成用涂布液,含有氧化硅系基體原料成分、紫外線吸收齊U、第一質子的pKa為I. O 5. O的酸和水,該氧化硅系基體原料成分由選自水解性硅化合物類中的至少I種構成。根據所述的紫外線吸收膜形成用涂布液,其中,以所述酸的第一質子完全離解時質子相對于涂布液總質量的摩爾濃度為O. 005 5. O摩爾/kg的比例含有所述酸。根據或所述的紫外線吸收膜形成用涂布液,其中,所述酸是選自乙酸、乳酸、馬來酸、丙二酸和草酸中的至少I種。根據 中任一項所述的紫外線吸收膜形成用涂布液,其中,作為所述氧化硅系基體原料成分的主成分,含有可包含部分水解縮合物的4官能性水解性硅化合物,該涂布液還含有撓性賦予成分。根據 中任一項所述的紫外線吸收膜形成用涂布液,其中,作為所述氧化硅系基體原料成分的主成分,含有4官能性水解性硅化合物和3官能性水解性硅化合物,該4官能性水解性硅化合物和3官能性水解性硅化合物可包含各自的部分水解縮合物和/或兩者的部分水解共縮合物。根據 中任一項所述的紫外線吸收膜形成用涂布液,其中,所述紫外線吸收劑為二苯甲酮系紫外線吸收劑。根據所述的紫外線吸收膜形成用涂布液,其中,所述二苯甲酮系紫外線吸 收劑是含羥基的二苯甲酮系化合物與含環氧基的水解性硅化合物反應而得到的水解性硅化合物。根據 中任一項所述的紫外線吸收膜形成用涂布液,其中,相對于所述氧化硅系基體原料成分100質量份,所述紫外線吸收劑的含量為I 50質量份。根據 中任一項所述的紫外線吸收膜形成用涂布液,其中,相對于所述氧化硅系基體原料成分的SiO2換算量,所述水的含量以摩爾比計為I 20當量。根據 中任一項所述的紫外線吸收膜形成用涂布液,其中,還含有二氧化硅微粒。根據所述的紫外線吸收膜形成用涂布液,其中,相對于所述氧化硅系基體原料成分100質量份,所述二氧化娃微粒的含量為O. 5 50質量份。根據 中任一項所述的紫外線吸收膜形成用涂布液,其中,所述氧化硅系基體原料成分相對于涂布液總質量的含量,以將該成分所含的硅原子換算成SiO2時的SiO2含量計為I 20質量%。 一種紫外線吸收玻璃物品,具有玻璃基材和紫外線吸收膜,所述紫外線吸收膜是在所述玻璃基材的至少一部分表面使用 中任一項所述的紫外線吸收膜形成用涂布液而形成的。使用本專利技術的紫外線吸收膜形成用涂布液,能夠形成具有耐磨損性等機械耐久性、并且充分確保無色透明性、長時間曝光導致的紫外線吸收能力劣化少的紫外線吸收膜,具有這樣的紫外線吸收膜的本專利技術的紫外線吸收玻璃物品是無色透明的,且對于機械以及紫外線吸收能力均具有長期耐久性。具體實施例方式以下說明本專利技術的實施方式。紫外線吸收膜形成用涂布液含有氧化硅系基體原料成分、紫外線吸收劑、第一質子的PKa為I. O 5. O的酸和水,上述氧化硅系基體原料成分由選自水解性硅化合物類中的至少I種構成。<氧化硅系基體原料成分>本專利技術的紫外線吸收膜形成用涂布液所含的氧化硅系基體原料成分由選自水解性硅化合物類中的至少I種構成。在本說明書中,水解性硅化合物類是作為至少I個水解性基團與硅原子結合的硅烷化合物組以及這樣的硅烷化合物組中的I種或2種以上的部分水解(共)縮合物的總稱來使用。另外,水解性硅化合物的官能性的數是指與硅原子結合的水解性基團的數。在本專利技術的紫外線吸收膜形成用涂布液中,水解性硅化合物類在作為催化劑的上述酸和水的存在下,水解性基團水解而生成結合于硅原子的羥基(即,硅醇基),接著,硅醇基彼此脫水縮合而生成一 Si — O — Si —表不的娃氧燒鍵而聞分子量化。僅由2官能性水解性硅化合物只能生成線狀的聚硅氧烷,但由3官能性水解性硅化合物、4官能性水解性硅化合物可生成聚硅氧烷的3維的網絡,形成氧化硅系基體。另外,由2官能性水解性硅化合物與3官能性水解性硅化合物、4官能性水解性硅化合物的混合物也能形成聚硅氧烷的3維的網絡·氧化硅系基體。在本專利技術的紫外線吸收膜形成用涂布液中,作為氧化硅系基體原料成分的主成分,優選包含可含有部分水解縮合物的4官能性水解性硅化合物,此時,進一步優選含有后 述的撓性賦予成分。作為上述氧化硅系基體原料成分,另外,作為主成分,優選含有4官能性水解性硅化合物和3官能性水解性硅化合物,所述4官能性水解性硅化合物和3官能性水解性硅化合物也可以含有4官能性水解性硅化合物和3官能性水解性硅化合物的各自部分水解縮合物和/或它們的部分水解共縮合物。作為氧化硅系基體原料成分的特別優選的方式是以下方式,S卩,氧化硅系基體原料成分僅由可含有部分水解縮合物的4官能性水解性硅化合物構成,與撓性賦予成分一同配合于紫外線吸收膜形成用涂布液。或者是以下方式,即,氧化硅系基體原料成分由可以含有各自部分水解縮合物和/或它們的部分水解共縮合物的4官能性水解性硅化合物和3官能性水解性硅化合物構成,根據需要與撓性賦予成分一同配合于紫外線吸收膜形成用涂布液。作為水解性硅化合物所具有的水解性基團,具體而言,可舉出烷氧基(包括烷氧取代燒氧基等取代燒氧基)、稀基氧基、酸基、酸氧基、廂基、酸胺基、氣基、亞氣氧基、氣基氧基、烷基取代氨基、異氰酸酯基、氯原子等。其中,作為水解性基團,優選烷氧基、烯基氧基、酰氧基、亞氨氧基、氨基氧基等有機氧基,特別優選烷氧基。作為烷氧基,優選碳原子數4以下的烷氧基和碳原子數4以下的烷氧取代烷氧基(2 —甲氧基乙氧基等),特別優選甲氧基和乙氧基。上述4官能性水解性硅化合物是4個水解性基團與硅原子結合的化合物。4個水解性基團可以互相本文檔來自技高網...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...
【專利技術屬性】
技術研發人員:小平廣和,朝長浩之,
申請(專利權)人:旭硝子株式會社,
類型:
國別省市:
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