供體基板及其制造方法以及有機發光顯示裝置的制造方法制造方法及圖紙

供體基板包括：襯底基板、設置于所述襯底基板上的膨脹層、設置于所述膨脹層上的光熱轉換層、設置于所述光熱轉換層上的絕緣層以及設置于所述絕緣層上的有機轉印層。所述供體基板可以向有機發光顯示裝置有效地轉印有機轉印層。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及供體基板、供體基板的制造方法及使用供體基板的有機發光顯示裝置的制造方法。本專利技術尤其涉及包括膨脹層或者抗靜電部件的供體基板、供體基板的制造方法及使用供體基板的有機發光顯示裝置的制造方法。
技術介紹
通常，有機發光顯示(OLED)裝置的顯示基板包括設置于透明基板上的薄膜晶體管、像素電極、有機發光層、公共電極等。其中，所述有機發光層包括發射白色光、紅色光、綠色光、藍色光等的發光層，進一步還可以包括空穴注入層(HIL)、空穴傳輸層(HTL)、電子傳輸層(ETL)、電子注入層(EIL)等。通過將具有有機轉印層的供體基板貼合在所述顯示基板的像素電極上之后照射激光以轉印所述有機轉印層的激光熱轉印(Laser Induced Thermal Imaging,簡稱為LITI)工序，形成所述有機發光層。當使用所述激光熱轉印工序將所述供體基板的有機轉印層向所述顯示基板轉印時，由于所述供體基板和所述顯示基板之間的摩擦等而產生的靜電，很難準確地轉印所述有機轉印層，因此存在很難在所述顯示基板上均勻地形成所述有 機發光層的問題。從而，會降低所述有機發光層的發光特性，并且這種有機發光層的發光特性的減少將成為降低由所述有機發光顯示裝置所顯示的影像質量的原因。
技術實現思路
本專利技術的一目的在于提供通過減小靜電的產生以有效地轉印有機轉印層的供體基板。本專利技術的另一目的在于提供通過減小靜電的產生以有效地轉印有機轉印層的供體基板的制造方法。本專利技術的再一目的在于提供通過使用將靜電減小并且具有優良的轉印效率的供體基板以制造具有均勻的有機層圖案的有機發光顯示裝置的方法。本專利技術所要解決的技術問題并不限于上述的技術問題，在不脫離本專利技術的技術構思及
的范圍內可以有多種展開。為了實現上述本專利技術的一目的，根據本專利技術示例性的實施例的供體基板可以包括襯底基板、設置于所述襯底基板上的膨脹層、設置于所述膨脹層上的光熱轉換層、設置于所述光熱轉換層上的絕緣層以及設置于所述絕緣層上的有機轉印層。在示例性的實施例中，所述膨脹層可以包含熱膨脹系數在I. 5X10_5/°C以上的物質。在示例性的實施例中，所述膨脹層可以包含熱塑性樹脂。例如，所述膨脹層可以包含聚苯乙烯、聚丙烯酸甲酯、聚丙烯酸乙酯、聚丙烯酸丙酯、聚丙烯酸異丙酯、聚丙烯酸正丁酯、聚丙烯酸仲丁酯、聚丙烯酸異丁酯、聚丙烯酸叔丁酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚甲基丙烯酸正丁酯、聚甲基丙烯酸正癸酯、聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物等。在示例性的實施例中，所述襯底基板包含熱塑性樹脂，并且所述襯底基板和所述膨脹層可以形成為一體。為了實現上述本專利技術的另一目的，根據本專利技術示例性的實施例的供體基板可以包括襯底基板、設置于所述襯底基板的第一面上的光熱轉換層、設置于所述光熱轉換層上的絕緣層、設置于所述絕緣層上的有機轉印層以及設置于所述襯底基板或所述絕緣層的抗靜電部件。·在示例性的實施例中，所述抗靜電部件可以包含分散于所述襯底基板內的抗靜電劑。在示例性的實施例中，所述抗靜電劑的含量可以為以所述襯底基板的重量為基準時的O. 1%至2. 0%。在示例性的實施例中，所述抗靜電劑可以包含GMS類抗靜電物質、胺類抗靜電物質、具有磁性的金屬氧化物等。在示例性的實施例中，所述抗靜電部件可以包含分散于所述絕緣層內的抗靜電劑。在示例性的實施例中，所述抗靜電部件可以包括設置于所述襯底基板的第二面上的透明導電層。在示例性的實施例中，所述透明導電層可以包含導電性金屬氧化物或者傳導性高分子物質。例如，所述透明導電層可以包含聚苯胺、聚吡咯、聚噻吩、聚(3，4_乙烯基二氧噻吩)、銻錫氧化物(ATO)、銦錫氧化物(ITO)、銦鋅氧化物(IZO)、鈮氧化物、鋅氧化物、鎵氧化物、錫氧化物、銦氧化物等。為了實現上述本專利技術的再一目的，在根據本專利技術示例性實施例的供體基板的制造方法中形成襯底基板。在所述襯底基板上形成膨脹層。在所述膨脹層上形成光熱轉換層。在所述光熱轉換層上形成絕緣層。在所述絕緣層上形成有機轉印層。在示例性的實施例中，可以通過旋涂工序、狹縫涂布工序或者凹印涂布工序將熱塑性樹脂涂覆于所述襯底基板上而形成所述膨脹層。在示例性的實施例中，可以通過使用包含熱塑性樹脂的聚對苯二甲酸乙二酯(PET)樹脂來形成所述膨脹層。在示例性的實施例中，可以將所述襯底基板和所述膨脹層形成為一體。在示例性的實施例中，可以通過實施雙軸拉伸(biaxial drawing)工序來形成所述膨脹層。為了實現上述本專利技術的再一目的，在根據本專利技術示例性實施例的供體基板的制造方法中形成襯底基板。在所述襯底基板的第一面上形成光熱轉換層。在所述光熱轉換層上形成絕緣層。在所述絕緣層上形成有機轉印層。在所述襯底基板或所述絕緣層或者所述襯底基板的第二面上形成抗靜電部件。在示例性的實施例中，形成所述抗靜電部件的步驟可以包括將抗靜電劑分散于所述襯底基板內的步驟。在示例性的實施例中，形成所述抗靜電部件的步驟可以包括使抗靜電劑分散于所述絕緣層內的步驟。在示例性的實施例中，形成所述抗靜電部件的步驟可以包括在所述襯底基板的第二面上形成透明導電層的步驟。為了實現上述本專利技術的再一目的，在根據本專利技術示例性實施例的有機發光顯示裝置的制造方法中，在基板上形成下部電極。在下部電極上形成像素限定膜，從而限定像素區域。形成包括襯底基板、形成于所述襯底基板上的膨脹層、形成于所述膨脹層上的光熱轉換層以及形成于所述光熱轉換層上的有機轉印層的供體基板。使所述有機轉印層與所述基板的像素區域對應且將所述供體基板貼合于所述基板。向與所述像素區域對應的所述供體基板照射激光，從而在所述像素區域上由所述有機轉印層形成有機層圖案。在示例性的實施例中，所述供體基板還可以包括形成于所述光熱轉換層和所述有機轉印層之間的絕緣層。為了實現上述本專利技術的再一目的，在根據本專利技術示例性實施例的有機發光顯示裝置的制造方法中，在基板上形成下部電極。在所述下部電極上形成限定像素區域的像素限 定膜。形成供體基板，所述供體基板包括襯底基板、形成于所述襯底基板的第一面上的光熱轉換層、形成于所述光熱轉換層上的絕緣層、形成于所述絕緣層上的有機轉印層以及形成于所述襯底基板或所述絕緣層或者所述襯底基板的第二面的抗靜電部件。使所述有機轉印層與所述基板的像素區域對應，將所述供體基板貼合于所述基板。向與所述像素區域對應的所述供體基板照射激光，從而在所述像素區域上由所述有機轉印層形成有機層圖案。在示例性的實施例中，所述抗靜電部件可以包括形成于所述襯底基板的第二面上的透明導電層。在示例性的實施例中，所述抗靜電部件可以包含分散于所述絕緣層內的抗靜電劑。在示例性的實施例中，所述抗靜電部件可以包含分散于所述襯底基板內的抗靜電劑。根據本專利技術示例性的實施例，由于供體基板可以包括膨脹層，因此能夠從具有膨脹層的所述供體基板中有效地分離出有機轉印層以在顯示基板上形成有機層圖案，并且即使使用能量相對小的激光，也可以有效地形成所述有機層圖案。根據其他示例性的實施例，由于供體基板包括用作抗靜電部件的抗靜電劑、抗靜電層或者透明導電層，因此將所述供體基板的有機轉印層向所述顯示基板上轉印時可以防止在所述供體基板上產生靜電。由此，可以由所述供體基板的有機轉印層均勻地形成所述顯示裝置的有機層圖案，本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種供體基板，包括：襯底基板；膨脹層，設置于所述襯底基板上；光熱轉換層，設置于所述膨脹層上；絕緣層，設置于所述光熱轉換層上；以及有機轉印層，設置于所述絕緣層上。

【技術特征摘要】
...

【專利技術屬性】
技術研發人員：魯碩原，
申請(專利權)人：三星顯示有限公司，
類型：發明
國別省市：