磁記錄介質用玻璃基板的制造方法和磁記錄介質用玻璃基板技術

【課題】提供獲得磁記錄介質用玻璃基板的制造方法，該方法抑制主平面的研磨工序中研磨墊的孔堵塞、降低修整處理的頻率，同時使研磨速度穩定化、主平面的平滑性優異、不同批次玻璃基板間板厚的偏差小。【解決方法】所述磁記錄介質用玻璃基板的制造方法具有：賦形工序、主平面研磨工序和清洗工序，所述主平面研磨工序具有以5μm以上的研磨量研磨上述玻璃基板的兩個主平面的粗研磨工序。其特征在于，上述粗研磨工序中使用含有氣泡、在研磨面開口的上述氣泡的平均直徑為80～300μm，且具有1.1～2.5%的壓縮率的研磨墊和含有研磨粒的研磨液研磨主平面。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及磁記錄介質用玻璃基板的制造方法和磁記錄介質用玻璃基板。
技術介紹
近年,在磁記錄介質、尤其是磁盤存儲器中，正在推進快速的高記錄密度。磁盤存儲器是通過使磁頭略微露出到高速旋轉的記錄介質(磁盤)上進行掃描而實現隨機存取，為了兼具高記錄密度和高速存取，希望降低磁盤和磁頭的間隔(磁頭露出量)以及提高磁盤的轉數。目前主流的磁盤基材是在鋁(Al)上鍍了鎳磷(Ni-P)的基板，但正越來越發展為使用即使在高剛性下高速旋轉也不易變形、表面平滑性高的玻璃基板。 此外，隨著磁盤存儲器的高記錄密度，對磁記錄介質用玻璃基板的要求特性正逐年變嚴。尤其，為了實現高記錄密度，降低玻璃基板表面的異物和缺陷、提高平滑性是很重要的。通常，為了制造磁記錄介質用玻璃基板，從板狀玻璃等原材料中切出圓盤形狀的素板，在中央部形成圓形貫通孔后，對構成貫通孔內壁的內周側面的角部和構成外周的外周側面的角部進行倒角加工，接著，進行玻璃基板的內周和外周側面以及倒角部的研磨(端面研磨)。然后，磨削方向相對的I對主平面，使玻璃基板的板厚和平坦度達到要求，研磨兩個主平面后，經過清洗工序等，得到磁記錄介質用玻璃基板。這樣的磁記錄介質用玻璃基板的制造中，為了進行主平面的平滑化，目前是使用發泡聚氨酯樹脂墊片y F)和含有二氧化鈰等研磨粒的研磨液，研磨玻璃基板的主平面。作為研磨主平面的方法，有人提出如下方法使用由聚氨酯樹脂等發泡體(發泡樹月旨)構成、含有20 33重量％的研磨材料二氧化鈰或膠態二氧化硅、氧化鋯、鋯石等的研磨墊，一邊供給含有研磨粒的研磨液(漿液)，一邊使玻璃基板和上述研磨墊相對移動從而研磨(例如，參照專利文獻I)。此外，作為將粗研磨后的結晶化玻璃基板精研磨(最終研磨)的方法，有人還提出如下方法使用具有特定范圍的壓縮彈性模量、密度和硬度的高密度、高硬度研磨墊和平均粒徑為O. 8 I μ m的二氧化鈰的游離研磨粒研磨玻璃基板的主平面(例如，參照專利文獻2)。但是，這些研磨方法中，隨著研磨的持續，研磨液中含有的研磨粒進入在研磨墊的研磨面上開口的氣泡中，占滿氣泡內部，產生被稱為研磨墊的孔堵塞的現象。結果，作為被研磨物的玻璃基板在研磨墊表面打滑，不能充分進行研磨。此外，研磨液向被研磨物和研磨墊之間的供給變得不足，研磨速度下降。為了防止這樣的研磨墊的孔堵塞引起的研磨速度的下降，頻繁進行磨削研磨墊的表面(研磨面)、露出新研磨面的修整處理，由于修整處理必須中斷研磨，操作效率下降，從而發生生產率的下降。此外，由于修整處理，研磨墊的磨損加快，因此，研磨墊的使用壽命縮短等，在生產率和成本方面存在較多問題。進而，即使進行修整處理，還會再次發生研磨墊的孔堵塞，因此，無法避免研磨速度的下降，難以使研磨量隨著時間流逝也能穩定。因此，在磁記錄介質用玻璃基板的制造中，存在不同研磨批次的玻璃基板之間板厚的偏差變大的問題。本說明書中，研磨墊的“氣泡”是指構成研磨墊的發泡樹脂中形成的氣泡，“研磨批次”或“批次”是指用同一研磨裝置一次研磨加工的多片玻璃基板的集合。現有技術文獻專利文獻專利文獻I:日本專利特開2007-250166號公報專利文獻2:日本專利特開2009-123327號公報
技術實現思路
專利技術所要解決的技術問題本專利技術是為了解決上述技術問題而完成的專利技術，目的是提供獲得磁記錄介質用玻璃基板的制造方法，該方法抑制主平面的研磨工序中研磨墊的孔堵塞、降低修整處理的頻率，同時使研磨速度穩定化、主平面的平滑性優異、不同批次玻璃基板間板厚的偏差小。解決技術問題所采用的技術方案本專利技術的磁記錄介質用玻璃基板的制造方法具有將玻璃素板加工成中央部具有圓孔的圓盤形狀的玻璃基板的賦形工序、研磨上述玻璃基板的主平面的主平面研磨工序和上述玻璃基板的清洗工序，其特征在于，上述主平面研磨工序具有以5μπι以上的研磨量研磨上述玻璃基板的兩個主平面的粗研磨工序，上述粗研磨工序中，使用內部含有氣泡、在研磨面開口的上述氣泡的平均直徑為80 300 μ m、且具有I. I 2. 5%的壓縮率的研磨墊和含有研磨粒的研磨液研磨上述玻璃基板的主平面。本專利技術的磁記錄介質用玻璃基板的制造方法中，優選在上述研磨墊的研磨面開口的氣泡的面積率為該研磨面的55 90%。此外，上述研磨墊的上述氣泡的含有率優選35 70體積％。進而，優選上述研磨墊具有80 95的肖氏A硬度。此外，優選上述研磨墊具有25 60的肖氏D硬度。此外，上述研磨墊可以含有金屬氧化物粒子。此外，優選上述金屬氧化物的粒子具有與上述研磨液中含有的上述研磨粒的平均粒徑同等或以下的平均粒徑。本專利技術的磁記錄介質用玻璃基板是通過上述本專利技術的磁記錄介質用玻璃基板的制造方法制造的玻璃基板，其特征是，不同批次的玻璃基板的板厚偏差在5 μ m以下。專利技術的效果通過本專利技術的磁記錄介質用玻璃基板的制造方法，在研磨量大、研磨速度變動大的主平面的一次研磨工序(粗研磨工序)中，能夠抑制研磨墊的孔堵塞，降低修整處理的頻率，且使研磨速度隨時間流逝也能穩定。此外，由于修整處理的頻率降低，可以提高裝置的運轉率、提高生產率，同時，通過使研磨墊長壽化，可以降低成本。此外，通過研磨速度的穩定化，降低不同批次玻璃基板間的板厚偏差，可以得到板厚偏差小、具有高平滑性主平面的磁記錄介質用玻璃基板。附圖說明圖I通過本專利技術制造的磁記錄介質用玻璃基板的剖面立體圖。圖2顯示本專利技術的主平面研磨工序中使用的雙面研磨裝置的部分剖面立體如。圖3用于說明研磨后的玻璃基板的端部形狀(Duboff)的圖。圖4表示研磨后玻璃基板的端部形狀(Duboff)的測定區域的截面圖。圖5表示用光學顯微鏡拍攝本專利技術的實施例和比較例中使用的研磨墊的研磨面的圖像，(a)表示將例I的研磨墊的研磨面的光學顯微鏡圖像二值化處理得到的二值化處理圖像，(b)表示將例3的研磨墊的研磨面的光學顯微鏡圖像二值化處理得到的二值化處理圖像。具體實施方式 以下，說明實施本專利技術的方式，但本專利技術不受以下記載的實施方式的限制。首先，將通過本專利技術制造的磁記錄介質用玻璃基板的一例示于圖I。圖I所示的磁記錄介質用玻璃基板10在中央部具有圓形貫通孔即圓孔11，具有由圓孔11的內壁面即內周側面101和外周側面102、以及方向相對的上下I對主平面103構成的圓盤形狀。此外，在內周側面101和兩個主平面103的交叉部以及外周側面102和兩個主平面103的交叉部分別形成倒角部104 (內周面倒角部和外周面倒角部)。〈磁記錄介質用玻璃基板的制造方法〉本專利技術的實施方式涉及的制造方法是制造上述磁記錄介質用玻璃基板的方法，具有以下工序。(I)賦形工序(2)主平面磨削(lapping)工序(3)端面研磨工序(4)主平面研磨工序(5)清洗工序這樣的磁記錄介質用玻璃基板的制造方法中，各工序之間可以實施玻璃基板的清洗(工序間清洗)和玻璃基板表面的蝕刻(工序間蝕刻)。此外，要求磁記錄介質用玻璃基板具有高機械強度時，可以在主平面研磨工序前或主平面研磨工序后，或者主平面研磨工序之間(一次研磨和二次研磨之間或二次研磨和三次研磨之間)實施在玻璃基板的表層形成強化層的強化工序(例如，化學強化工序)。下面對各工序進行說明。(I)賦形工序將玻璃素板加工成中央部具有圓孔的圓盤形狀后，以規定的寬度和角度對內周側面和外周側面進行倒本文檔來自技高網...

【技術保護點】
磁記錄介質用玻璃基板的制造方法，具有將玻璃素板加工成中央部具有圓孔的圓盤形狀的玻璃基板的賦形工序、研磨上述玻璃基板的主平面的主平面研磨工序和上述玻璃基板的清洗工序，其特征在于，上述主平面研磨工序具有以5μm以上的研磨量研磨上述玻璃基板的兩個主平面的粗研磨工序，上述粗研磨工序中，使用內部含有氣泡、在研磨面開口的上述氣泡的平均直徑為80～300μm、且具有1.1～2.5%的壓縮率的研磨墊和含有研磨粒的研磨液研磨上述玻璃基板的主平面。

【技術特征摘要】
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【專利技術屬性】
技術研發人員：志田德仁，
申請(專利權)人：旭硝子株式會社，
類型：發明
國別省市：