本實用新型專利技術(shù)公開了一種X光機防冷卻劑過熱蒸發(fā)裝置，包括流體容納空腔，其內(nèi)部裝有液態(tài)冷卻劑，與X光機的冷卻劑入口管路保持液路連通；第一容器，位于所述流體容納空腔的上方，其內(nèi)部裝有液態(tài)重金屬，所述液態(tài)重金屬給所述液態(tài)冷卻劑增加壓力；還包括第二容器，其底部與所述第一容器的底部通過一柔性連接管連接并保持液路連通；一固定桿，所述第二容器通過螺栓與所述固定桿相連，且可相對于所述固定桿上下移動；驅(qū)動機構(gòu)和控制模塊，所述控制模塊對所述驅(qū)動機構(gòu)進行控制，所述驅(qū)動機構(gòu)與所述第二容器相連并驅(qū)動所述第二容器沿所述固定桿上下移動。本實用新型專利技術(shù)所述的X光機防冷卻劑過熱蒸發(fā)裝置冷卻效果好，延長了X光機的使用壽命。（*該技術(shù)在2022年保護過期，可自由使用*）
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本技術(shù)涉及一種醫(yī)療設(shè)備，具體地說，涉及一種X光機防冷卻劑過熱蒸發(fā)裝置。
技術(shù)介紹
X光機中產(chǎn)生X射線所使用能量接近100%的都轉(zhuǎn)換為熱量，這些熱量被液態(tài)冷卻介質(zhì)從射線管排出。因為發(fā)熱量巨大，液態(tài)冷卻劑有被加熱至沸點而蒸發(fā)，蒸發(fā)了的氣態(tài)冷卻劑會大大降低有效傳熱面積，減少液態(tài)冷卻劑和傳熱面的接觸，從而嚴重影響X光管的 冷卻，導致X光管過熱。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本技術(shù)的目的是提供X光機防冷卻劑過熱蒸發(fā)裝置，抑制輸出窗口區(qū)域產(chǎn)生氣泡，提高液體靜壓，抑制液態(tài)冷卻劑蒸發(fā)。為了解決現(xiàn)有技術(shù)存在的困難，達到上述目的，本技術(shù)提供了 X光機防冷卻劑過熱蒸發(fā)裝置，包括流體容納空腔，其內(nèi)部裝有液態(tài)冷卻劑，與X光機的冷卻劑入口管路保持液路連通；第一容器，位于所述流體容納空腔的上方，其內(nèi)部裝有液態(tài)重金屬，所述液態(tài)重金屬給所述液態(tài)冷卻劑增加壓力。優(yōu)選的是，所述X光機防冷卻劑過熱蒸發(fā)裝置還包括第二容器，其底部與所述第一容器的底部通過一柔性連接管連接并保持液路連通。優(yōu)選的是，所述X光機防冷卻劑過熱蒸發(fā)裝置，還包括一固定桿，所述第二容器通過螺栓與所述固定桿相連，且可相對于所述固定桿上下移動。優(yōu)選的是，所述X光機防冷卻劑過熱蒸發(fā)裝置，還包括驅(qū)動機構(gòu)和控制模塊，所述控制模塊對所述驅(qū)動機構(gòu)進行控制，所述驅(qū)動機構(gòu)與所述第二容器相連并驅(qū)動所述第二容器沿所述固定桿上下移動。優(yōu)選的是，所述流體容納空腔包括頂膜，位于所述流體容納空腔和第一容器之間，且在所述流體容納空腔和所述第一容器之間至少局部形成可移動的活塞；底座，位于所述流體容納空腔的底部；薄膜，連接所述頂膜和底座。優(yōu)選的是，所述頂膜和薄膜為機械上柔性且冷卻劑不可透過的薄膜。優(yōu)選的是，所述驅(qū)動機構(gòu)為步進電機。優(yōu)選的是，所述液態(tài)重金屬為水銀。本技術(shù)的有益效果是本技術(shù)所述的X光機防冷卻劑過熱蒸發(fā)裝置可以通過改變第二容器的位置，繼而調(diào)節(jié)液態(tài)冷卻劑的靜壓，達到抑制液態(tài)冷卻劑蒸發(fā)的目的，防止在工作過程中X光管過熱，冷卻效果好，延長了 X光機的使用壽命。附圖說明圖I為本技術(shù)所述X光機防冷卻劑過熱蒸發(fā)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖具體實施方式以下結(jié)合附圖對本技術(shù)做進一步說明，以使本領(lǐng)域普通技術(shù)人員參照本說明書后能夠據(jù)以實施。液態(tài)冷卻劑的沸點是由液體靜壓決定的，靜壓越低,沸點越低,液體越容易蒸發(fā)。X光機工作時X光管圍繞系統(tǒng)軸線2旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)離心力加速度遠大于重力加速度，因此液體靜壓取決于旋轉(zhuǎn)離心力。而旋轉(zhuǎn)體中某點離心力與該點和回轉(zhuǎn)中心距離成正比，因此最靠近系統(tǒng)軸線同時也在強熱負荷下的輸出窗口區(qū)域3內(nèi)的靜壓最小，為抑制在該區(qū)域形成氣泡 的趨勢，本技術(shù)提供了一種X光機防冷卻劑過熱蒸發(fā)裝置。如圖I所示，本技術(shù)所述的X光機防冷卻劑過熱蒸發(fā)裝置，包括流體容納空腔，其內(nèi)部裝有液態(tài)冷卻劑，與X光機的冷卻劑入口管路保持液路連通；第一容器7，位于所述流體容納空腔的上方，其內(nèi)部裝有液態(tài)重金屬，優(yōu)選為水銀。所述流體容納空腔還包括頂膜5，位于所述流體容納空腔和第一容器7之間，且在所述流體容納空腔和所述第一容器7之間至少局部形成可移動的活塞；底座6，位于所述流體容納空腔的底部；薄膜4，連接所述頂膜5和底座6，所述頂膜5和薄膜4為機械上柔性且冷卻流體不可透過的薄膜。其中，X光機在繞系統(tǒng)軸線2轉(zhuǎn)動過程中所述頂膜5向所述液態(tài)冷卻劑施加壓力，液態(tài)冷卻劑進入冷卻通道對X光管I進行冷卻。因第一容器7中含有水銀，所以質(zhì)量變大，施加在液態(tài)冷卻劑上的離心力變大，靜壓變大，提高了所述液態(tài)冷卻劑的沸點，防止所述X光管I因液態(tài)冷卻劑的汽化而過熱。所述的X光機防冷卻劑過熱蒸發(fā)裝置還包括第二容器8，其底部與所述第一容器7的底部通過一柔性連接管9連接并保持液路連通；一固定桿11，所述第二容器8通過螺栓10與所述固定桿11相連，且可相對于所述固定桿11上下移動；驅(qū)動機構(gòu)12和控制模塊，所述控制模塊對所述驅(qū)動機構(gòu)12進行控制，所述驅(qū)動機構(gòu)12與所述第二容器8相連并驅(qū)動所述第二容器8沿所述固定桿11上下移動；所述驅(qū)動機構(gòu)12為步進電機。所述裝置還可以包括一溫度感應(yīng)器，與所述控制模塊通訊連接，對所述X光機I的溫度進行感應(yīng)，并發(fā)送信號給所述控制模塊，控制模塊根據(jù)所述溫度感應(yīng)器驅(qū)動所述驅(qū)動機構(gòu)12，調(diào)整所述第二容器8在固定桿上的位置，繼而改變流入第一容器7中的水銀的質(zhì)量。所述第一容器7，第二容器8和二者之間的柔性連接管9形成了一個連通器，其內(nèi)部裝有水銀，所述控制模塊對所述驅(qū)動機構(gòu)12進行控制，驅(qū)動所述第二容器8沿所述固定桿11上下運動，調(diào)節(jié)所述第二容器8在所述固定桿11上的位置，繼而調(diào)節(jié)流入所述第一容器7的水銀的質(zhì)量，改變施加在所述液態(tài)冷卻劑上的離心力大小，改變靜壓，根據(jù)需要提高或降低所述液態(tài)冷卻劑的沸點，起到防冷卻劑過熱蒸發(fā)作用。盡管本技術(shù)的實施方案已公開如上，但其并不僅僅限于說明書和實施方式中所列運用，它完全可以被適用于各種適合本技術(shù)的領(lǐng)域，對于熟悉本領(lǐng)域的人員而言，可容易地實現(xiàn)另外的修改，因此在不背離權(quán)利要求及等同范圍所限定的一般概念下，本技術(shù)并不限于特定的細節(jié)和這里示出 與描述的圖例。權(quán)利要求1.X光機防冷卻劑過熱蒸發(fā)裝置，其特征在于，包括 流體容納空腔，其內(nèi)部裝有液態(tài)冷卻劑，與X光機的冷卻劑入口管路保持液路連通； 第一容器，位于所述流體容納空腔的上方，其內(nèi)部裝有液態(tài)重金屬，所述液態(tài)重金屬給所述液態(tài)冷卻劑增加壓力。2.如權(quán)利要求I所述的X光機防冷卻劑過熱蒸發(fā)裝置，其特征在于，還包括第二容器，其底部與所述第一容器的底部通過一柔性連接管連接并保持液路連通。3.如權(quán)利要求2所述的X光機防冷卻劑過熱蒸發(fā)裝置，其特征在于，還包括一固定桿，所述第二容器通過螺栓與所述固定桿相連，且可相對于所述固定桿上下移動。4.如權(quán)利要求3所述的X光機防冷卻劑過熱蒸發(fā)裝置，其特征在于，還包括驅(qū)動機構(gòu)和控制模塊，所述控制模塊對所述驅(qū)動機構(gòu)進行控制，所述驅(qū)動機構(gòu)與所述第二容器相連并驅(qū)動所述第二容器沿所述固定桿上下移動。·5.如權(quán)利要求I所述的X光機防冷卻劑過熱蒸發(fā)裝置，其特征在于，所述流體容納空腔包括 頂膜，位于所述流體容納空腔和第一容器之間，且在所述流體容納空腔和所述第一容器之間至少局部形成可移動的活塞； 底座,位于所述流體容納空腔的底部； 薄膜，連接所述頂膜和底座。6.如權(quán)利要求5所述的X光機防冷卻劑過熱蒸發(fā)裝置，其特征在于，所述頂膜和薄膜為機械上柔性且冷卻劑不可透過的薄膜。7.如權(quán)利要求4所述的X光機防冷卻劑過熱蒸發(fā)裝置，其特征在于，所述驅(qū)動機構(gòu)為步進電機。8.如權(quán)利要求I所述的X光機防冷卻劑過熱蒸發(fā)裝置，其特征在于，所述液態(tài)重金屬為水銀。專利摘要本技術(shù)公開了一種X光機防冷卻劑過熱蒸發(fā)裝置，包括流體容納空腔，其內(nèi)部裝有液態(tài)冷卻劑，與X光機的冷卻劑入口管路保持液路連通；第一容器，位于所述流體容納空腔的上方，其內(nèi)部裝有液態(tài)重金屬，所述液態(tài)重金屬給所述液態(tài)冷卻劑增加壓力；還包括第二容器，其底部與所述第一容器的底部通過一柔性連接管連接并保持液路連通；一固定桿，所述第二容器通過螺栓與所述固定桿相連，且可相對于所述固定桿上下移動；驅(qū)動機構(gòu)和控制模塊，所述控制模塊對所述驅(qū)動機構(gòu)進行控制，所述驅(qū)動機構(gòu)與所述第二容器相連并驅(qū)動所述第二容器沿所述固定桿上下移動。本本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護點】
X光機防冷卻劑過熱蒸發(fā)裝置，其特征在于，包括：流體容納空腔，其內(nèi)部裝有液態(tài)冷卻劑，與X光機的冷卻劑入口管路保持液路連通；第一容器，位于所述流體容納空腔的上方，其內(nèi)部裝有液態(tài)重金屬，所述液態(tài)重金屬給所述液態(tài)冷卻劑增加壓力。
【技術(shù)特征摘要】
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：范韶鋒，
申請(專利權(quán))人：蘇州明威醫(yī)療科技有限公司，
類型：實用新型
國別省市：
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