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    一種消除表面痕跡的新型皮革制造技術

    技術編號:8174998 閱讀:167 留言:0更新日期:2013-01-08 20:34
    本實用新型專利技術公開一種消除表面痕跡的新型皮革,其特征在于:包括相同質地的皮革本體及復數個塊狀修飾皮革,所述皮革本體表面設有復數個凹陷置放部,所述復數個塊狀修飾皮革對應嵌入置放于上述復數個凹陷置放部中,所述皮革本體與塊狀修飾皮革間設有粘結劑層。整個結構的設置可以有效消除表皮層的傷痕、皺痕等原始痕跡的同時保持原有天然表皮層的性能。同時上述復數個塊狀修飾皮革可充分利用裁切下來的邊角料獲得,不但使得原有頭層皮制成革產品獲得更大的經濟價值,同時也達到了廢棄原料回收再利用的效果。(*該技術在2022年保護過期,可自由使用*)

    【技術實現步驟摘要】

    本技術涉及一種皮革,尤其是指一種消除表面痕跡的新型皮革
    技術介紹
    皮革的使用文化已存在數千年歷史,在現今塑料、橡膠工業等技術發達的情況下依然很難完全被取代。皮革制品大量應用于日常生活中,如皮鞋、包袋及沙發等。而皮革由表皮層及真皮層構成,表皮層纖維結構最為緊密,毛孔也更細密,強度及漓汗性能好,具有天然光滑的表面;而所述真皮層中越靠近表皮層的真皮層纖維結構越緊密,毛孔越細密,強度及漓汗性能越好;越遠離表皮層的真皮層纖維結構則越疏松,毛孔越大,強度及漓汗性越差;去除表皮層后的真皮層正反兩個表面均為粗糙的纖維結構,必須通過人造覆膜等表面 處理,才能形成光滑表面。一般把包括表皮層和最靠近表皮層的真皮層分割下來作為生產高檔皮制品的原料,即所謂的頭層皮,用作對強度、漓汗性及外觀要求較高的高檔皮制品,如座墊、沙發等制品;而余下依次分割出的二層、三層等多層革,則作為中低檔皮制品。在用頭層皮生產高檔皮制品時,由于動物原料皮不可避免地留下傷痕、皺痕等原始痕跡,原料皮經過藍濕革處理過程、鞣革染色過程到制成革,均不能消除表皮層的這些痕跡,只有經過局部表面覆膜、填色等處理材料遮掩,但經過上述工序則使得表皮層局部已不具有天然表皮層的性能,從而降低了用頭層皮生產的高檔皮制品的質量。本技術專利技術人即針對上述問題,提出了一種新型皮革的設計方案。
    技術實現思路
    本技術針對現有技術存在之缺失,其主要目的是提供一種消除表面痕跡的新型皮革,該皮革在有效消除表皮層的傷痕、皺痕等原始痕跡的同時保持原有天然表皮層的性能。為實現上述目的,本技術采用如下之技術方案一種消除表面痕跡的新型皮革,其特征在于包括相同質地的皮革本體及復數個塊狀修飾皮革,所述皮革本體表面設有復數個凹陷置放部,所述復數個塊狀修飾皮革對應嵌入置放于上述復數個凹陷置放部中,所述皮革本體與塊狀修飾皮革間設有粘結劑層。本技術采用上述技術方案后,其有益效果在于通過在皮革本體留有傷痕、皺痕等原始痕跡的位置,去除表皮層和部分真皮層形成復數個凹陷置放部,該凹陷置放部內壁為天然真皮纖維結構,接著在凹陷置放部內注入粘結劑,然后將所述復數個塊狀修飾皮革對應嵌入置放于上述復數個凹陷置放部中,所述復數個塊狀修飾皮革的真皮纖維與上述凹陷置放部內壁的真皮纖維結構充分接觸,并通過粘結劑構成粘結劑層固定,進而獲得該新型皮革。整個結構的設置可以有效消除表皮層的傷痕、皺痕等原始痕跡的同時保持原有天然表皮層的性能。同時上述復數個塊狀修飾皮革可充分利用裁切下來的邊角料獲得,不但使得原有頭層皮制成革產品獲得更大的經濟價值,同時也達到了廢棄原料回收再利用的效果。附圖說明圖I是本技術的局部剖面示意圖。具體實施方式以下結合附圖與具體實施例來對本技術進行詳細說明如圖I所示為本技術的一種消除表面痕跡的新型皮革,其特征在于包括相同質地的皮革本體I及復數個塊狀修飾皮革2,所述皮革本體I表面設有復數個凹陷置放部3,所述復數個塊狀修飾皮革2對應嵌入置放于上述復數個凹陷置放部3中,所述皮革本體I與塊狀修飾皮革2間設有粘結劑層4。本技術的重點在于,通過在皮革本體I留有傷痕、皺痕等原始痕跡的位置,去除表皮層5和部分真皮層6形成復數個凹陷置放部3,該凹陷置放部3內壁為天然真皮纖維 結構,接著在凹陷置放部3內注入粘結劑,然后將所述復數個塊狀修飾皮革2對應嵌入置放于上述復數個凹陷置放部3中,所述復數個塊狀修飾皮革2的真皮纖維與上述凹陷置放部3內壁的真皮纖維結構充分接觸,并通過粘結劑構成粘結劑層4固定,進而獲得該新型皮革。整個結構的設置可以有效消除表皮層的傷痕、皺痕等原始痕跡的同時保持原有天然表皮層的性能。同時上述復數個塊狀修飾皮革2可充分利用裁切下來的邊角料獲得,不但使得原有頭層皮制成革產品獲得更大的經濟價值,同時也達到了廢棄原料回收再利用的效果。以上所述,僅是本技術的較佳實施例而已,并非對本技術的技術范圍作任何限制,故凡是依據本技術的技術實質對以上實施例所作的任何細微修改、等同變化與修飾,均仍屬于本技術技術方案的范圍內。權利要求1.一種消除表面痕跡的新型皮革,其特征在于包括相同質地的皮革本體及復數個塊狀修飾皮革,所述皮革本體表面設有復數個凹陷置放部,所述復數個塊狀修飾皮革對應嵌入置放于上述復數個凹陷置放部中,所述皮革本體與塊狀修飾皮革間設有粘結劑層。專利摘要本技術公開一種消除表面痕跡的新型皮革,其特征在于包括相同質地的皮革本體及復數個塊狀修飾皮革,所述皮革本體表面設有復數個凹陷置放部,所述復數個塊狀修飾皮革對應嵌入置放于上述復數個凹陷置放部中,所述皮革本體與塊狀修飾皮革間設有粘結劑層。整個結構的設置可以有效消除表皮層的傷痕、皺痕等原始痕跡的同時保持原有天然表皮層的性能。同時上述復數個塊狀修飾皮革可充分利用裁切下來的邊角料獲得,不但使得原有頭層皮制成革產品獲得更大的經濟價值,同時也達到了廢棄原料回收再利用的效果。文檔編號C14B7/00GK202643707SQ20122015988公開日2013年1月2日 申請日期2012年4月16日 優先權日2012年4月16日專利技術者曾江勇, 羅豐旭 申請人:福建冠興皮革有限公司本文檔來自技高網...

    【技術保護點】
    一種消除表面痕跡的新型皮革,其特征在于:包括相同質地的皮革本體及復數個塊狀修飾皮革,所述皮革本體表面設有復數個凹陷置放部,所述復數個塊狀修飾皮革對應嵌入置放于上述復數個凹陷置放部中,所述皮革本體與塊狀修飾皮革間設有粘結劑層。

    【技術特征摘要】

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:曾江勇羅豐旭
    申請(專利權)人:福建冠興皮革有限公司
    類型:實用新型
    國別省市:

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