本發明專利技術提供了一種液體供給機構和圖像形成裝置,該液體供給機構包括:供給通路,其將液體供給到多個噴射部,每個噴射部從噴嘴中噴射出液體;分支路徑,其從所述供給通路分支,并且液體通過所述分支路徑循環;緩沖器單元,其布置在所述分支路徑中并且減輕所述分支路徑內的液體中產生的壓力波動;以及變更單元,其在用于將液體從所述噴射部的噴嘴排出的維護期間改變通往緩沖器單元的通路,以關閉通往緩沖器單元的通路。在所述維護期間排出的液體的量比在正常操作期間排出的液體的量大。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及液體供給機構和圖像形成裝置。
技術介紹
專利文獻1(JP-A-2010-137397)說明了這樣ー種構造即,在循環路徑中包含有阻尼器機構,墨沿著所述循環路徑在液體噴射頭和液體儲存箱之間循環
技術實現思路
本專利技術的目的是在維護期間將所需的壓カ傳遞給液體流路中的液體,以及減輕由于從液體噴射部噴射液體所引起的液體流路中的液體壓カ的波動。根據本專利技術的ー個方案,ー種液體供給機構包括供給通路,其將液體供給到多個噴射部,每個所述噴射部從噴嘴中噴射出液體;分支路徑,其從所述供給通路分支,并且液體通過所述分支路徑循環;緩沖器単元,其布置在所述分支路徑中并且減輕所述分支路徑內的液體中產生的壓カ波動;以及變更單元,其在用于將液體從所述噴射部的所述噴嘴排出的維護期間改變通往所述緩沖器単元的通路,以關閉通往所述緩沖器単元的所述通路。在所述維護期間排出的液體的量可以比在正常操作期間排出的液體的量大。在根據所述的液體供給機構中,所述供給通路包括多個單獨供給通路,它們與所述多個噴射部連接并且將液體供給至各個所述噴射部;以及共用供給通路,其將液體供給至所述多個単獨供給通路。所述緩沖器単元布置在從所述共用供給通路分支的所述分支路徑中。在根據所述的液體供給機構中,所述分支路徑在所述共用供給通路中用于下述ー個單獨供給通路的連接部的下游位置處從所述共用供給通路分支所述ー個単獨供給通路是所述単獨供給通路中的沿所述共用供給通路的液體循環方向在最下游位置處連接的ー個單獨供給通路。在根據至中的任一項所述的液體供給機構中,所述變更単元可以為設置在所述分支路徑中的閥。在所述正常操作期間,所述閥打開,液體可以從所述噴射部的噴嘴排出。在所述維護期間,所述閥閉合,液體可以從所述噴射部的噴嘴中排出。在所述維護期間從所述噴嘴排出的液體的量可以比在所述正常操作期間排出的液體的量大。根據本專利技術的另一方案,ー種液體供給機構包括単獨供給通路,它們與從噴嘴噴射液體的多個噴射部連接并且將液體供給到各個所述噴射部;共用供給通路,其將液體供給到所述單獨供給通路;單獨排出通路,它們與所述多個噴射部連接,并且各個所述噴射部通過所述単獨排出通路排出從所述単獨供給通路供給的液體;共用排出通路,所述單獨排出通路將液體排出到所述共用排出通路;分支路徑,其至少從所述共用供給通路或所述共用排出通路分支,并且液體通過所述分支路徑循環;緩沖器單元,其布置在所述分支路徑中并且減輕在所述分支路徑內的液體中產生的壓カ波動;以及變更單元,其在將液體從所述噴射部的噴嘴排出的維護期間改變通往所述緩沖器単元的通路,以關閉通往所述緩沖器単元的所述通路。在所述維護期間排出的液體的量比在正常操作期間排出的液體的量大。在根據所述的液體供給機構中,所述液體供給機構還包括第一循環路徑,其使液體在所述共用供給通路和所述共用排出通路之間循環;以及第ニ循環路徑,其用作使液體在所述共用供給通路和所述共用排出通路之間循環的所述分支路徑。在根據所述的液體供給機構中,所述變更単元可以為設置在用作所述分支路徑的所述第二循環路徑中的閥。在所述正常操作期間,通過打開所述閥使所述第二循環路徑打開并且所述第一循環路徑閉合,液體可以從所述噴射部的噴嘴排出。在所述維護期間,通過閉合所述閥使所述第二循環路徑閉合并且所述第一循環路徑打開,液體可以從所述噴射部的噴嘴排出。在所述維護期間從所述噴嘴排出的液體的量可以比在所述正常操作期間排出的液體的量大。 在根據至中的任一項所述的液體供給機構中,所述分支路徑在所述共用供給通路中用于下述ー個單獨供給通路的連接部的下游位置處從所述共用供給通路分支所述ー個単獨供給通路是所述単獨供給通路中的沿所述共用供給通路的液體循環方向在最下游位置處連接的ー個單獨供給通路。在根據至中的任一項所述的液體供給機構中,所述分支路徑在所述共用排出通路中用于下述一個單獨排出通路的連接部的上游位置處從所述共用排出通路分支所述ー個単獨排出通路是所述単獨排出通路中的沿所述共用排出通路的液體循環方向在最上游位置處連接的一個單獨排出通路。根據本專利技術的另一方案,一種圖像形成裝置包括根據至中的任一項所述的液體供給機構;以及噴射部,其將液滴噴射到記錄介質上以在所述記錄介質上形成圖像。與不具有變更單元的構造相比,或中的構造可以減輕由于從噴射部噴射液體引起的液體流路內的液體中的壓カ波動并且將維護期間所需的壓カ施加到液體流路內的液體上。與不具有前述構造的構造相比,中的構造可以以集中的方式減輕由于從噴射部噴射液體引起的単獨供給通路內的液體中的壓カ波動并且將維護期間所需的壓カ施加到共用供給通路內的液體上。與不具有前述構造的構造相比,中的構造可以減輕所述共用供給通路中沿液體循環方向的下游位置處的液體中的壓カ波動,其中在所述下游位置處壓カ波動的影響趨于變大。與不具有變更單元的構造相比,或中的構造可以減輕由于從噴射部噴射液體引起的液體流路內(至少在共用供給通路或共用排出通路中)的液體中的壓カ波動并且將維護期間所需的壓力施加到液體流路內的液體上。與不具有前述構造的構造相比,中的構造可以減輕由于通過第二循環路徑的液體循環和從噴射部噴射液體引起的第二循環路徑內的液體中的壓カ波動并且將通過第一循環路徑循環液體所執行的維護期間所需的壓カ施加到液體流路內的液體上。與不具有前述構造的構造相比,中的構造可以減輕所述共用供給通路中沿液體循環方向的下游位置處的液體中的壓カ波動,其中在所述下游位置處壓カ波動的影響趨于變大。與不具有前述構造的構造相比,中的構造可以減輕所述共用排出通路中沿液體循環方向的上游位置處的液體中的壓カ波動,其中在所述上游位置處壓カ波動的影響趨于變大。與不具有前述構造的構造相比,中的構造可以抑制由于液體中的壓カ波動或維護故障所引起的圖像劣化。附圖說明基于下列附圖,詳細地說明本專利技術的示例性實施例,其中 圖I是示出噴墨記錄器的構造的示意性圖示;圖2是示出供墨機構的構造的示意圖;圖3是對噴墨頭的操作進行控制的控制部的框圖;圖4A和4B是示出緩沖器的構造的示意性圖示;圖5是示出第一實例變型例的供墨機構的構造的示意圖;圖6A是第一實例變型例的供墨機構的緩沖器的斜向透視圖,并且圖6B是緩沖器的橫截面圖;圖7A和7B是示出圖6A和圖6B中所示的緩沖器的操作的橫截面圖;圖8是示出第二實例變型例的供墨機構的構造的示意圖;圖9是示出第三實例變型例的供墨機構的構造的示意圖;以及圖10是示出第四實例變型例的供墨機構的構造的示意圖。具體實施例方式下面將參照附圖對本專利技術的一個示例性實施例進行說明。在實施例中,現在通過圖像形成裝置的實例來對通過噴射墨滴而在記錄介質上記錄圖像的噴墨記錄器進行說明。圖像形成裝置不限于噴墨記錄器。可采用利用液體形成圖像的任何圖像形成裝置。因此,圖像形成裝置還可以為例如,通過將墨等噴射到薄膜或玻璃上來制成濾色片的濾色片制造単元;通過將有機EL溶液噴射到基底上來形成EL顯示板的裝置;通過將溶解的焊料噴射到基底上來形成用于組裝部件的焊塊的裝置;通過噴射含有金屬的液體來形成布線圖案的裝置;以及通過噴射液滴來形成薄膜的各種薄膜形成単元。(噴墨記錄器的構造)首先,對噴墨記錄器的構造進行說明。圖I是示出實施例的噴墨記錄器的構造的示意性圖示。如圖I所示,噴墨記錄器10包括本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種液體供給機構,包括:供給通路,其將液體供給到多個噴射部,每個所述噴射部從噴嘴中噴射出液體;分支路徑,其從所述供給通路分支,并且液體通過所述分支路徑循環;緩沖器單元,其布置在所述分支路徑中并且減輕所述分支路徑內的液體中產生的壓力波動;以及變更單元,其在用于將液體從所述噴射部的噴嘴排出的維護期間改變通往所述緩沖器單元的通路,以關閉通往所述緩沖器單元的所述通路;其中,在所述維護期間排出的液體的量比在正常操作期間排出的液體的量大。
【技術特征摘要】
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【專利技術屬性】
技術研發人員:平塚昌史,片岡雅樹,磯崎準,
申請(專利權)人:富士施樂株式會社,
類型:發明
國別省市:
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