X射線檢測裝置制造方法及圖紙

本發(fā)明專利技術(shù)提出一種X射線檢測裝置，該X射線檢測裝置包括：殼體，殼體的一端形成有開口，用于接收射入的X射線；熒光轉(zhuǎn)換屏，熒光轉(zhuǎn)換屏設(shè)于殼體的開口處，用于將射入的X射線轉(zhuǎn)換成可見光；可見光反射器，可見光反射器設(shè)在殼體內(nèi)，用于反射可見光；CCD采集單元，CCD采集單元設(shè)于殼體內(nèi)，用于收集可見光反射器反射的可見光；光電成像組件，光電成像組件用于將光收集組件收集的可見光轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號以成像，殼體的內(nèi)壁上設(shè)有夾層，夾層內(nèi)設(shè)有防X光散射層。因此本發(fā)明專利技術(shù)的X射線檢測裝置有效地降低了獲得的圖像中躁點(diǎn)的數(shù)量，提高了畫面質(zhì)量，并且根據(jù)本發(fā)明專利技術(shù)實(shí)施例的X射線檢測裝置結(jié)構(gòu)簡單，制造成本低。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本專利技術(shù)涉及醫(yī)療檢測
，特別是涉及一種X射線檢測裝置。
技術(shù)介紹
X射線檢測器是采用一套光學(xué)回路來實(shí)現(xiàn)CCD對閃爍屏進(jìn)行光譜的采集。但由于X射線具有反射、折射、散射和衍射規(guī)律，而X射線檢測器的體積比較大，X射線的散射線會從不同的角度射向X射線檢測器殼體內(nèi)部，并被CCD采集單元捕獲，使獲得的圖像上產(chǎn)生不同程度的噪點(diǎn)，嚴(yán)重影響了圖像質(zhì)量。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
·本專利技術(shù)旨在至少解決上述技術(shù)問題之一。為此，本專利技術(shù)的一個目的在于提出一種有效消除成像躁點(diǎn)的X射線檢測裝置根據(jù)本專利技術(shù)實(shí)施例的X射線檢測裝置，包括殼體，所述殼體的一端形成有開口，用于接收射入的X射線；熒光轉(zhuǎn)換屏，所述熒光轉(zhuǎn)換屏設(shè)于所述殼體的開口處，用于將射入的X射線轉(zhuǎn)換成可見光；可見光反射器，所述可見光反射器設(shè)在所述殼體內(nèi)，用于反射所述可見光；CCD采集單元，所述CCD采集單元設(shè)于所述殼體內(nèi)，用于收集可見光反射器所反射的可見光；光電成像組件，所述光電成像組件用于將所述光收集組件收集的可見光轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號以成像，其中所述殼體的內(nèi)壁上設(shè)有夾層，所述夾層內(nèi)設(shè)有防X光散射層。通過設(shè)在夾層內(nèi)的防X光散射層，根據(jù)本專利技術(shù)實(shí)施例的X射線檢測裝置能夠阻止X射線從除了開口外的其他角度射入殼體內(nèi)，因此有效地降低了獲得圖像中躁點(diǎn)的數(shù)量，提高了畫面質(zhì)量，并且根據(jù)本專利技術(shù)實(shí)施例的X射線檢測裝置結(jié)構(gòu)簡單，制造成本低。根據(jù)上述實(shí)施例的X射線檢測裝置還可以包括如下附加技術(shù)特征根據(jù)本專利技術(shù)的一個實(shí)施例，所述可見光反射器相對于所述開口成45度設(shè)置。根據(jù)本專利技術(shù)的一個實(shí)施例，所述防散射層由X光不可穿透材料制成。根據(jù)本專利技術(shù)的一個實(shí)施例，所述防散射層由鉛制成。根據(jù)本專利技術(shù)的一個實(shí)施例，所述防散射層的厚度為2cm-3cm。根據(jù)本專利技術(shù)的一個實(shí)施例，所述的X射線檢測裝置的殼體為一體結(jié)構(gòu)。本專利技術(shù)的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本專利技術(shù)的實(shí)踐了解到。附圖說明本專利技術(shù)的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從結(jié)合下面附圖對實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中圖I是根據(jù)本專利技術(shù)實(shí)施例的X射線檢測裝置的立體圖。圖2是根據(jù)本專利技術(shù)實(shí)施例的X射線檢測裝置的剖視圖。圖3是根據(jù)圖2中沿A-A方向的殼體剖視圖。具體實(shí)施例方式下面詳細(xì)描述本專利技術(shù)的實(shí)施例，所述實(shí)施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的，僅用于解釋本專利技術(shù)，而不能理解為對本專利技術(shù)的限制。在本專利技術(shù)的描述中，需要理解的是，術(shù)語“中心”、“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本專利技術(shù)和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本專利技術(shù)的限制。此外，術(shù)語“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性。 在本專利技術(shù)的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，一體地連接，也可以是可拆卸連接；可以是機(jī)械連接或電連接，也可以是兩個元件內(nèi)部的連通；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語的具體含義。下面參考附圖1-3來描述根據(jù)本專利技術(shù)實(shí)施例的X射線檢測裝置。根據(jù)本專利技術(shù)實(shí)施例的X射線檢測裝置包括殼體I、熒光轉(zhuǎn)換屏2、可見光反射器3、CXD采集單元4和光電成像組件5。具體而言，如圖2所示，殼體I的一端形成有用于接收射入的X射線的開口 101。熒光轉(zhuǎn)換屏2設(shè)于殼體I的開口 101處，熒光轉(zhuǎn)換屏2用于將射入的X射線轉(zhuǎn)換成可見光。可見光反射器3設(shè)在殼體I內(nèi)，可見光反射器3用于反射經(jīng)突光轉(zhuǎn)換屏2轉(zhuǎn)換成的可見光。CCD采集單元4設(shè)于殼體I內(nèi)，用于收集可見光反射器所3反射的可見光。光電成像組件5用于將光收集組件4收集的可見光轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號以成像。如圖2和圖3所示，殼體I的內(nèi)壁102上設(shè)有夾層103，所述夾層103內(nèi)設(shè)有防X光散射層6。優(yōu)選地，在殼體I的每個內(nèi)壁102上均設(shè)有夾層103，因此能夠阻止X散射線從除了開口 101外的其他角度射入殼體I內(nèi)。通過設(shè)在夾層103內(nèi)的防X光散射層6，根據(jù)本專利技術(shù)實(shí)施例的X射線檢測裝置能夠阻止X射線從除了開口 101外的其他角度射入殼體I內(nèi)，因此有效地降低了獲得的圖像中躁點(diǎn)的數(shù)量，提高了畫面質(zhì)量，并且根據(jù)本專利技術(shù)實(shí)施例的X射線檢測裝置結(jié)構(gòu)簡單，制造成本低。如圖2所示，根據(jù)本專利技術(shù)的一個實(shí)施例，可見光反射器3相對于開口 101成45度設(shè)置。由此，可將轉(zhuǎn)換后的可見光繼續(xù)傳遞，且可以使光成像組件5減少X射線的輻射。根據(jù)本專利技術(shù)的一個實(shí)施例，防散射層6由X光不可穿透材料制成。優(yōu)選地，防散射層6由鉛制成。鉛不僅具有良好的X射線吸收功能，且價格低廉，能夠降低制造成本。優(yōu)選地，防散射層6的厚度為2cm-3cm。由此，該厚度在保證阻止X射線進(jìn)入殼體I的前提下盡量減少防散射層6的厚度，從而減輕整個X射線檢測裝置的重量。根據(jù)本專利技術(shù)的一個實(shí)施例，X射線檢測裝置的殼體I為一體結(jié)構(gòu)。由此使殼體I具有一定強(qiáng)度，以保護(hù)其內(nèi)的各種部件。如圖3所示，根據(jù)本專利技術(shù)的一個實(shí)施例，X射線檢測裝置還包括固定輪7。通過固定輪7本專利技術(shù)的X射線檢測裝置能夠安裝到支架上。在本說明書的描述中，參考術(shù)語“一個實(shí)施例”、“一些實(shí)施例”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結(jié)合該實(shí)施例或示例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)包含于本專利技術(shù)的至少一個實(shí)施例或示例中。在本說明書中，對上述術(shù)語的示意性表述不一定指的是相同的實(shí)施例或示例。而且，描述的具 體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)可以在任何的一個或多個實(shí)施例或示例中以合適的方式結(jié)合。盡管已經(jīng)示出和描述了本專利技術(shù)的實(shí)施例，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解在不脫離本專利技術(shù)的原理和宗旨的情況下可以對這些實(shí)施例進(jìn)行多種變化、修改、替換和變型，本專利技術(shù)的范圍由權(quán)利要求及其等同物限定。權(quán)利要求1.一種X射線檢測裝置，其特征在于，所述X射線檢測裝置包括 殼體，所述殼體的一端形成有開口，用于接收射入的X射線； 熒光轉(zhuǎn)換屏，所述熒光轉(zhuǎn)換屏設(shè)于所述殼體的開口處，用于將射入的X射線轉(zhuǎn)換成可見光； 可見光反射器，所述可見光反射器設(shè)在所述殼體內(nèi)，用于反射所述可見光； CCD采集單元，所述CCD采集單元設(shè)于所述殼體內(nèi)，用于收集可見光反射器所反射的可見光； 光電成像組件，所述光電成像組件用于將所述光收集組件收集的可見光轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號以成像，其中 所述殼體的內(nèi)壁上設(shè)有夾層，所述夾層內(nèi)設(shè)有防X光散射層。2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的X射線檢測裝置的殼體，其特征在于，所述可見光反射器相對于所述開口成45度設(shè)置。3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的X射線檢測裝置的殼體，其特征在于，所述防散射層由X光不可穿透材料制成。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的X射線檢測裝置的殼體，其特征在于，所述防散射層由鉛制成。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的X射線檢測裝置的殼體，其特征在于，所述防散射層的厚度為2cm_3cm06.根據(jù)權(quán)利要求I所述的X射線檢測裝置的殼體，其特征在于，所述的X射本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種X射線檢測裝置，其特征在于，所述X射線檢測裝置包括：殼體，所述殼體的一端形成有開口，用于接收射入的X射線；熒光轉(zhuǎn)換屏，所述熒光轉(zhuǎn)換屏設(shè)于所述殼體的開口處，用于將射入的X射線轉(zhuǎn)換成可見光；可見光反射器，所述可見光反射器設(shè)在所述殼體內(nèi)，用于反射所述可見光；CCD采集單元，所述CCD采集單元設(shè)于所述殼體內(nèi)，用于收集可見光反射器所反射的可見光；光電成像組件，所述光電成像組件用于將所述光收集組件收集的可見光轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號以成像，其中所述殼體的內(nèi)壁上設(shè)有夾層，所述夾層內(nèi)設(shè)有防X光散射層。

【技術(shù)特征摘要】
...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：劉軍，劉建國，陳亮，
申請(專利權(quán))人：北京中科美倫科技有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：