【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本技術(shù)屬于辦公設(shè)備中復(fù)印機(jī)領(lǐng)域，特別是指一種復(fù)印機(jī)側(cè)蓋體結(jié)構(gòu)。
技術(shù)介紹
復(fù)印機(jī)的側(cè)蓋在同復(fù)印機(jī)的內(nèi)部結(jié)構(gòu)接觸時(shí)，會(huì)有一定的擠壓情況出現(xiàn)，尤其是對(duì)硒鼓的擠壓，嚴(yán)重時(shí)會(huì)影響到硒鼓的結(jié)構(gòu)導(dǎo)致變形。現(xiàn)復(fù)印機(jī)的側(cè)蓋采用的是一體成型結(jié)構(gòu)，為了降低生產(chǎn)模具的復(fù)雜性，一般是盡可能減少側(cè)蓋的結(jié)構(gòu)，這樣的思路從降低生產(chǎn)成本方面來(lái)考慮是正確的，但因這樣的結(jié)構(gòu)會(huì)導(dǎo)致側(cè)蓋內(nèi)部件的一些傷害，而這樣的傷害能夠影響到復(fù)印機(jī)的使用壽命和復(fù)印質(zhì)量。如何能夠在減少結(jié)構(gòu)的同時(shí)不傷害到復(fù)印機(jī)也 不影響復(fù)印的質(zhì)量是本領(lǐng)域技術(shù)人員的努力方向。申請(qǐng)人:通過(guò)要本領(lǐng)域多年的經(jīng)驗(yàn)和研究，對(duì)現(xiàn)有的復(fù)印機(jī)側(cè)蓋提出一改進(jìn)方案，通過(guò)該方案能夠克服現(xiàn)技術(shù)的不足。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本技術(shù)的目的是通過(guò)對(duì)現(xiàn)有技術(shù)方案的改進(jìn)，以克服現(xiàn)有技術(shù)中的復(fù)印機(jī)側(cè)蓋會(huì)傷害到復(fù)印機(jī)內(nèi)部結(jié)構(gòu)并影響復(fù)印質(zhì)量的缺陷。本技術(shù)是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的一種復(fù)印機(jī)側(cè)蓋體結(jié)構(gòu)，包括有殼體，所述殼體上有一長(zhǎng)孔，所述殼體的一側(cè)為方形，與這一側(cè)相對(duì)的側(cè)邊為弧形；所述殼體內(nèi)側(cè)長(zhǎng)孔的周?chē)幸怀矢駹畹囊r層，所述殼體呈方形的一側(cè)邊上有一凸起；所述殼體內(nèi)側(cè)有一加厚部。作為進(jìn)一步改進(jìn)，所述凸起為長(zhǎng)方形，所述凸起同殼體呈90度角。作為進(jìn)一步改進(jìn)，所述殼體內(nèi)側(cè)的加厚部的一邊同襯層相接。本技術(shù)的有益效果是通過(guò)在殼體內(nèi)側(cè)的加厚部,用于接觸復(fù)印機(jī)內(nèi)部的固定部分,使得復(fù)印機(jī)內(nèi)部同殼體的另一部分有一小的空隙，并通過(guò)襯層減緩殼體同復(fù)印機(jī)內(nèi)部的沖擊。附圖說(shuō)明圖1，本技術(shù)側(cè)蓋的后視圖；圖2，本技術(shù)側(cè)蓋的側(cè)視圖；圖3，本技術(shù)側(cè)蓋的主視圖。1，殼體 2，長(zhǎng)孔 3，加厚部4,襯層 5,凸起具體實(shí)施方式以下...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種復(fù)印機(jī)側(cè)蓋體結(jié)構(gòu)，包括有殼體，所述殼體上有一長(zhǎng)孔，所述殼體的一側(cè)為方形，與這一側(cè)相對(duì)的側(cè)邊為弧形；其特征在于：所述殼體內(nèi)側(cè)長(zhǎng)孔的周?chē)幸怀矢駹畹囊r層，所述殼體呈方形的一側(cè)邊上有一凸起；所述殼體內(nèi)側(cè)有一加厚部。
【技術(shù)特征摘要】
【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：胡維蘋(píng)，俞杰，
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人：華利保模具寧波有限公司，
類(lèi)型：實(shí)用新型
國(guó)別省市：
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