光學水平儀之中心共點歸納結構制造技術

本實用新型專利技術涉及一種光學水平儀之中心共點歸納結構，包含有：一具有鉛直鏤空部之基架，上端兩側設有沿第一水平軸線互對之樞座；一萬向肘接臺，設有一肘環；一擺桿，下端設有擺錘，上端經由一對手軸與上述二樞接座駁接；一水平薄光發生模塊，組合在上述擺桿的上端。其指向光束的中心重迭共構于上述旋轉中心共點，使系統因制動的旋轉中心為同一圓心，減少變動量，為提供所發生的平面指向光束，在制動過程中，不會產生高度差，及可快速平衡指向之雷射水平儀。（*該技術在2021年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

光學水平儀之中心共點歸納結構
本技術涉及一種光學水平儀之中心共點歸納結構。
技術介紹
目前一般水平儀重錘機構的水平薄狀指向光和肘按裝置不在一個平面內。在擺動制動過程中，指向水平的水平薄狀指向光的高度會發生變化(如第I及第2圖所示)。同樣，在擺動制動過程中，指向垂直的垂直薄狀指向光發生橫向位移。這種位移致使在使用中水平面高度定位和垂直線左右定位的困難。在一般自動水平儀中，光學水平面不在萬向旋轉平臺的旋轉中心。在光學面偏離平衡位置時，其中心高度隨偏角的變化而改變(如圖I所示)O 請再參閱圖3所示，圖3為中國臺灣申請專利技術第1264526號之水平儀，利用了一垂體102，垂體102的本體設有垂直及水平的激光發射單元103，上方經由不同高度呈平面垂直的肘按裝置101所軸接，利用垂體102的效應可得水平角位的獲得，為依據上述的設計，它的水平薄狀指向光400會如同圖I的偏擺形成一垂直位移。請再參閱圖4所示，該圖式為中國臺灣專利M303366號，在肘按裝置101的上端形成有激光發射單元103，該激光發射單元103由一下方的垂體102所聯結，垂體102利用其自重相對地心引力效應，而使激光發射單元103可得水平激光的角位獲得，該設計會如同圖2的偏擺狀態，垂體102經由肘按裝置101的支點作用，使激光發射單元103產生高度位移變化，相同垂直薄狀指向光500也跟著大幅偏擺，由于肘按裝置101與激光發射單元103之間具有一半徑長度，因此水平儀被制動之后所產生的角位變化會較難以達到平衡態。
技術實現思路
本技術的主要目的在于提供一種光學水平儀之中心共點歸納結構，使可達到快速平衡取得水平或垂直的作業要點。本技術是這樣實現的，一種光學水平儀之中心共點歸納結構，其包含有一具有鉛直鏤空部之基架，上端兩側設有沿第一水平軸線互對之樞座；一萬向肘接臺，設有一肘環，通過中心設有水平對稱之二樞孔，二樞孔分別由二樞軸各別樞接在上述之樞座，再于肘環另側與二樞孔軸線呈90度角的平面，設有二互對的樞接座，二樞接座互對為第二水平軸線，第二水平軸線與第一水平軸線為同一水平面，并交叉出一中心共點；一擺桿，下端設有擺錘，上端經由一對手軸與上述二樞接座駁接；一水平薄光發生模塊，組合在上述擺桿的上端，所形成的水平薄狀指向光虛擬中心與上述中心共點為同點共構。所述的水平薄光發生模塊的垂直上方，復設有一組垂直薄光發生模塊，垂直薄光發生模塊所發生的垂直薄狀指向光，垂直重迭于上述的中心共點。所述的擺桿的上端，設有一水平基準部，提供為水平薄光發生模塊或垂直薄光發生模塊二者選其一組合。所述的水平薄光發生模塊為利用至少一扇形光學發生器，發生水平薄狀指向光。所述的垂直薄光發生模塊為利用至少一扇形光學發生器，發生垂直薄狀指向光。本技術在基架下方對應于擺桿所設擺錘的制動空間位置設有一組磁通封閉器，是由一組上、下互對的永磁體，其磁流線垂直通過擺錘，磁通封閉器上、下二永磁體外圍由一具磁應性的軟鐵構成為回路，導通上下二組永磁體的外圍磁通路徑。所述的擺桿下方設有一擺錘，至少該擺錘為不具磁吸效應。所述的形成基架、水平薄光發生模塊、垂直薄光發生模塊及擺桿的材料，為不具磁吸效應。本技術在基架的腰間對向擺桿的桿身位置，設有一組限位裝置，限位裝置為由一撥桿與一被動桿呈對向擺桿軸心點，以剪壓的方式夾定擺桿的桿身外表。本技術為提供所發生的平面指向光束，在制動過程中，不會產生高度差，及可快速平衡指向之雷射水平儀，利用萬向肘接臺的二軸線同平面等高位置交叉出一旋轉中心 的中心共點，以及平面指向光的中心也歸納在中心共點同處，于是制動過程可快速平衡及避免指向光擺幅強烈變化。本技術所激發的指向光，具有水平及垂直指示功能。本技術的發光模塊是利用含有柱面效應的雷射扇形光學發生器做為激光源，它可采等分方式共構出薄形光學平面。本技術所設的擺桿，至少其下端之擺錘為不具磁吸性，受到一閉回路的磁通封閉器所發生渦流采取制止操作。本技術為構成本式水平儀的材料，除磁通封閉器系統外，原則上為采不具磁吸效應的材料為之，如銅、鋁、碳纖化合物等。本技術所設的磁通封閉器具有閉回路功能，則所使用的永磁體可采強磁者。本技術為在基架的腰部對應擺桿的腰身，設有一向擺桿3的中央剪壓的限位裝置，設有一撥桿及一被動桿，二者以撥動其一的方式而改變交剪角度，方便整收。本技術是提供一種光學水平儀，系統內的旋轉為依據同一中心共點為中心，經由歸納中心共點的設計，使指向的光束可快速達到平衡。本專利中的光學平面通過中心共點旋轉中心，水平薄狀指向光的水平面中心的高度與其在平衡位置的高度一致，從而簡化了水平儀的高度調節，本技術保持水平薄狀指向光的高度以及垂直薄狀指向光的在制動過程中沒有位移。另，一般的半導體激光器含有鐵磁元件，一般用重錘切割敞開的永磁體產生的磁力線以產生渦流而達到制動的目的，在用強永磁體制動，以加快停擺速度時，懸于重錘的激光器會受敞開的磁力線作用而降低精度，這種誤差隨擺角增大而更為顯著。本技術在使用強磁體時，能在大擺角情況下人能保持測量精度。附圖說明圖I為傳統在擺垂下端設有激光發射單元的偏擺動作示意圖。圖2為習用在垂體的上端經由肘按裝置設有激光發射單元產生偏擺的示意圖。圖3為中國臺灣專利1246526的水平儀示意圖。圖4為中國臺灣專利M303366水平儀的側視圖。圖5為本技術發生水平薄狀指向光和垂直薄狀指向光的外觀示意圖。圖6為本技術內部機械元件之基礎基架示意圖。圖7為本技術之水平薄光發生模塊和垂直薄光發生模塊結合扇形光學發生器之后，產生水平薄狀指向光或垂直薄狀指向光的示意圖。圖8為本技術的水平薄光發生模塊或垂直薄光發生模塊組合在基架上端的基礎夠成不意圖。圖9為本技術自動效果的側視示意圖。圖10為本技術擺桿所設的擺錘受一磁通封閉器自動的原理示意圖。 圖11為本技術在基架設有一限位裝置以形成機械加壓擺桿的示意圖。主要元件符號說明 基架I鏤空部10水平儀100肘按裝置101垂體102激光發射單元103 底盤104輔助架105托柱11 樞座110腳柱12殼體13 罩體14窗口 140連接柱15萬向肘接臺2肘環20第一水平軸線201 第二水平軸線202 樞軸21樞接座22擺桿3擺錘30水平基準部300對手軸31中心共點P水平薄光發生模塊4扇形光學發生器40水平薄狀指向光400暗區401座體41垂直薄光發生模塊5扇形光學發生器50 聯結座51垂直薄狀指向光500磁通封閉器6 回路60永磁體61、62 限位裝置7 撥桿71被動桿7具體實施方式有關本技術的工作原理及構件組成，請參閱圖式說明如下首先請參閱圖5所示，本技術之水平儀100為可發生水平薄狀指向光400或同時發生垂直薄狀指向光500的雷射光學水平指向儀器，它是有一罩體14，上端發生水平薄狀指向光400與垂直薄狀指向光500，水平薄狀指向光400與垂直薄狀指向光500是從殼體13上端內部所設的水平薄光發生模塊4及垂直薄光發生模塊5所發生，其光學路徑為穿經罩體14的窗口 140，罩體14的水平輻向、等分設有多數的窗口 140，在水平薄狀指向光400的路徑上分別越過形成窗口 140的連接柱15本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種光學水平儀之中心共點歸納結構，其特征在于它包含有：一具有鉛直鏤空部之基架，上端兩側設有沿第一水平軸線互對之樞座；一萬向肘接臺，設有一肘環，通過中心設有水平對稱之二樞孔，二樞孔分別由二樞軸各別樞接在上述之樞座，再于肘環另側與二樞孔軸線呈90度角的平面，設有二互對的樞接座，二樞接座互對為第二水平軸線，第二水平軸線與第一水平軸線為同一水平面，并交叉出一中心共點；一擺桿，下端設有擺錘，上端經由一對手軸與上述二樞接座駁接；一水平薄光發生模塊，組合在上述擺桿的上端，所形成的水平薄狀指向光虛擬中心與上述中心共點為同點共構。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：彭克歐，
申請(專利權)人：彭克歐，紹興歐廣機電科技有限公司，
類型：實用新型
國別省市：