真空發生器制造技術

本實用新型專利技術公開了一種真空發生器，它包括排氣口、接受器噴嘴、氣室，氣流噴嘴，入口端，真空口和殼體，所述的殼體的兩端分別設有排氣口和入口端，所述的排氣口的一側設有接受器噴嘴，入口端的一側設有氣流噴嘴，氣流噴嘴的外側設有氣室，所述的氣室的一側設有真空口，所述的接受器噴嘴和氣流噴嘴的中間處設有間隙。該真空發生器通過使壓縮空氣進入氣流噴嘴，將氣流高速自噴嘴流出，產生吸氣效應，最終使壓縮空氣及吸入的空氣經接收器噴嘴排入大氣，該設計的真空發生器結構簡單，制造成本低，吸附容積小，響應時間短，表面泄露量小且耗氣量小。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
一種真空發生器，其特征在于：它包括排氣口（1）、接受器噴嘴（2）、氣室（4），氣流噴嘴（5），入口端（6），真空口（7）和殼體（8），所述的殼體（8）的兩端分別設有排氣口（1）和入口端（6），所述的排氣口（1）的一側設有接受器噴嘴（2），入口端（6）的一側設有氣流噴嘴（5），氣流噴嘴（5）的外側設有氣室（4），所述的氣室（4）的一側設有真空口（7），所述的接受器噴嘴（2）和氣流噴嘴（5）的中間處設有間隙（3）。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：吳玉文，
申請(專利權)人：太倉奧科機械設備有限公司，
類型：實用新型
國別省市：