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    一種三銀低輻射鍍膜玻璃制造技術(shù)

    技術(shù)編號(hào):8142746 閱讀:261 留言:0更新日期:2012-12-28 05:48
    本實(shí)用新型專利技術(shù)提供一種三銀低輻射鍍膜玻璃,包括依次設(shè)置的玻璃基片、第一復(fù)合電介質(zhì)層、第一阻擋層、第一銀層、第二復(fù)合電介質(zhì)層、第二銀層、第二阻擋層、第三復(fù)合電介質(zhì)層、第三阻擋層、第三銀層和第四復(fù)合電介質(zhì)層。本實(shí)用新型專利技術(shù)的三銀低輻射鍍膜玻璃,能夠有效改善節(jié)能效果,在有效增強(qiáng)遮陽(yáng)保溫效果的同時(shí)不降低采光需求。是低輻射節(jié)能玻璃在遮陽(yáng)技術(shù)上的一次新的突破,它是一種高效能、高性能的節(jié)能玻璃,它將可見光的射入與太陽(yáng)能的控制達(dá)到了最佳的匹配,它中性化的顏色更為設(shè)計(jì)師的創(chuàng)作帶來藝術(shù)的靈感。(*該技術(shù)在2022年保護(hù)過期,可自由使用*)

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

    本技術(shù)涉及一種離線鍍膜玻璃,特別是涉及一種三銀低輻射鍍膜玻璃
    技術(shù)介紹
    隨著全球環(huán)境問題的日趨嚴(yán)峻及人類物質(zhì)生活要求的日益增長(zhǎng),人們對(duì)建筑節(jié)能和居住的舒適性提出越來越高的要求,從而對(duì)鍍膜玻璃的性能要求也越來越高。離線單銀、雙銀低輻射LOWE玻璃使得現(xiàn)代建筑節(jié)能效果越來越好,但在一些高端要求中,即便雙銀亦不能滿足節(jié)能要求,這就要求我們開發(fā)出比雙銀性能更好的離線LOWE玻璃。
    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
    技術(shù)的目的是提供一種三銀低輻射鍍膜玻璃。為解決上述技術(shù)問題,本技術(shù)采用如下技術(shù)方案—種三銀低福射鍍膜玻璃,包括依次設(shè)置的玻璃基片、第一復(fù)合電介質(zhì)層、第一阻擋層、第一銀層、第二復(fù)合電介質(zhì)層、第二銀層、第二阻擋層、第三復(fù)合電介質(zhì)層、第三阻擋層、第三銀層和第四復(fù)合電介質(zhì)層。本技術(shù)的三銀低輻射鍍膜玻璃,能夠有效改善節(jié)能效果,在有效增強(qiáng)遮陽(yáng)保溫效果的同時(shí)不降低采光需求。是低輻射節(jié)能玻璃在遮陽(yáng)技術(shù)上的一次新的突破,它是一種高效能、高性能的節(jié)能玻璃,它將可見光的射入與太陽(yáng)能的控制達(dá)到了最佳的匹配,它中性化的顏色更為設(shè)計(jì)師的創(chuàng)作帶來藝術(shù)的靈感。在可見光透過率相同的情況下,它比單銀/雙銀Low-E玻璃具有更低的太陽(yáng)能透過率,即具有更低的遮陽(yáng)系數(shù)Sc。換句話說,它最大限度地將太陽(yáng)光過濾成為冷光源,解決了高可見光透過率與低太陽(yáng)能透過率不能兼顧的矛盾,為追求外觀通透性的設(shè)計(jì)提供了節(jié)能性的保障。這種Low-E玻璃更適合于我國(guó)的氣候特性,其綜合節(jié)能效果還優(yōu)于普通Low-E玻璃。附圖說明本技術(shù)的其它特征、特點(diǎn)、優(yōu)點(diǎn)和益處將通過以下結(jié)合附圖的詳細(xì)描述變得更加顯而易見。其中附圖I為本技術(shù)的三銀低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。具體實(shí)施方式下面,將結(jié)合附圖來詳細(xì)描述本技術(shù)的實(shí)施例。參考圖1,圖I是本技術(shù)實(shí)施例提供的一種三銀低輻射鍍膜玻璃。該三銀低福射鍍膜玻璃包括依次層疊設(shè)置的玻璃基片I、第一復(fù)合電介質(zhì)層2、第一阻擋層3、第一銀層4、第二復(fù)合電介質(zhì)層5、第二銀層6、第二阻擋層7、第三復(fù)合電介質(zhì)層8、第三阻擋層9、第三銀層10、和第四復(fù)合電介質(zhì)層11。第一復(fù)合電介質(zhì)層2由SiNx/ZnOx制成,膜層厚度為20_40nm。第一阻擋層3由NiCrOx制成,膜層厚度為l_5nm。第一銀層4由Ag平面祀派射而成,膜層厚度為l_5nm ;第二復(fù)合電介質(zhì)層5由ZnOx/SiNx制成,膜層厚度為30_50nm ;第二銀層6由Ag平面祀派射而成,膜層厚度為l_5nm ;第二阻擋層7由NiCrOx制成,膜層厚度為2_5nm ;第三復(fù)合電介質(zhì)層8 :由ZnOx/SiNx制成,膜層厚度為10_30nm ;第三阻擋層9由NiCrOx制成,膜層厚度為l_5nm ;第三銀層10由Ag平面祀派射而成,膜層厚度為l_5nm ;第四復(fù)合電介質(zhì)層11由ZnOx/SiNx制成,膜層厚度為20_40nm。以上內(nèi)容是結(jié)合具體的優(yōu)選實(shí)施方式對(duì)本技術(shù)所作的進(jìn)一步詳細(xì)說明,不能認(rèn)定本技術(shù)的具體實(shí)施只局限于這些說明。對(duì)于本技術(shù)所屬
    的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本技術(shù)構(gòu)思的前提下,作出具體的改變或變化均屬于本技術(shù)的保護(hù)范圍。本技術(shù)的三銀低輻射鍍膜玻璃,能夠有效改善節(jié)能效果,在有效增強(qiáng)遮陽(yáng)保溫效果的同時(shí)不降低采光需求。是低輻射節(jié)能玻璃在遮陽(yáng)技術(shù)上的一次新的突破,它是一種高效能、高性能的節(jié)能玻璃,它將可見光的射入與太陽(yáng)能的控制達(dá)到了最佳的匹配,它中性化的顏色更為設(shè)計(jì)師的創(chuàng)作帶來藝術(shù)的靈感。在可見光透過率相同的情況下,它比單銀/雙銀Low-E玻璃具有更低的太陽(yáng)能透過率,即具有更低的遮陽(yáng)系數(shù)Sc。換句話說,它最大限度地將太陽(yáng)光過濾成為冷光源,解決了高可見光透過率與低太陽(yáng)能透過率不能兼顧的矛盾,為追求外觀通透性的設(shè)計(jì)提供了節(jié)能性的保障。這種Low-E玻璃更適合于我國(guó)的氣候特性,其綜合節(jié)能效果還優(yōu)于普通Low-E玻璃。權(quán)利要求1.一種三銀低輻射鍍膜玻璃,其特征在于包括依次設(shè)置的玻璃基片、第一復(fù)合電介質(zhì)層、第一阻擋層、第一銀層、第二復(fù)合電介質(zhì)層、第二銀層、第二阻擋層、第三復(fù)合電介質(zhì)層、第三阻擋層、第三銀層和第四復(fù)合電介質(zhì)層。2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的三銀低輻射鍍膜玻璃,其特征在于所述第一復(fù)合電介質(zhì)膜層厚度為20-40nm。3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的三銀低輻射鍍膜玻璃,其特征在于所述第一阻擋層和第一銀層的I吳層厚度為2_10nm。4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的三銀低輻射鍍膜玻璃,其特征在于所述第二復(fù)合電介質(zhì)層膜層厚度為30-50nm。5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的三銀低輻射鍍膜玻璃,其特征在于所述第二銀層和第二阻擋層的膜層厚度為3-8nm。6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的三銀低輻射鍍膜玻璃,其特征在于所述第三復(fù)合電介質(zhì)層的膜層厚度為10-30nm.7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的三銀低輻射鍍膜玻璃,其特征在于所述第三阻擋層和第三銀層的膜層厚度為2-6nm.8.根據(jù)權(quán)利要求I所述的三銀低輻射鍍膜玻璃,其特征在于所述第四復(fù)合電介質(zhì)層的膜層厚度為20-40nm.專利摘要本技術(shù)提供一種三銀低輻射鍍膜玻璃,包括依次設(shè)置的玻璃基片、第一復(fù)合電介質(zhì)層、第一阻擋層、第一銀層、第二復(fù)合電介質(zhì)層、第二銀層、第二阻擋層、第三復(fù)合電介質(zhì)層、第三阻擋層、第三銀層和第四復(fù)合電介質(zhì)層。本技術(shù)的三銀低輻射鍍膜玻璃,能夠有效改善節(jié)能效果,在有效增強(qiáng)遮陽(yáng)保溫效果的同時(shí)不降低采光需求。是低輻射節(jié)能玻璃在遮陽(yáng)技術(shù)上的一次新的突破,它是一種高效能、高性能的節(jié)能玻璃,它將可見光的射入與太陽(yáng)能的控制達(dá)到了最佳的匹配,它中性化的顏色更為設(shè)計(jì)師的創(chuàng)作帶來藝術(shù)的靈感。文檔編號(hào)B32B9/04GK202626037SQ20122018118公開日2012年12月26日 申請(qǐng)日期2012年4月26日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月26日專利技術(shù)者楊宏斌, 李忠祥, 康延坡 申請(qǐng)人:北京物華天寶鍍膜科技有限公司本文檔來自技高網(wǎng)
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    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
    一種三銀低輻射鍍膜玻璃,其特征在于:包括依次設(shè)置的玻璃基片、第一復(fù)合電介質(zhì)層、第一阻擋層、第一銀層、第二復(fù)合電介質(zhì)層、第二銀層、第二阻擋層、第三復(fù)合電介質(zhì)層、第三阻擋層、第三銀層和第四復(fù)合電介質(zhì)層。

    【技術(shù)特征摘要】

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:楊宏斌李忠祥康延坡
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:北京物華天寶鍍膜科技有限公司
    類型:實(shí)用新型
    國(guó)別省市:

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