本發(fā)明專利技術(shù)涉及一種用于生產(chǎn)孔版的方法及此種孔版，在其上側(cè)具有設(shè)有多重版孔（12）的浮雕，所述浮雕的輪廓對應(yīng)所需的圖案。為了允許更高的浮雕高度并由此增加所施用圖案設(shè)計(jì)的自由度，提供有以下步驟：提供一種孔版體（10），其具有至少一個(gè)非穿孔的非金屬浮雕層（11），及根據(jù)所述圖案通過激光或等離子體輻射移除所述浮雕層（11）的材料以形成所述浮雕的多重版孔（12），至少在所述浮雕的所述版孔（12）的底部區(qū)域提供有從其上側(cè)延伸到相對的后側(cè)的貫通版孔）。由此方式獲得的具有孔版體（10）的孔版具有至少一個(gè)非金屬浮雕層（11），形成在其上側(cè)的設(shè)有多重版孔（12）的一種浮雕，所述浮雕的輪廓對應(yīng)所需的圖案，此處至少在所述浮雕的所述版孔（12）的底部區(qū)域提供有從其上側(cè)延伸到相對的后側(cè)的貫通版孔。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術(shù)】
本專利技術(shù)涉及用于生產(chǎn)穿孔的或部分穿孔的孔版(stencils)的ー種方法及此種孔版，該孔版在其上側(cè)具有設(shè)有多重版孔的浮雕，所述浮雕的輪廓對應(yīng)所需的圖案。
技術(shù)介紹
歐洲專利EP I 884 582 BI已披露一種用于生產(chǎn)孔版或絲網(wǎng)的方法，其中首先提供絲網(wǎng)體，具有多重從上側(cè)延伸到后側(cè)的貫通版孔。為了在上側(cè)形成浮雕，根據(jù)所需圖案通過化學(xué)エ藝蝕刻或激光輻射移除低洼區(qū)域或版孔(openings)處。所提供的設(shè)有多重貫通版孔的絲網(wǎng)體可原則上在此處由非金屬材料構(gòu)成，例如像塑料、陶瓷、天然樹脂或適于形成穩(wěn)定的片狀元件的漆材料、復(fù)合材料或其組合物，但此處僅描述由金屬制成的絲網(wǎng)體的生產(chǎn)，所述金屬例如鎳、銅或鋁、或其合金。美國專利US 2008/0193790 Al披露一種通過液體噴射粘接エ藝用于生產(chǎn)非制造布的篩式滾筒。所述篩式滾筒此處在其上側(cè)具有在其上施用的纖維材料、低洼區(qū)域或版孔、相應(yīng)于所需圖案的其輪廓。所述篩式滾筒分兩階段電鍍產(chǎn)生。第一階段中，產(chǎn)生設(shè)有多重貫通版孔的載體絲網(wǎng)。獲得所需厚度后，在第二階段，所述篩式滾筒的厚度僅在需要升起的區(qū)域進(jìn)ー步増加，以使出現(xiàn)低洼區(qū)域或版孔。所述浮雕的版孔的壁為稍微向外傾斜地。德國專利DE 10 2007 059 794 Al披露了一種用于生產(chǎn)絲網(wǎng)印刷孔版的方法，其中為了產(chǎn)生載體網(wǎng)格，自金屬載體基板的刮刀側(cè)從其上機(jī)加工出凹位。在后來的基板側(cè)上，被印刷的結(jié)構(gòu)然后以其他凹位的形式被機(jī)加工，以使用于糊狀絲網(wǎng)材料的版孔在所述兩側(cè)的凹位的前面形成，相遇在孔版體中。此處通過微蝕刻或激光切除來進(jìn)行所述孔版的生產(chǎn)。然而，此種生產(chǎn)方法僅允許有限的浮雕高度。在電鍍孔版的情況下，所述貫通版孔隨著厚度的増加會變得愈加狹窄也是不利的，這就更加限制了浮雕的高度。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
在此背景下，本專利技術(shù)基于提供一種其他用于生產(chǎn)孔版方法與改善的孔版的目的，使孔版允許更高的浮雕高度從而使所施用圖案設(shè)計(jì)的自由度更大。根據(jù)本專利技術(shù)的目的是通過權(quán)利要求I中所述的方法與權(quán)利要求13中所述的孔版來達(dá)到的。從屬權(quán)利要求中描述的是本專利技術(shù)優(yōu)選的與改善的方案。所以根據(jù)本專利技術(shù)，通過激光或等離子體輻射從具有非金屬材料的浮雕層的孔版體上通過移除材料以形成浮雕來生產(chǎn)ー種孔版。此處至少在浮雕的版孔的底部區(qū)域提供貫通版孔。根據(jù)施用情況及浮雕層的厚度，直接從浮雕層移除材料可很容易地允許浮雕高度高達(dá)幾毫米。激光或等離子體輻射的使用，特別是高能量密度的激光或等離子體輻射的使用為設(shè)有品種繁多的圖案應(yīng)用的孔版的設(shè)計(jì)提供了很大的自由度。特別地，用于產(chǎn)生所需圖案的設(shè)計(jì)的自由度通過實(shí)際使用輻射來構(gòu)建孔版得到改善，該孔版允許種類繁多的材料用于其制造。所以根據(jù)本專利技術(shù)，提供一種具有至少一個(gè)非金屬浮雕層，特別是非穿孔的層的孔版體，根據(jù)圖案通過激光或等離子體輻射移除所述浮雕層的材料從而形成浮雕的多重版孔，至少在所述浮雕的所述版孔的底部區(qū)域提供有從其上側(cè)延伸到相對的后側(cè)的貫通版孔。如果所述孔版體在所述浮雕層的后側(cè)沒有載體層或非穿孔金屬或非金屬載體層，則至少在所述浮雕的版孔的底部區(qū)域通過激光輻射將貫通版孔引入到所述孔版體。另一方面，如果所述孔版體具有穿孔的載體層，特別是一種金屬絲網(wǎng)，則在所述浮雕層的后側(cè)，至少在所述浮雕的版孔的底部區(qū)域通過將所述載體層中的所述版孔至少部分的暴露在激光或等離子體輻射中以形成貫通版孔，特別是位于所述浮雕的版孔的底部區(qū)域中的貫通版孔可通過完全移除所述浮雕層的暴露形式。通過合適的激光或等離子體輻射的所述貫通版孔的形成或暴露具有的優(yōu)點(diǎn)是所 述孔版體的整個(gè)程序能在一個(gè)或多于一個(gè)的步驟中在一個(gè)和相同程序的工位實(shí)施。此外，如有需要，例如在織造布或非織造布的水噴射粘接的情況下，有可能未形成圖案的版孔或穿孔通過激光輻射在所述浮雕的所述版孔外面的高原區(qū)域中被引入到所述浮雕層以形成貫通版孔，這些未形成圖案的版孔與所述載體層的所述版孔一致。然而，也有可能以在形狀、尺寸和/或排列上不同于所述載體層的所述版孔的方式形成未形成圖案的版孔或穿孔。以此種方式，為了有助于所述圖案的形成，所述孔版的滲透性能在不同的孔版或圖案區(qū)域不同地形成。如果通過激光輻射在所述版孔外面也移除所述浮雕層的材料，以使所述浮雕的版孔外面的高原區(qū)域具有不同的高度，則圖案變化的可能性會進(jìn)一步增加；此處，在高原高度相同的地方當(dāng)形成所述版孔時(shí)所述版孔的壁也可為相對于周圍的高原區(qū)域?yàn)閮A斜的、帶斜面的、圓角的或臺階形式的，這可通過調(diào)節(jié)所述輻射功率的密度來方便地實(shí)現(xiàn)。此外，所述版孔外面的高原區(qū)域的表面可提供有一種規(guī)則的、任意的或假隨機(jī)的微結(jié)構(gòu)。另外，所述高原區(qū)域的表面或所述浮雕層的整個(gè)暴露的表面提供有一種覆層，為了適應(yīng)表面的性質(zhì)從而獲得所需的應(yīng)用，該覆層優(yōu)選由金屬或合適的特氟隆(Teflons)構(gòu)成。此種覆層可以各種方式施用，其特別通過噴射或印刷技術(shù)化學(xué)地、電鍍地被施用。所以根據(jù)本專利技術(shù)的孔版具有至少一個(gè)非金屬浮雕層，在其上側(cè)形成有設(shè)有多重版孔的一種浮雕，所述浮雕的輪廓對應(yīng)所需的圖案，至少在所述浮雕的所述版孔的底部區(qū)域提供有從其上側(cè)延伸到相對的后側(cè)的貫通版孔。所述孔版體在所述浮雕層的后側(cè)方便地具有一種非穿孔的金屬或非金屬的載體層，其至少在所述浮雕的所述版孔的底部區(qū)域提供有貫通版孔。所述載體層此處可特別由玻璃纖維或碳纖維加強(qiáng)的金屬或非金屬構(gòu)成。也可提供一種穿孔的載體層，例如一種金屬絲網(wǎng)，其貫通版孔至少部分地暴露在所述浮雕的版孔的底部區(qū)域。如果所述浮雕層在所述浮雕的版孔外面的高原區(qū)域中具有通過激光輻射被引入的未形成圖案的貫通版孔或穿孔，使其與所述載體層的版孔一致是很方便的。然而，也可能所述未形成圖案的貫通版孔或穿孔在形狀、大小和/或排列上與所述載體層的版孔不同。通過所述金屬絲網(wǎng)能以電鍍方式產(chǎn)生的事實(shí)可知本專利技術(shù)的進(jìn)步是顯著的。如果使用的是金屬細(xì)網(wǎng)而不是電鍍金屬絲網(wǎng)，則其提供有電鍍的表面覆層是有利的。然而，也可以想到使用一種用不銹鋼制成的絲網(wǎng)。然而在表面有覆層的情況下，所述金屬絲網(wǎng)在壓縮負(fù)載下是特別穩(wěn)定的。為了進(jìn)一歩增加圖案設(shè)計(jì)的可能性，本專利技術(shù)的ー種便利的改進(jìn)提供了果樹浮雕的版孔外面的高原區(qū)域具有不同的高度，在孔版具有統(tǒng)ー高度的高原的圖案的情況下，所述版孔的壁相對于周圍的高原區(qū)域可為傾斜的、斜面的、圓角的或臺階形式的。為了適應(yīng)各自用途的所述孔版的表面性質(zhì)，所述版孔外面的高原區(qū)域的表面提供有一種規(guī)則的、任意的或假隨機(jī)的微結(jié)構(gòu)，和/或所述高原區(qū)域的表面或所述浮雕層的整個(gè)暴露的表面提供有ー種覆層。附圖說明下面結(jié)合附圖中表示的實(shí)施例示例對本專利技術(shù)進(jìn)行更詳細(xì)的說明。其中圖I示出根據(jù)本專利技術(shù)的ー種孔版的示意截面圖，該孔版僅在浮雕的版孔的底部區(qū)域被穿孔；圖2示出根據(jù)本專利技術(shù)的ー種孔版的示意截面圖，其中在載體層上形成的浮雕層在所述浮雕的版孔的底部區(qū)域僅被穿孔，即提供有貫通版孔；圖3示出根據(jù)本專利技術(shù)如圖I或2所示的ー種孔版的示意平面視圖；圖4示出根據(jù)本專利技術(shù)的ー種孔版的示意截面圖，與圖2相似，其中所述載體層形成為ー種絲網(wǎng)從而在其整個(gè)表面積上被穿孔；圖5示出根據(jù)本專利技術(shù)的ー種孔版的示意截面圖，與圖4相似，其中所述浮雕層的部分在所述浮雕的版孔的底部區(qū)域被保留；圖6示出根據(jù)本專利技術(shù)的ー種孔版的示意截面圖，與圖4相似，其中所述版孔外面的聞原區(qū)域具有不同的聞度；圖7示本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
【技術(shù)特征摘要】
【國外來華專利技術(shù)】1.一種用于生產(chǎn)孔版的方法，在其上側(cè)具有設(shè)有多重版孔(12)的浮雕(11)，所述浮雕的輪廓對應(yīng)所需的圖案，包括以下步驟 --提供一種孔版體(10)，其具有至少一個(gè)非金屬浮雕層(11)，及 --根據(jù)所述圖案通過激光或等離子體輻射移除所述浮雕層(11)的材料以形成所述浮雕的多重版孔(12)，至少在所述浮雕的所述版孔(12)的底部區(qū)域(13)提供有從其上側(cè)延伸到相對的后側(cè)的貫通版孔(14)。2.如權(quán)利要求I所述的方法，所述孔版體(10)在所述浮雕層的所述后側(cè)沒有載體層(15)或一種非穿孔金屬或非金屬載體層，從而使至少在所述浮雕的所述版孔(12)的底部區(qū)域(13)提供的所述貫通版孔(14)通過激光輻射被引入到所述孔版體(10)。3.如權(quán)利要求I所述的方法，所述孔版體(10)在所述浮雕層(11)的后側(cè)具有一種穿孔的載體層(15)，特別是一種金屬絲網(wǎng)，從而使至少在所述浮雕的所述版孔(12)的底部區(qū)域(13)提供的所述貫通版孔(14)通過所述載體層(15)中的所述版孔(14)至少部分地暴露于激光輻射而形成。4.如權(quán)利要求3所述的方法，在所述浮雕的所述版孔(12)的底部區(qū)域(13)中的所述貫通版孔(14)通過完全移除所述浮雕層(11)而暴露。5.如權(quán)利要求3或4所述的方法，未形成圖案的版孔或穿孔通過激光輻射在所述浮雕的所述版孔(12)外面的高原區(qū)域(16)中被引入到所述浮雕層(11)以形成貫通版孔(14)，這些未形成圖案的版孔與所述載體層(15)的所述版孔(14) 一致。6.如權(quán)利要求3或4所述的方法，未形成圖案的版孔或穿孔通過激光輻射在所述浮雕的所述版孔(12)外面的高原區(qū)域(16)中被引入到所述浮雕層(11)以形成貫通版孔(14)，這些未形成圖案的版孔與所述載體層(15)的所述版孔(14)在形狀、大小和/或排列上不同。7.如前述權(quán)利要求中的一項(xiàng)所述的方法，所述浮雕層(11)的材料在所述版孔(12)外面通過激光輻射也被移除，以使所述浮雕的所述版孔(12)外面的高原區(qū)域(16)具有不同的高度。8.如前述權(quán)利要求中的一項(xiàng)所述的方法，所述版孔(12)的壁在形成所述版孔(12)時(shí)相對于周圍的高原區(qū)域(16)為傾斜的、帶斜面的、圓角的或以臺階的形式形成的。9.如權(quán)利要求8所述的方法，所述版孔(12)與所述浮雕層(11)的所述高原區(qū)域(16)之間的過渡通過調(diào)節(jié)輻射功率密度形成傾斜的、帶斜面的、圓角的或臺階形式的。10.如前述權(quán)利要求中的一項(xiàng)所述的方法，所述版孔(12)外面的所述高原區(qū)域(16)的表面提供有一種規(guī)則...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：洛薩·韋弗斯，約瑟夫·約芬格，
申請(專利權(quán))人：斯托克印刷品奧地利有限公司，
類型：
國別省市：
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