包括光學活性區域和無光學活性區域的回射制品制造技術

本發明專利技術整體涉及回射制品和制備這種制品的方法。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術整體涉及回射制品和制備這種制品的方法。
技術介紹
回射材料的特征在于能夠將入射到材料上的光重新導向使其反射回初始光源。該性能已使回射片材廣泛用于多種交通和個人安全應用。回射片材常用于多種制品，例如交通標志、路障、牌照、路面標記和標志帶，以及車輛和衣物的反光帶。光學元件片材(例如，立體角片材)和微球基片材為兩種已知類型的回射片材。微球基片材(有時稱為“微珠”片材)采用大量微球，所述微球通常至少部分地嵌入粘合劑層中，并具有相關的鏡面反射或漫反射材料(例如，顏料粒子、金屬薄片或蒸鍍層等)以回射入·射光。立體角回射片材(有時稱為“棱柱”片材)通常包括薄的透明層，該透明層具有基本上平的第一表面和結構化第二表面，該結構化第二表面包括多個幾何結構，這些幾何結構的一些或全部包括構成立體角元件的三個反射表面。通常，立體角元件包括在單個頂點相交的三個相互垂直的光學面。通常，從光源入射至立體角元件的光從三個垂直的立體角光學面的每一個發生全內反射，并被重新導向返回至光源。存在于光學面上的例如灰塵、水、和粘合劑可抑制全內反射(TIR)并導致回射光強度的降低。這樣，空氣界面通常被密封膜所保護。然而，密封膜可減少總活性區域，所述總活性區域為其上可發生回射的區域。此外，密封膜增加制備成本。另外，密封方法可在回射片材中產生可見圖案，所述可見圖案不利于多種用途，例如，在牌照和/或其中通常優選較均勻外觀的商業圖形用途中的應用。金屬化立體角不依賴于回射光的TIR，但它們對于例如標記應用的日間觀察通常不足夠白。此外，金屬涂層的耐久性可能不充分。
技術實現思路
本專利申請的專利技術人已形成不具有密封膜和/或金屬化立體角的回射制品。本專利技術的回射制品的一些實施例包括一個或多個光學活性區域和一個或多個無光學活性區域，在所述一個或多個光學活性區域中通過包括(例如)立體角元件的結構化表面來回射入射光，在所述一個或多個無光學活性區域中結構化表面基本上不回射入射光。所述一個或多個光學活性區域包括鄰近結構化表面的一部分的低折射率層或材料。所述一個或多個無光學活性區域包括鄰近結構化表面的一部分的壓敏粘合劑。壓敏粘合劑顯著破壞結構化表面中與其直接相鄰的部分的回射性。低折射率層有助于通過在結構化表面和壓敏粘合劑之間形成“屏障”來保持相鄰結構化表面的回射性。本專利技術的回射制品的一些實施例包括位于壓敏粘合劑和低折射率層之間的屏障層。屏障層具有足夠的結構完整性以基本上防止壓敏粘合劑流入低折射率層內。包含在屏障層中的示例性材料包括樹脂、聚合物材料、油墨、染料、和乙烯樹脂。在一些實施例中，屏障層捕獲低折射率層中的低折射率材料。低折射率材料為具有小于I. 3的折射率的材料。本專利技術的一些實施例整體涉及回射制品，其包括回射層，所述回射層包括多個立體角元件，所述多個立體角元件共同形成與主表面相反的結構化表面；和密封層，所述密封層具有第一區域和第二區域，其中所述第二區域相對于所述第一區域凸起并且接觸所述結構化表面。本專利技術的一些實施例整體涉及回射制品，其包括回射層，所述回射層包括與主表面相反的結構化表面；和密封層，所述密封層具有第一區域和第二區域，其中所述第二區域相對于所述第一區域凸起并且接觸所述結構化表面以形成基本上不回射入射光的無光學活性區域；并且所述第一區域形成基本上回射入射光的光學活性區域。本專利技術的一些實施例整體涉及形成回射制品的方法，其包括提供包括與第二主表面相反的結構化表面的回射層；以及形成具有第一區域和第二區域的密封層，其中所述第二區域相對于所述第一區域凸起；以及將所述密封層附接至所述結構化表面以使得所述第二區域接觸所述結構化表面并且所述第一區域不接觸所述結構化表面。附圖說明 根據附圖并參照下文中多個實施例的具體實施方式，可以更全面地理解和領會本專利技術，其中圖IA和IB為本專利技術的回射制品的一個示例性實施例的示意性側視圖。圖2為形成圖I的回射制品的一個示例性中間步驟的示意圖。圖3為本專利技術的回射制品的一個示例性實施例的示意圖。圖4A和4B為用于實例11-13中的圖案的示意圖。圖5為本專利技術的回射制品的一個示例性實施例的示意圖。圖6為用于實例1-6中的圖案的示意圖。圖7A和7B為示出觀測角相對標準型轎車的左和右前照燈的距離的圖線。圖8為用于實例14-19中的圖案的示意圖。圖9為用于實例14-19中的圖案的示意圖。具體實施例方式圖IA和IB示出了面向觀察者102的回射制品100的一個示例性實施例。回射制品100包括回射層110,所述回射層110包括多個立體角元件112,所述多個立體角元件112共同形成與主表面116相對的結構化表面114。回射層110還包括覆蓋層118。壓敏粘合劑層130與回射層110相鄰。壓敏粘合劑層130包括壓敏粘合劑132、一個或多個屏障層134、和襯片136。屏障層134具有足夠的結構完整性以防止壓敏粘合劑132流入位于結構化表面114和屏障層134之間的低折射率層138內。屏障層134可與立體角元件112的尖端直接接觸或間隔開或者可輕微地推壓到立體角元件112的尖端內。當存在時，屏障層134形成壓敏粘合劑130和立體角元件112之間的物理“屏障”。屏障層可防止壓敏粘合劑在回射制品的初始制備期間或者隨時間推移因該粘合劑的粘彈性特性而潤濕立體角尖端或表面。壓敏粘合劑130和立體角元件112之間的捕獲層為低折射率層138。低折射率層因而為封閉的。如果對其施用保護層，則低折射率層為包封的。低折射率層的包封保持和/或保護低折射率層的完整性。屏障層的存在允許結構化表面114中的與低折射率層138和/或屏障層134相鄰的部分回射入射光150。屏障層134還可防止壓敏粘合劑130潤濕立體角片材。未與屏障層134接觸的壓敏粘合劑130粘附至立體角元件，由此有效地密封回射區域以形成光學活性區域或單元。壓敏粘合劑130還將整個回射構造保持在一起，由此消除對于單獨密封膜和密封過程的需要。在一些實施例中，壓敏粘合劑緊密接觸或直接鄰近立體角元件的結構化表面。如圖IB所示，入射到與低折射率層138相鄰的立體角元件112上的光線150被回射返回到觀察者102。為此原因，回射制品100的包括低折射率層138的區域被稱為光學活性區域。相比之下，回射制品100的不包括低折射率層 138的區域被稱為無光學活性區域，因為其基本上不回射入射光。低折射率層138包括折射率低于約I. 30、低于約I. 25、低于約I. 2、低于約I. 15、低于約I. 10、或低于約I. 05的材料。示例性的低折射率材料包括空 氣和低折射率材料(如，美國專利申請No. 61/324，249中所述的低折射率材料，該專利申請以引用方式并入本文)。通常，防止壓敏粘合劑接觸立體角元件112或者流入或蠕動到低折射率層138內的任何材料可用于屏障層134中。可用于阻擋層134中的示例性材料包括樹脂、聚合物材料、染料、油墨、乙烯樹脂、無機材料、UV固化型聚合物、顏料、粒子、和小珠。屏障層的尺寸和間距可進行改變。在一些實施例中，屏障層可在回射片材上形成圖案。在一些實施例中，可希望降低片材上的圖案的可見度。通常，任何所需的圖案可通過所述的技術的組合產生，包括例如標記，如字母、單詞、字母數字、符號、或甚至圖畫。圖案也可為連續的、不本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】1.一種回射制品，包括 回射層，所述回射層包括多個立體角元件，所述多個立體角元件共同形成與主表面相反的結構化表面；和 密封層，所述密封層具有第一區域 和第二區域，其中所述第二區域相對于所述第一區域凸起并且接觸所述結構化表面。2.根據權利要求I所述的回射制品，包括位于所述密封層的第一區域和所述回射層的結構化表面之間的低折射率層。3.根據權利要求2所述的回射制品，其中所述低折射率層包括空氣或低折射率材料中的至少一者。4.根據權利要求I所述的回射制品，其中所述密封層包括熱塑性聚合物、熱活化粘合齊U、壓敏粘合劑、低聚可交聯材料、和輻射固化型可交聯聚合物中的至少一種。5.根據權利要求I所述的回射制品，其中所述第二區域包繞所述第一區域以形成至少一個單元。6.根據權利要求I所述的回射制品，其中所述密封層的第二區域與所述結構化表面緊密接觸。7.根據權利要求I所述的回射制品，其中所述回射層包括基體部分，所述立體角元件形成在所述基體部分上。8.根據權利要求I所述的回射制品，其還包括形成圖案的多個第二區域。9.根據權利要求7所述的回射制品，其中所述圖案為不規則圖案、規則圖案、網格、單詞、圖形、圖像、線條、和形成單元的交叉區域中的一種。10.一種回射制品，包括 回射層，所述回射層包括與主表面相反的結構化表面； 密封層，所述密封層具有第一區域和第二區域，其中所述第二區域相對于所述第一區域凸起并且接觸所述結構化表面以形成基本上不回射入射光的無光學活性區域；并且所述第一區域形成基本上回射入射光的光學活性區域。11.根據權利要求10所述的回射制品，包括位于所述密封層的第一區域和所述回射層的結構化表面之間的低折射率層。12.根據權利要求11所述的回射制品，其中所述低折射率層包括空氣或低折射率材料中的至少一者。13.根據權利要求10所述的回射制品，其中所述密封層包括熱塑性聚合物、熱活化粘合劑、壓敏粘合劑、低聚可交聯材料、和輻射固化型可交聯聚合物中的至少一種。14.根據權利要求10所述的回射制品，其中所述密封層包繞所述第一區域以形成至少一個單元。15.根據權利要求10所述的回射制品，其中所述密封層的第二區域與所述結構化表面緊密接觸。16.根據權利要求10所述的回射制品，其中所述回射層包括基體部分，所述立體角元件形成在所述基體部分上。17.根據權利要求10所述的回射制品，其還包括形成圖案的多個第二區域。18.根據權利要求10所述的回射制品，其中所述圖案為不規則圖案、規則圖案、網格、單詞、圖形、圖像、線條、和形成單元的交叉區域中的一種。19.根據權利要求14所述的回射制品，其中所述單元具有小于1000微米的單元尺寸。20.根據權利要求10所述的回射制品，其中所述低折射率區域包括低折射率材料和空氣中的至少一者。21.根據權利要求10所述的回射制品，其中對于2.O度的觀測角和-4度的入射角，所述結構化表面顯示具有不小于約Scpl的回射系數RA。22.根據權利要求10所述的回射制品，其中對于-4度的入射角和2度的觀測角，所述結構化表面顯示具有不小于約3%/度的％RT斜率。23.根據權利要求10所述的回射制品，包括多個光學活性區域和多個無光學活性區域，并且所述無光學活性區域和光學活性區域中的至少一些形成圖案。24.根據權利要求10所述的回射制品，其中對于-4度入射角的入射可見光，所述結構化表面顯示具有不小于約5%的總光返回率。25.根據權利要...

【專利技術屬性】
技術研發人員：邁克爾·本頓·弗里，米奇斯瓦夫·H·馬祖雷克，比馬爾·V·塔卡爾，肯尼思·L·史密斯，蘇曼·K·帕特爾，威廉·D·科焦，米哈伊爾·L·佩庫洛夫斯基，雷蒙德·C·基烏，
申請(專利權)人：三M創新有限公司，
類型：
國別省市：