光電池濕制程中廢物體系的回收系統(tǒng)技術(shù)方案

本實(shí)用新型專(zhuān)利技術(shù)涉及光電池濕制程中廢物體系的回收系統(tǒng)，所述回收系統(tǒng)系與硅片蝕刻設(shè)備及清洗設(shè)備相配合以對(duì)廢物體系進(jìn)行回收處理，其包括與所述清洗設(shè)備流體相通的第一緩沖水箱、與所述第一緩沖水箱流體相通的第一循環(huán)水箱、與所述第一循環(huán)水箱流體相通的電滲析設(shè)備，以及與所述電滲析設(shè)備流體相通的反滲透設(shè)備。采用本實(shí)用新型專(zhuān)利技術(shù)的回收系統(tǒng)能夠?qū)怆姵貪裰瞥讨袕U物體系進(jìn)行處理，有利于環(huán)境保護(hù)和資源的充分利用。（*該技術(shù)在2022年保護(hù)過(guò)期，可自由使用*）

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本技術(shù)涉及廢物體系的回收系統(tǒng)，具體涉及光電池濕制程中廢物體系的回收系統(tǒng)。
技術(shù)介紹
在傳統(tǒng)太陽(yáng)能電池片的蝕刻(制絨或者刻蝕)工藝中，太陽(yáng)能電池硅片要經(jīng)過(guò)至少一個(gè)化學(xué)品槽。太陽(yáng)能電池硅片經(jīng)過(guò)一個(gè)化學(xué)品槽處理后必須經(jīng)過(guò)純水清洗才能進(jìn)入下一個(gè)化學(xué)品槽，以免污染下一道工藝，最終影響產(chǎn)品的質(zhì)量。 時(shí)大量噴淋水必須得到更換，因此產(chǎn)生較大體積的含化學(xué)品的污水。如果將這些污水排放，不僅會(huì)加重環(huán)境保護(hù)的負(fù)擔(dān)，還會(huì)造成資源的浪費(fèi)。希望有一種回收系統(tǒng)，能夠?qū)怆姵貪裰瞥虖U物體系進(jìn)行處理，以有利于環(huán)境保護(hù)和資源的充分利用。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本技術(shù)要解決的技術(shù)問(wèn)題是，提供光電池濕制程中廢物體系的回收系統(tǒng)，用于對(duì)光電池濕制程中廢物體系進(jìn)行處理，以有利于環(huán)境保護(hù)和資源的充分利用。為解決以上技術(shù)問(wèn)題，本技術(shù)的一方面提供一種光電池濕制程中廢物體系的回收系統(tǒng)，系與硅片蝕刻設(shè)備及清洗設(shè)備相配合以對(duì)廢物體系進(jìn)行回收處理，其包括與所述清洗設(shè)備流體相通的第一緩沖水箱、與所述第一緩沖水箱流體相通的第一循環(huán)水箱、與所述第一循環(huán)水箱流體相通的電滲析設(shè)備，以及與所述電滲析設(shè)備流體相通的反滲透設(shè)備。進(jìn)一步地，所述第一循環(huán)水箱同時(shí)與所述反滲透設(shè)備流體相通。進(jìn)一步地，所述第一緩沖水箱和第一循環(huán)水箱之間通過(guò)一第二緩沖水箱流體相通，同時(shí)所述反滲透設(shè)備與所述第二緩沖水箱流體相通。進(jìn)一步地，所述電滲析設(shè)備包括依次流體相通的第一電滲析單元、第二電滲析單元及第三電滲析單元。進(jìn)一步地，所述第一電滲析單元和第二電滲析單元之間通過(guò)一第二循環(huán)水箱流體相通，所述第二電滲析單元和第三電滲析單元之間通過(guò)一第三循環(huán)水箱流體相通。進(jìn)一步地，所述第三電滲析單元與所述蝕刻設(shè)備流體循環(huán)相通。進(jìn)一步地，所述回收系統(tǒng)進(jìn)一步包括與所述電滲析設(shè)備相配合以吸收氣體的氣體洗滌設(shè)備，所述氣體洗滌設(shè)備包括分別和所述第一電滲析單元流體循環(huán)的第一氣體凈化器、和所述第二電滲析單元流體循環(huán)的第二氣體凈化器及和所述第三電滲析單元流體循環(huán)的第三氣體凈化器。進(jìn)一步地，所述回收系統(tǒng)進(jìn)一步包括與所述電滲析設(shè)備相配合以吸收氣體的氣體洗滌設(shè)備。進(jìn)一步地，所述回收系統(tǒng)進(jìn)一步包括與所述反滲透設(shè)備流體相通的第三緩沖水箱以?xún)?chǔ)存經(jīng)純化后的清洗液。進(jìn)一步地，于所述清洗設(shè)備及第一緩沖水箱之間設(shè)有過(guò)濾設(shè)備。本技術(shù)的另一方面提供一種光電池濕制程中廢物體系的回收系統(tǒng)，所述廢物體系來(lái)自用于對(duì)硅片進(jìn)行蝕刻的蝕刻設(shè)備和用于對(duì)硅片進(jìn)行清洗的清洗設(shè)備，所述回收系統(tǒng)與所述蝕刻設(shè)備流體相通的電滲析設(shè)備，以及分別與所述電滲析設(shè)備和清洗設(shè)備流體相通的反滲透設(shè)備，其中所述電滲析設(shè)備包括依次串聯(lián)流體相通的兩個(gè)或更多個(gè)電滲析單元，其中每一個(gè)電滲析單元與一個(gè)循環(huán)水箱流體相通并通過(guò)循環(huán)水箱與相鄰的電滲析單元形成循環(huán)回路，且一端的一個(gè)電滲析單元通過(guò)與之流體相通的循環(huán)水箱與所述反滲透設(shè)備流體相通，而另一端的一個(gè)電滲析單元與所述蝕刻設(shè)備流體相通。進(jìn)一步地，所述回收系統(tǒng)包括置于所述反滲透設(shè)備與清洗設(shè)備之間的過(guò)濾設(shè)備。 進(jìn)一步地，所述回收系統(tǒng)還包括置于所述過(guò)濾設(shè)備和反滲透設(shè)備之間的第一緩沖水箱，優(yōu)選其包括置于所述過(guò)濾設(shè)備和反滲透設(shè)備之間的彼此串聯(lián)流體相通的第一緩沖水箱和第二緩沖水箱。進(jìn)一步地，所述回收系統(tǒng)還包括與所述反滲透設(shè)備流體相通的第三緩沖水箱以?xún)?chǔ)存純化后的清洗液。進(jìn)一步地，所述回收系統(tǒng)還包括與所述蝕刻設(shè)備和電滲析設(shè)備流體相通的氣體洗滌設(shè)備，所述電滲析設(shè)備與所述氣體洗滌設(shè)備相配合以吸收氣體。更進(jìn)一步地，所述氣體洗滌設(shè)備包括分別與所述兩個(gè)或更多個(gè)電滲析單元中的每一個(gè)形成循環(huán)回路的兩個(gè)或更多個(gè)氣體凈化器。進(jìn)一步地，所述清洗設(shè)備中設(shè)置有浸潰處理段或噴嘴，優(yōu)選清洗設(shè)備中同時(shí)設(shè)置有浸潰處理段和噴嘴。進(jìn)一步地,所述反滲透設(shè)備中有濃水室和純水室。本技術(shù)的回收系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)硅片清洗液的有效回收，從而可節(jié)省成本。同時(shí)，本回收系統(tǒng)亦實(shí)現(xiàn)化學(xué)物質(zhì)如酸和堿的回收，即節(jié)省成本又可防止排放導(dǎo)致的環(huán)境污染?？偟貋?lái)說(shuō)，本回收系統(tǒng)能夠?qū)怆姵貪裰瞥讨袕U物體系進(jìn)行處理，有利于環(huán)境保護(hù)和資源的充分利用。附圖說(shuō)明參照附圖，本技術(shù)的公開(kāi)內(nèi)容將變得更易理解。本領(lǐng)域技術(shù)人員容易理解的是附圖僅僅用于舉例說(shuō)明本技術(shù)的技術(shù)方案，而并非意在對(duì)本技術(shù)的保護(hù)范圍構(gòu)成限制，其中圖I是本技術(shù)光電池濕制程中廢物體系的回收系統(tǒng)的示意圖，其中使用了如下編號(hào)權(quán)利要求1.一種光電池濕制程中廢物體系的回收系統(tǒng)，系與硅片蝕刻設(shè)備及清洗設(shè)備相配合以對(duì)廢物體系進(jìn)行回收處理，其特征在于其包括與所述清洗設(shè)備流體相通的第一緩沖水箱、與所述第一緩沖水箱流體相通的第一循環(huán)水箱、與所述第一循環(huán)水箱流體相通的電滲析設(shè)備，以及與所述電滲析設(shè)備流體相通的反滲透設(shè)備。2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的回收系統(tǒng)，其特征在于所述第一循環(huán)水箱同時(shí)與所述反滲透設(shè)備流體相通。3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的回收系統(tǒng)，其特征在于所述第一緩沖水箱和第一循環(huán)水箱之間通過(guò)一第二緩沖水箱流體相通，同時(shí)所述反滲透設(shè)備與所述第二緩沖水箱流體相通。4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的回收系統(tǒng)，其特征在于所述電滲析設(shè)備包括依次流體相通的第一電滲析單元、第二電滲析單元及第三電滲析單元。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的回收系統(tǒng)，其特征在于所述第一電滲析單元和第二電滲析單元之間通過(guò)一第二循環(huán)水箱流體相通，所述第二電滲析單元和第三電滲析單元之間通過(guò)一第三循環(huán)水箱流體相通。6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的回收系統(tǒng)，其特征在于所述第三電滲析單元與所述蝕刻設(shè)備流體循環(huán)相通。7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的回收系統(tǒng)，其特征在于其進(jìn)一步包括與所述電滲析設(shè)備相配合以吸收氣體的氣體洗滌設(shè)備，所述氣體洗滌設(shè)備包括分別和所述第一電滲析單元流體循環(huán)的第一氣體凈化器、和所述第二電滲析單元流體循環(huán)的第二氣體凈化器及和所述第三電滲析單元流體循環(huán)的第三氣體凈化器。8.根據(jù)權(quán)利要求I所述的回收系統(tǒng)，其特征在于其進(jìn)一步包括與所述電滲析設(shè)備相配合以吸收氣體的氣體洗滌設(shè)備。9.根據(jù)權(quán)利要求I所述的回收系統(tǒng)，其特征在于其進(jìn)一步包括與所述反滲透設(shè)備流體相通的第三緩沖水箱以?xún)?chǔ)存經(jīng)純化后的清洗液。10.根據(jù)權(quán)利要求I所述的回收系統(tǒng)，其特征在于于所述清洗設(shè)備及第一緩沖水箱之間設(shè)有過(guò)濾設(shè)備。11.一種光電池濕制程中廢物體系的回收系統(tǒng)，所述廢物體系來(lái)自用于對(duì)硅片進(jìn)行蝕刻的蝕刻設(shè)備和用于對(duì)硅片進(jìn)行清洗的清洗設(shè)備，其特征在于所述回收系統(tǒng)包括與所述蝕刻設(shè)備流體相通的電滲析設(shè)備，以及分別與所述電滲析設(shè)備和清洗設(shè)備流體相通的反滲透設(shè)備，其中所述電滲析設(shè)備包括依次串聯(lián)流體相通的兩個(gè)或更多個(gè)電滲析單元，其中每一個(gè)電滲析單元與一個(gè)循環(huán)水箱流體相通并通過(guò)循環(huán)水箱與相鄰的電滲析單元形成循環(huán)回路，且一端的一個(gè)電滲析單元通過(guò)與之流體相通的循環(huán)水箱與所述反滲透設(shè)備流體相通，而另一端的一個(gè)電滲析單元與所述蝕刻設(shè)備流體相通。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的回收系統(tǒng)，其特征在于其還包括置于所述反滲透設(shè)備與清洗設(shè)備之間的過(guò)濾設(shè)備。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的回收系統(tǒng)，其特征在于其還包括置于所述過(guò)濾設(shè)備和反滲透設(shè)備之間的第一緩沖水箱。14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的回收系統(tǒng)，其特征在于其還包括置于所述過(guò)濾設(shè)備和反滲透設(shè)備之間的彼此串聯(lián)流體相通的第一緩沖水箱和第二緩沖水箱。15.根據(jù)權(quán)利要求11至14中任一項(xiàng)所述的回收本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種光電池濕制程中廢物體系的回收系統(tǒng)，系與硅片蝕刻設(shè)備及清洗設(shè)備相配合以對(duì)廢物體系進(jìn)行回收處理，其特征在于：其包括與所述清洗設(shè)備流體相通的第一緩沖水箱、與所述第一緩沖水箱流體相通的第一循環(huán)水箱、與所述第一循環(huán)水箱流體相通的電滲析設(shè)備，以及與所述電滲析設(shè)備流體相通的反滲透設(shè)備。

【技術(shù)特征摘要】

【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：施道可，范瓊，潘加永，
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人：庫(kù)特勒自動(dòng)化系統(tǒng)蘇州有限公司，
類(lèi)型：實(shí)用新型
國(guó)別省市：