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    晶體硅太陽能電池的板式PECVD鍍膜的在線吹掃裝置制造方法及圖紙

    技術(shù)編號:8117138 閱讀:297 留言:0更新日期:2012-12-22 08:06
    本實用新型專利技術(shù)公開一種晶體硅太陽能電池的板式PECVD鍍膜的在線吹掃裝置,其特征在于,包括壓力調(diào)節(jié)閥(1)、連接管路(2)及風(fēng)刀(3),所述風(fēng)刀(3)為中空結(jié)構(gòu),且截面為梯形,所述連接管路(2)的兩端分別和氣源(4)及所述風(fēng)刀(3)下底面的進氣口連接,所述連接管路(2)上設(shè)置有所述壓力調(diào)節(jié)閥(1),所述風(fēng)刀(3)的上底面均勻設(shè)置有若干吹掃氣孔,所述風(fēng)刀(3)上底面的寬度與大于或等于待吹掃石墨載板的寬度;本實用新型專利技術(shù)解決了沉積在硅片上表面的氮化硅粉塵在硅片疊放時玷污到硅片鍍膜面,導(dǎo)致鍍膜面氮化硅粉塵難以清除的問題。(*該技術(shù)在2022年保護過期,可自由使用*)

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

    本技術(shù)涉及一種晶體硅太陽能電池PECVD工序板式鍍膜設(shè)備,具體涉及一種晶體硅太陽能電池的板式PECVD鍍膜的在線吹掃裝置
    技術(shù)介紹
    太陽能作為一種清潔、可再生的能源,對它的利用一直被人們所關(guān)注。晶體硅太陽電池作為目前太陽能電池的主流,如何降低太陽能電池的成本,提高效率成為國內(nèi)外晶體硅太陽能電池研究的重點。在生產(chǎn)晶體硅太陽能電池的過程中, 硅片在鍍膜后疊放時鍍膜面存在著容易被氮化硅粉塵玷污,導(dǎo)致鍍膜面氮化硅粉塵難以清除的問題,不便于后序操作,增加了人力成本。
    技術(shù)實現(xiàn)思路
    技術(shù)目的本技術(shù)的目的是為了更好的解決鍍膜后硅片疊放時鍍膜面容易被粉塵玷污的問題,提供一種方便快捷的吹掃系統(tǒng),便于后序操作,節(jié)約人力成本。技術(shù)方案本技術(shù)所述的一種晶體硅太陽能電池的板式PECVD鍍膜的在線吹掃裝置,包括壓力調(diào)節(jié)閥、連接管路及風(fēng)刀,所述風(fēng)刀為中空結(jié)構(gòu),且截面為梯形,所述連接管路的兩端分別和氣源及風(fēng)刀下底面的進氣口連接,所述壓力調(diào)節(jié)閥設(shè)置在所述連接管路上,所述風(fēng)刀的上底面均勻設(shè)置有若干吹掃氣孔,所述風(fēng)刀上底面的寬度與大于或等于待吹掃石墨載板的寬度。進一步,所述風(fēng)刀上底面的氣孔分為三排,各排均勻排布,氣孔直徑為O. 1cm,氣孔間隔為O. 3cm。進一步,所述風(fēng)刀的長度與待吹掃石墨載板的長度相等。進一步,所述風(fēng)刀的材質(zhì)為聚四氟乙烯。為了保證了氣體在傳輸過程不受到任何污染,所述連接管路為二分之一英寸不銹鋼管。本裝置在不改變原有設(shè)備和工藝的前提下,在設(shè)備出料腔后安裝風(fēng)刀,上述的風(fēng)刀采用壓縮空氣做氣源,直接放置于工藝腔尾部,待吹掃石墨載板出口正上方,氣孔吹掃方向與待吹掃石墨載板成45°夾角。本技術(shù)與現(xiàn)有技術(shù)相比,其有益效果是1、解決了沉積在硅片上表面的氮化硅粉塵在硅片疊放時玷污到硅片鍍膜面,導(dǎo)致鍍膜面氮化硅粉塵難以清除的問題;2、本吹掃裝置安裝簡單,無需對原有設(shè)備進行更改,節(jié)約空間;3、本吹掃裝置以壓縮空氣為氣源,無需單獨安裝輸送管路,可直接與其它設(shè)備的壓縮空氣管路共用;4、獨特的風(fēng)刀氣孔設(shè)計使吹掃氣體形成穩(wěn)定、均勻的氣流,對PECVD載板及載板上的硅片進行吹掃,清除其表面的氮化硅粉塵,防止由于粉塵而污染、劃傷硅片表面。附圖說明圖I為本技術(shù)的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為所述風(fēng)刀的結(jié)構(gòu)示意圖。具體實施方式下面對本技術(shù)技術(shù)方案進行詳細說明,但是本技術(shù)的保護范圍不局限于所述實施例。如圖I所示為一種晶體硅太陽能電池的板式PECVD鍍膜的在線吹掃裝置,包括壓力調(diào)節(jié)閥I、連接管路2及風(fēng)刀3,所述風(fēng)刀3采用聚四氟乙烯制作而成,所述連接管路2為二分之一英寸不銹鋼管,保障了吹掃裝置的氣密性及氣源輸出的穩(wěn)定性,所述風(fēng)刀3為中空結(jié)構(gòu),且截面為梯形,所述連接管路2的兩端分別和氣源4及風(fēng)刀3下底面的進氣口連接,所述壓力調(diào)節(jié)閥I設(shè)置在所述連接管路2上,壓力調(diào)節(jié)閥I可調(diào)節(jié)進入吹掃裝置的壓縮空氣壓力,防止壓力過小不能將載板以及硅片上掉落的氮化硅粉塵清除,以及由于壓力過大而使硅片損壞或移位,所述風(fēng)刀3的上底面均勻設(shè)置有三排吹掃氣孔,氣孔直徑為 O. 1cm,氣孔間隔為O. 3cm,保證壓縮空氣形成均勻、穩(wěn)定的氣流,防止由于氣流不均勻引起的碎片、翹片,所述風(fēng)刀3上底面的寬度與長度與待吹掃石墨載板的寬度與長度相等。硅片經(jīng)過鍍膜后從下料腔傳出,在其傳出位置安裝此吹掃裝置,所述風(fēng)刀3安裝于石墨載板出口正上方10-20cm處,風(fēng)刀3與石墨載板保持平行,氣孔吹掃方向與石墨載板行進方向成45°,將該吹掃裝置固定與設(shè)備出口處,壓縮空氣的輸出口與連接管路2相連,氣體經(jīng)壓力調(diào)節(jié)閥I輸送至風(fēng)刀3,氣體經(jīng)風(fēng)刀3均勻吹向石墨載板,達到在石墨載板的傳輸過程中清除其表面的氮化硅粉塵的目的。如上所述,盡管參照特定的優(yōu)選實施例已經(jīng)表示和表述了本技術(shù),但其不得解釋為對本技術(shù)自身的限制。在不脫離所附權(quán)利要求定義的本技術(shù)的精神和范圍前提下,可對其在形式上和細節(jié)上作出各種變化。本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護點】
    一種晶體硅太陽能電池的板式PECVD鍍膜的在線吹掃裝置,其特征在于,包括壓力調(diào)節(jié)閥(1)、連接管路(2)及風(fēng)刀(3),所述風(fēng)刀(3)為中空結(jié)構(gòu),且截面為梯形,所述連接管路(2)的兩端分別和氣源(4)及所述風(fēng)刀(3)下底面的進氣口連接,所述壓力調(diào)節(jié)閥(1)設(shè)置在所述連接管路(2)上,所述風(fēng)刀(3)的上底面均勻設(shè)置有若干吹掃氣孔,所述風(fēng)刀(3)上底面的寬度大于或等于待吹掃石墨載板的寬度。

    【技術(shù)特征摘要】
    1.一種晶體硅太陽能電池的板式PECVD鍍膜的在線吹掃裝置,其特征在于,包括壓カ調(diào)節(jié)閥(I)、連接管路(2)及風(fēng)刀(3),所述風(fēng)刀(3)為中空結(jié)構(gòu),且截面為梯形,所述連接管路(2)的兩端分別和氣源(4)及所述風(fēng)刀(3)下底面的進氣ロ連接,所述壓カ調(diào)節(jié)閥(I)設(shè)置在所述連接管路(2)上,所述風(fēng)刀(3)的上底面均勻設(shè)置有若干吹掃氣孔,所述風(fēng)刀(3)上底面的寬度大于或等于待吹掃石墨載板的寬度。2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的晶體硅太陽能電池的板式PECVD鍍膜的在線吹掃裝置,其特征在于,...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:胡俊濤勾憲芳姜利凱王鵬曹華斌宋愛珍
    申請(專利權(quán))人:中節(jié)能太陽能科技有限公司
    類型:實用新型
    國別省市:

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