【技術實現步驟摘要】
本技術涉及烤爐部件
，尤其是ー種烤盤支撐柱。
技術介紹
現有烤爐的烤盤一般直接放置在底座上，烤盤與底座接觸面積較大，導致烤盤的熱量損失較嚴重，并且烤盤需要人為搬運離開熱源，目前還沒有用干支撐烤盤的支撐柱。
技術實現思路
本技術的目的是為了解決上述現有技術的不足而提供一種烤盤支撐柱，支撐烤盤的同時，接觸面積小。為了達到上述目的，本技術所設計的ー種烤盤支撐柱，其特征在于，它包括一中空柱體，所述的柱體中空內壁設有多條厚度一致的豎向凸起。將底部設有定位凸起的烤盤插入中空柱體內，使之支撐在柱體的頂面上,烤盤抵觸在柱體內的豎向凸起上,接觸面積小，減少熱量從烤盤流失到支撐柱上，降低熱量的損失。作為上述結構的進ー步完善和補充，本技術還包含以下附加技術特征或這些特征的任意組合所述的豎向凸起呈周向均布，烤盤支撐均衡，定位效果好。所述的豎向凸起呈弧形，烤盤和支撐柱的接觸面積更小。所述的柱體外壁設有上、下兩環形凸起，所述的兩環形凸起之間形成一環形槽，支撐柱可設置在ー軌道上進行滑動，上下定位，定位效果好，并且還可旋轉，滿足烤盤在使用時可移動和旋轉的需求。所述的上環形凸起位于柱體的中間處，所述的下環形凸起位于柱體的下端，烤盤支撐在柱體的上頂面上，上環形凸起支撐在軌道上，即可留出從上環形凸起到上頂面長度的懸空段，減少烤盤與軌道的熱量傳遞。所述上環形凸起的突出長度大于所述下環形凸起的突出長度，起到定位作用的下環形凸起環形面積可小于起到支撐作用的上環形凸起，減少耗材，降低成本。本技術得到的ー種烤盤支撐柱，通過在中空內壁設置用于抵觸烤盤的豎向凸起，減小烤盤與支撐柱的接觸面積，從而減少熱量從烤...
【技術保護點】
一種烤盤支撐柱，其特征在于，它包括一中空柱體（1），所述的柱體（1）中空內壁設有多條厚度一致的豎向凸起（5）。
【技術特征摘要】
1.一種烤盤支撐柱，其特征在于，它包括一中空柱體(1)，所述的柱體(I)中空內壁設有多條厚度一致的豎向凸起(5)。2.根據權利要求I所述的一種烤盤支撐柱，其特征是所述的豎向凸起(5)呈周向均布。3.根據權利要求I或2所述的一種烤盤支撐柱，其特征是所述的豎向凸起(5)呈弧形。4.根據權利要求I或2所述的一種烤盤支撐柱，其特征是所述的柱體(...
【專利技術屬性】
技術研發人員：李琎熙，
申請(專利權)人：浙江好玩家居用品有限公司，
類型：實用新型
國別省市：
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