一種介質(zhì)導(dǎo)電膜、制備方法及電致變色后視鏡技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)提供一種介質(zhì)導(dǎo)電膜，所述介質(zhì)導(dǎo)電膜包括透明導(dǎo)電層、若干個第一介質(zhì)層和若干個第二介質(zhì)層，所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層交替層疊排列形成介質(zhì)膜層，該介質(zhì)膜層上形成有透明導(dǎo)電層，所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層的材料為無機物，且第一介質(zhì)層的折射率大于2.1，第二介質(zhì)層的折射率小于1.6。本發(fā)明專利技術(shù)還提供一種介質(zhì)導(dǎo)電膜的制備方法和電致變色后視鏡。本發(fā)明專利技術(shù)中，所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層交替層疊排列形成介質(zhì)膜層，所述介質(zhì)膜層即為多層結(jié)構(gòu)組成，對光的吸收較少，形成較高的反射率；同時，所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層的材料為無機物，因而制作成電致變色裝置時能夠防止與電致變色溶液接觸時發(fā)生腐蝕反應(yīng)，具有很好的穩(wěn)定性。

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

本專利技術(shù)屬于防眩后視鏡領(lǐng)域，尤其涉及一種防眩后視鏡用的介質(zhì)導(dǎo)電膜、制備方法及電致變色后視鏡。
技術(shù)介紹
目前應(yīng)用最為有效的電致變色防眩后視鏡，是在后視鏡中裝設(shè)一種電致變色組件，通過通電使電致變色溶液變色，導(dǎo)致后視鏡的反射率降低，進而達到防眩光的目的。現(xiàn)有電致變色后視鏡的一般結(jié)構(gòu)包括相對配置的第一基片和第二基片，所述第一基片相對于第二基片的表面設(shè)有導(dǎo)電反射膜，所述第二基片相對于第一基片的表面設(shè)有透明導(dǎo)電膜，所述導(dǎo)電反射膜和透明導(dǎo)電膜的周邊緣設(shè)有邊框膠，所述導(dǎo)電反射膜、透明導(dǎo)電膜和邊框膠形成的空腔中容納有電致變色溶液。其中，所述導(dǎo)電反射膜大多采用鋁、銀、鉻和鎳等其它金屬膜，但是鉻和鎳反射膜的反射率比較低，很難達到后視鏡反射率的要求；金屬鋁和銀 的反射率比較高，但與電致變色溶液接觸時會發(fā)生腐蝕反應(yīng)。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本專利技術(shù)的目的是提供一種介質(zhì)導(dǎo)電膜，該介質(zhì)導(dǎo)電膜對光的吸收較少，能夠達到較高的反射率；同時能夠防止與電致變色溶液接觸時發(fā)生腐蝕反應(yīng)，具有很好的穩(wěn)定性。本專利技術(shù)的目的是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的 一種介質(zhì)導(dǎo)電膜，所述介質(zhì)導(dǎo)電膜包括透明導(dǎo)電層、若干個第一介質(zhì)層和若干個第二介質(zhì)層，所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層交替層疊排列形成介質(zhì)膜層，該介質(zhì)膜層上形成有透明導(dǎo)電層，所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層的材料為無機物，且第一介質(zhì)層的折射率大于2. I,第二介質(zhì)層的折射率小于I. 6。本專利技術(shù)還提供一種介質(zhì)導(dǎo)電膜的制備方法，所述方法包括以下步驟 511、提供承載介質(zhì)導(dǎo)電膜的基板，在所述基板上形成第一介質(zhì)層； 512、在第一介質(zhì)層上形成第二介質(zhì)層，然后再在第二介質(zhì)層上形成第一介質(zhì)層，如此交替往復(fù)，所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層交替層疊排列形成介質(zhì)膜層； 513、在所述介質(zhì)膜層上形成透明導(dǎo)電層； 其中，所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層的材料為無機物，且第一介質(zhì)層的折射率大于2. I,第二介質(zhì)層的折射率小于I. 6。本專利技術(shù)又提供一種電致變色后視鏡，包括相對配置的第一基片和第二基片，所述第一基片相對于第二基片的表面設(shè)有介質(zhì)導(dǎo)電膜，所述第二基片相對于第一基片的表面設(shè)有透明導(dǎo)電膜，所述介質(zhì)導(dǎo)電膜和透明導(dǎo)電膜的周邊緣設(shè)有邊框膠，所述介質(zhì)導(dǎo)電膜、透明導(dǎo)電膜和邊框膠形成的空腔中容納有電致變色溶液，其中，所述介質(zhì)導(dǎo)電膜包括透明導(dǎo)電層、若干個第一介質(zhì)層和若干個第二介質(zhì)層，所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層交替層疊排列形成介質(zhì)膜層，該介質(zhì)膜層上形成有透明導(dǎo)電層，所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層的材料為無機物，且第一介質(zhì)層的折射率大于2. 1，第二介質(zhì)層的折射率小于I. 6。本專利技術(shù)提供的介質(zhì)導(dǎo)電膜、制備方法及電致變色后視鏡中，第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層交替層疊排列形成介質(zhì)膜層，所述介質(zhì)膜層即為多層結(jié)構(gòu)組成，對光的吸收較少；所述第一介質(zhì)層的折射率大于2. I,第二介質(zhì)層的折射率小于1.6時,該介質(zhì)導(dǎo)電膜能形成較高的反射率，當(dāng)?shù)谝唤橘|(zhì)層和第二介質(zhì)層的折射率差距越大時，更能夠形成較高反射率的膜系結(jié)構(gòu)；同時，所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層的材料為無機物，因而制作成電致變色裝置時能夠防止與電致變色溶液接觸時發(fā)生腐蝕反應(yīng)，具有很好的穩(wěn)定性。附圖說明圖I是本專利技術(shù)實施例提供的介質(zhì)導(dǎo)電膜的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本專利技術(shù)實施例提供的一種介質(zhì)導(dǎo)電膜的制備方法流程示意圖。具體實施例方式為了使本專利技術(shù)所解決的技術(shù)問題、技術(shù)方案及有益效果更加清楚明白，以下結(jié)合 實施例，對本專利技術(shù)進行進一步詳細說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本專利技術(shù)，并不用于限定本專利技術(shù)。請參考圖I所示，一種介質(zhì)導(dǎo)電膜，所述介質(zhì)導(dǎo)電膜包括透明導(dǎo)電層3、若干個第一介質(zhì)層I和若干個第二介質(zhì)層2,所述第一介質(zhì)層I和第二介質(zhì)層2交替層疊排列形成介質(zhì)膜層，該介質(zhì)膜層上形成有透明導(dǎo)電層，所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層的材料為無機物，且第一介質(zhì)層的折射率大于2. I,第二介質(zhì)層的折射率小于I. 6。其中，所述第一介質(zhì)層I和第二介質(zhì)層2交替層疊排列的形式包括以第一介質(zhì)層為基底，在所述第一介質(zhì)層上形成第二介質(zhì)層，然后在第二介質(zhì)層上形成第一介質(zhì)層，如此交替往復(fù)，以形成第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層交替層疊排列的介質(zhì)膜層(如圖I所示的結(jié)構(gòu))；或者，以第二介質(zhì)層為基底，在所述第二介質(zhì)層上形成第一介質(zhì)層，然后在第一介質(zhì)層上形成第二介質(zhì)層，如此交替往復(fù)，以形成第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層交替層疊排列的介質(zhì)膜層。本專利技術(shù)提供的介質(zhì)導(dǎo)電膜中，第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層交替層疊排列形成介質(zhì)膜層，所述介質(zhì)膜層即為多層結(jié)構(gòu)組成，對光的吸收較少；所述第一介質(zhì)層的折射率大于2. 1，第二介質(zhì)層的折射率小于1.6時，該介質(zhì)導(dǎo)電膜能形成較高的反射率，當(dāng)?shù)谝唤橘|(zhì)層和第二介質(zhì)層的折射率差距越大時，更能夠形成較高反射率的膜系結(jié)構(gòu)；同時，所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層的材料為無機物，因而制作成電致變色裝置時能夠防止與電致變色溶液接觸時發(fā)生腐蝕反應(yīng)，具有很好的穩(wěn)定性。所述第一介質(zhì)層I的材料選自硫化鋅(ZnS)、氧化鋅(ZnO)、二氧化鈦(Ti02)、氧化鋯(Zr02)、五氧化二鉭(Ta205)和五氧化二鈮(Nb205)中的一種或多種；當(dāng)然,本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)明白，所述第一介質(zhì)層的材料并不局限于此，還可以選用其它折射率大于2. I的無機物。優(yōu)選地，所述第一介質(zhì)層的材料為折射率大于2. 3的無機物。所述第二介質(zhì)層2的材料選自氟化鎂(MgF2)、三氧化二鋁(Al203)、氧化鎂(MgO)、二氧化硅(Si02 )、三氟鋁酸鈉(Na3AlF3 )、氟化鋇(BaF2 )、氟化鈣(CaF2 )和氟化鋁(A1F3中)的一種或多種；當(dāng)然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)明白，所述第二介質(zhì)層的材料并不局限于此，還可以選用其它折射率小于1.6的無機物。優(yōu)選地，所述第二介質(zhì)層的材料為折射率小于I.4的無機物。為了滿足電致變色后視鏡中不同膜系對反射率的要求，可以調(diào)整介質(zhì)導(dǎo)電膜中膜層的厚度或/和層數(shù)來達到相應(yīng)的需求。優(yōu)選地，每一個所述第一介質(zhì)層的厚度為50-70納米。優(yōu)選地，每一個所述第二介質(zhì)層的厚度為90-110納米。優(yōu)選地，所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層交替層疊排列的層數(shù)大于等于5層。進一步，當(dāng)所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層交替層疊排列的層數(shù)為5-10層，每一個所述第一介質(zhì)層I的厚度為50-70納米，每一個所述第二介質(zhì)層的厚度為90-110納米時，本專利技術(shù)提供的介質(zhì)導(dǎo)電膜的反射率為60-70%，透過率大于20%，達到半透半反射膜的光學(xué)性能要求。進一步，當(dāng)所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層交替層疊排列的層數(shù)大于10層，每一個 所述第一介質(zhì)層I的厚度為50-70納米，每一個所述第二介質(zhì)層的厚度為90-110納米時， 本專利技術(shù)提供的介質(zhì)導(dǎo)電膜的反射率大于90%，達到高反射膜的光學(xué)性能要求。所述透明導(dǎo)電層3為各種具有導(dǎo)電性的材料制成，例如可以為金屬、金屬合金或金屬氧化物，優(yōu)選為金屬氧化物制成。作為一種具體的實施方式，所述金屬氧化物可以為氧化銦錫(ITO)、氧化錫(Sn02)、氧化錫摻銻、氧化鋅(ZnO)和氧化鋅摻鋁(AZO)中的一種或幾種；優(yōu)選地，所述透明導(dǎo)電層為ITO材料制成。所述透明導(dǎo)電層、第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層的形成方式可以為真空蒸鍍、磁控濺射、離子鍍或化學(xué)氣相沉積中的一種，具體的制作工藝為本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知。請參考圖2所示，本專利技術(shù)還提供一種介質(zhì)導(dǎo)電膜的制備方本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】
一種介質(zhì)導(dǎo)電膜，其特征在于，所述介質(zhì)導(dǎo)電膜包括透明導(dǎo)電層、若干個第一介質(zhì)層和若干個第二介質(zhì)層，所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層交替層疊排列形成介質(zhì)膜層，該介質(zhì)膜層上形成有透明導(dǎo)電層，所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層的材料為無機物，且第一介質(zhì)層的折射率大于2.1，第二介質(zhì)層的折射率小于1.6。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種介質(zhì)導(dǎo)電膜，其特征在于，所述介質(zhì)導(dǎo)電膜包括透明導(dǎo)電層、若干個第一介質(zhì)層和若干個第二介質(zhì)層，所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層交替層疊排列形成介質(zhì)膜層，該介質(zhì)膜層上形成有透明導(dǎo)電層，所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層的材料為無機物，且第一介質(zhì)層的折射率大于2. 1，第二介質(zhì)層的折射率小于I. 6。2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的介質(zhì)導(dǎo)電膜，其特征在于，所述第一介質(zhì)層的材料選自ZnS、ZnO、Ti02、Zr02、Ta205 和 Nb205 中的一種或多種。3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的介質(zhì)導(dǎo)電膜，其特征在于，每一個所述第一介質(zhì)層的厚度為50-70納米。4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的介質(zhì)導(dǎo)電膜，其特征在于，所述第二介質(zhì)層的材料選自MgF2、A1203、Mg0、Si02、Na3AlF3、BaF2、CaF2 和 A1F3 中的一種或多種。5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的介質(zhì)導(dǎo)電膜，其特征在于，每一個所述第二介質(zhì)層的厚度為90-110 納米。6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的介質(zhì)導(dǎo)電膜，其特征在于，所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層交替層疊排列的層數(shù)大于等于5層。7.一種介質(zhì)導(dǎo)電膜的制備方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟 511、提供承載介質(zhì)導(dǎo)電膜的基板，在所述基板上形成第一介質(zhì)層； 512、在第一介質(zhì)層上形成第二介質(zhì)層，然后再在第二介質(zhì)層上形成第一介質(zhì)層，如此交替往復(fù)，所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層交替層疊排列形成介質(zhì)膜層； 513、在所述介質(zhì)膜層上形成透明導(dǎo)電層； 其中，所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層的材料為無機物，且第一介質(zhì)層的折射率大于2.I,第二介質(zhì)層的折射率小于I. 6。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的介質(zhì)導(dǎo)電膜的制備方法，其特征在于，所述第一介質(zhì)層的材料選自ZnS、Zn0、Ti02、Zr02、Ta205和Nb205中的一種或...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：康振華，
申請(專利權(quán))人：比亞迪股份有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：