多弧離子鍍膜機的電弧靶結構制造技術

本實用新型專利技術涉及離子鍍膜設備技術領域，尤其是涉及多弧離子鍍膜機的電弧靶結構，包括有靶材、引弧針，靶材為圓柱靶，靶材外周組設有可調屏蔽罩，可調屏蔽罩上設有外螺紋，所述引弧針安裝在一活動軸上，引弧針的針尖設置在靶材的前端方向；靶材通過可調屏蔽罩上的外螺紋組裝到一固定的外屏蔽罩之中部，且在靶材的后端接觸一內部設有冷卻水的水套座。本實用新型專利技術通過螺紋旋進旋出即可實現靶材的位置調整，提升靶材的利用率，且靶材為圓柱靶，通用性強，可做成多種金屬靶，滿足各種生產需要；設有水冷卻，達到降溫功效，有效防止高溫燒壞的現象，提升靶材的使用壽命。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及離子鍍膜設備
，尤其是涉及多弧離子鍍膜機的電弧靶結構。
技術介紹
隨后出現有物理氣相沉積(PVD)技術，主要是在真空環境下進行表面處理，物理氣相沉積本身分為三種真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜，近十年來發展相當快，已經成為當今最先進的表面處理方式之一。真空離子鍍膜是通過離子鍍膜機上的引弧針觸碰靶材產生放電來實現，而現有技術中，離子鍍膜機上的靶材安裝不便，且位置相對固定，不具有調整，利用率不高；在工作過 程中靶材溫度高，易發生燒壞的現象，使用壽命短，影響生產作業。
技術實現思路
本技術的目的在于克服現有技術的缺陷，提供一種多弧離子鍍膜機的電弧靶結構，結構簡單，靶材位置具有可調性，利用率較高，且具有降溫功效，防止高溫燒壞現象。為達到上述目的，本技術采用如下技術方案多弧離子鍍膜機的電弧靶結構，包括有靶材、引弧針，靶材為圓柱靶，靶材外周組設有可調屏蔽罩，可調屏蔽罩上設有外螺紋，所述引弧針安裝在一活動軸上，引弧針的針尖設置在靶材的前端方向；靶材通過可調屏蔽罩上的外螺紋組裝到一固定的外屏蔽罩之中部，且在靶材的后端接觸一內部設有冷卻水的水套座。水套座上還設有一中空螺紋柱，中空螺紋柱螺紋連接一磁鋼組件，磁鋼組件為靶材的正后方。所述活動軸由一動力線圈組驅動,在活動軸上套設有復位彈簧。本技術通過螺紋旋進旋出即可實現靶材的位置調整，提升靶材的利用率，且靶材為圓柱靶，通用性強，可做成多種金屬靶，滿足各種生產需要。本技術再一優點是設有水冷卻，達到降溫功效，有效防止高溫燒壞的現象，提升靶材的使用壽命。本技術又一優點是結構簡單，科學合理，投資成本低，體積小巧，安裝、使用方便，大大提高了多弧離子鍍膜機的運行率和可操作性。附圖說明附圖I為本技術的較佳實施例結構示意圖。具體實施方式以下結合附圖對本技術進一步說明參閱圖I所示，本技術所述的多弧離子鍍膜機的電弧靶結構，包括有靶材I、引弧針2，靶材I為圓柱靶，利用率高，可做成Ti、Al、Cr、Ni等多種金屬，滿足各種生產需求。靶材I外周組設有可調屏蔽罩3，可調屏蔽罩3上設有外螺紋31，靶材I通過可調屏蔽罩3上的外螺紋31組裝到一固定的外屏蔽罩5之中部，實現快速安裝使用，且利用螺紋旋進旋出可方便靶材的位置調整，提升工作效能。靶材I安裝后，其后端接觸一內部設有冷卻水的水套座6，水套座6內循環流動的冷卻水可將靶材I工作時產生的熱量帶走，達到降溫功效。所述引弧針2安裝在一活動軸4上，引弧針2的針尖設置在靶材I的前端方向；利用活動軸4的移動來實現引弧針2的針尖接觸靶材1，從而產生放電，滿足離子鍍膜工作要求。本實施例中，活動軸4由一動力線圈組8驅動,在活動軸4上套設有復位彈簧。動力線圈組8上的線圈通電產生磁場來吸引活動軸4，使活動軸4移動，達到引弧針2的針尖接觸靶材I而產生放電；而當動力線圈組8上的線圈斷電時，活動軸4上的復位彈簧(圖中未示)自動推動活動軸4復位，使引弧針2的針尖脫離靶材1，以備下次工作。該結構可實現自動控制，弓I弧工作穩定、準確。圖I所示，本實施例在水套座6上還設有一中空螺紋柱61，中空螺紋柱61螺紋連接一磁鋼組件7，磁鋼組件7為靶材I的正后方。通過螺紋旋進旋出可方便調整磁鋼組件7與靶材I之間的距離，達到調節靶材I的磁場強度，提升工作性能。·當然，以上圖示僅為本技術的較佳實施例，并非以此限定本技術的實施范圍，故，凡是依照本技術之原理做等效變化或修飾，均應涵蓋于本技術的保護范圍內。權利要求1.多弧離子鍍膜機的電弧靶結構，包括有靶材(I)、引弧針(2)，其特征在于靶材(I)為圓柱靶，靶材(I)外周組設有可調屏蔽罩(3)，可調屏蔽罩(3)上設有外螺紋(31)，所述引弧針(2)安裝在一活動軸(4)上，引弧針(2)的針尖設置在靶材(I)的前端方向；靶材(I)通過可調屏蔽罩(3)上的外螺紋(31)組裝到一固定的外屏蔽罩(5)之中部，且在靶材(I)的后端接觸一內部設有冷卻水的水套座(6 )。2.根據權利要求I所述的多弧離子鍍膜機的電弧靶結構，其特征在于水套座(6)上還設有一中空螺紋柱(61)，中空螺紋柱(61)螺紋連接一磁鋼組件(7 )，磁鋼組件(7 )為靶材(O的正后方。3.根據權利要求I所述的多弧離子鍍膜機的電弧靶結構，其特征在于所述活動軸(4)由一動力線圈組(8)驅動,在活動軸(4)上套設有復位彈簧。專利摘要本技術涉及離子鍍膜設備
，尤其是涉及多弧離子鍍膜機的電弧靶結構，包括有靶材、引弧針，靶材為圓柱靶，靶材外周組設有可調屏蔽罩，可調屏蔽罩上設有外螺紋，所述引弧針安裝在一活動軸上，引弧針的針尖設置在靶材的前端方向；靶材通過可調屏蔽罩上的外螺紋組裝到一固定的外屏蔽罩之中部，且在靶材的后端接觸一內部設有冷卻水的水套座。本技術通過螺紋旋進旋出即可實現靶材的位置調整，提升靶材的利用率，且靶材為圓柱靶，通用性強，可做成多種金屬靶，滿足各種生產需要；設有水冷卻，達到降溫功效，有效防止高溫燒壞的現象，提升靶材的使用壽命。文檔編號C23C14/32GK202595251SQ20122012721公開日2012年12月12日 申請日期2012年3月30日 優先權日2012年3月30日專利技術者趙銘 申請人:廣東友通工業有限公司本文檔來自技高網...

【技術保護點】
多弧離子鍍膜機的電弧靶結構，包括有靶材（1）、引弧針（2），其特征在于：靶材（1）為圓柱靶，靶材（1）外周組設有可調屏蔽罩（3），可調屏蔽罩（3）上設有外螺紋（31），所述引弧針（2）安裝在一活動軸（4）上，引弧針（2）的針尖設置在靶材（1）的前端方向；靶材（1）通過可調屏蔽罩（3）上的外螺紋（31）組裝到一固定的外屏蔽罩（5）之中部，且在靶材（1）的后端接觸一內部設有冷卻水的水套座（6）。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：趙銘，
申請(專利權)人：廣東友通工業有限公司，
類型：實用新型
國別省市：