【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及一種面料，尤其涉及一種制作服裝、玩具的面料，屬于紡織面料領(lǐng)域。
技術(shù)介紹
提花面料手感柔軟舒適，透氣性能好，頗受人們的喜愛(ài)。現(xiàn)有的提花面料多為單面提花或雙面提花，層次感不強(qiáng)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專利技術(shù)的目的在于克服上述不足，提供一種層次感強(qiáng)的正反交錯(cuò)提花涼爽絲滑抗電磁輻射面料。本專利技術(shù)的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的一種正反交錯(cuò)提花涼爽絲滑抗電磁輻射面料，包括基布，所述基布由若干經(jīng)線和若干緯線交織而成，若干經(jīng)線和若干緯線中嵌置有幾根包芯 線，所述包芯線由蠶絲包覆金屬離子纖維形成，且所述金屬離子纖維呈波浪形，所述基布的正反兩面均設(shè)有提花層，所述提花層包括若干個(gè)提花區(qū)域和非提花區(qū)域，所述提花區(qū)域呈塊狀，所述提花區(qū)域和非提花區(qū)域交錯(cuò)排列，位于正反兩面的提花區(qū)域和非提花區(qū)域交錯(cuò)對(duì)稱分布。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本專利技術(shù)的有益效果是 I、正反交錯(cuò)提花面料的正反面均設(shè)置交錯(cuò)分布的提花區(qū)域和非提花區(qū)域，增強(qiáng)了面料的層次感。2、由于在經(jīng)線和若干緯線中嵌置有幾根蠶絲包覆金屬離子纖維的包芯線，且將蠶絲包覆金屬離子纖維的包芯線中的金屬離子纖維制成具有記憶性的波浪形，因此，在具有抗電磁輻射的同時(shí)又大大提高了面料的支撐性能，同時(shí)使金屬纖維既有強(qiáng)度，又有彈性和柔度，從而擴(kuò)大了面料的使用范圍，使得該面料可廣泛應(yīng)用在電子、計(jì)算機(jī)、電訊、電站、發(fā)射站、軍事儀器等電磁輻射污染源區(qū)工作人員。附圖說(shuō)明圖I為本專利技術(shù)正反交錯(cuò)提花涼爽絲滑抗電磁輻射面料的平面示意圖。圖2為圖I的A-A剖視圖。其中 基布I 提花層2 提花區(qū)域21 非提花區(qū)域22。包芯線3。具體實(shí)施方式參見(jiàn)圖I和圖2，本專利技術(shù)涉...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種正反交錯(cuò)提花涼爽絲滑抗電磁輻射面料，包括基布（1），其特征在于：所述基布（1）由若干經(jīng)線和若干緯線交織而成，若干經(jīng)線和若干緯線中嵌置有幾根包芯線（3），所述包芯線（3）由蠶絲包覆金屬離子纖維形成，且所述金屬離子纖維呈波浪形，所述基布（1）的正反兩面均設(shè)有提花層（2），所述提花層（2）包括若干個(gè)提花區(qū)域（21）和非提花區(qū)域（22），所述提花區(qū)域（21）和非提花區(qū)域（22）均呈塊狀且交錯(cuò)排列，位于正反兩面的提花區(qū)域（21）和非提花區(qū)域（22）交錯(cuò)對(duì)稱分布。
【技術(shù)特征摘要】
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：孫建良，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：孫建良，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：
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