用于真空工藝的閥制造技術

公開了一種用于真空工藝的閥，該閥包括：第一閥體，具有入口和出口；密封單元，構造成向前移動至入口和從入口向后移動，以具有閉合位置和打開位置；軸，由波紋管覆蓋，并構造成使密封單元在閉合位置與打開位置之間移動；蓋，用于在密封單元處于打開位置時使波紋管避開腐蝕性氣體；和蓋引導單元，構造成引導蓋沿著軸移動。

【技術實現步驟摘要】
用于真空工藝的閥
下面的描述涉及一種用于真空工藝的閥，其根據半導體制造工藝中的階段來控制真空度。
技術介紹
真空系統用于制造半導體器件。在化學氣相沉積(CVD)系統中，當為腔室內的氣體提供能量以成為等離子態時，腔室內的晶片中發生反應，薄膜形成在晶片上。工藝中產生的多余的反應物通過泵和管道排出。這些真空系統包括用于控制泵和管道的真空度的閥。因此，外來物質因腐蝕性氣體而沉積在閥內，這可能減少裝置的使用壽命，甚至導致泵出現嚴重的問題。
技術實現思路
本專利技術實施例的目的是提供一種用于真空工藝的閥，其使外來物質在打開狀態下在閥部件上的沉積最小化。本專利技術實施例的另一目的是提供一種用于真空工藝的閥，其使軸在向后或向前運動期間的偏斜最小化。為了實現依照這些目的的這些或其它優點，提供一種用于真空工藝的閥，其包括 第一閥體，具有入口和出口 ；密封單元，構造成向前移動至入口和從入口向后移動，以具有閉合位置和打開位置；軸，由波紋管覆蓋，并構造成使密封單元在閉合位置與打開位置之間移動；蓋，用于在密封單元處于打開位置時使波紋管避開腐蝕性氣體；和蓋引導單元，構造成引導蓋沿著軸移動。密封單元可以聯接到蓋的一端，并且蓋引導單元可以插入到蓋的相反端。用于真空工藝的閥還可包括第二閥體，聯接到第一閥體，以支撐軸和蓋引導單兀。蓋引導單元可以包括引導構件，插入到蓋的相反端；第一引導環，位于引導構件的前部，從而當蓋沿著軸移動時引導蓋；和第一密封環，位于引導構件的后部，從而當密封單元處于打開位置時密封蓋。引導構件的前部可以聯接到波紋管，并且引導構件的后部可以聯接到第一閥體的端部凸緣。第一引導環沿著其周向方向可以包括多個切口部，從而當密封單元移動至打開位置時排出蓋內的氣體。蓋可以具有用于與第一密封環接觸的圓斜切邊。用于真空工藝的閥還可包括活塞，聯接到軸的后端，從而通過氣動壓力使軸移動。用于真空工藝的閥還可包括第二引導環，安裝在活塞的外周表面上，從而沿著第二閥體的內表面直線地引導活塞；和第二密封環，安裝在活塞的外周表面上，以密封第二閥體，其中，第二閥體的內表面具有圓柱形形狀。第二引導環和第二密封環可以沿著軸的長度方向在活塞上間隔開。蓋可以通過多個螺釘聯接到密封單元，這些螺釘沿著蓋的周邊布置在徑向方向上。波紋管可以包括一個接一個地焊接起來的多個子板。根據一個實施例，提供一種用于真空工藝的閥，其包括閥體，具有位于入口與出口之間的閥空間；軸組件，構造成具有閉合位置和打開位置，該軸組件包括軸，由閥體支撐，以向前移動至入口和從入口向后移動；密封單元，聯接到軸的前端；波紋管，覆蓋軸；和蓋，構造成在波紋管根據密封單元的位置而變形時遮蔽波紋管；以及引導構件，安裝在閥空間中，以沿著軸的移動方向引導蓋。此外，用于真空工藝的閥的應用范圍將從下面給出的詳細描述中變得明顯。然而， 應當理解，表示本專利技術優選實施例的詳細描述和具體示例僅僅是用于說明而給出，因為從該詳細的描述出發，落入本專利技術的精神和范圍內的各種改變和變型對于本領域技術人員是顯然的。附圖說明圖1是使用根據示例性實施例的用于真空工藝的閥的真空系統的示意性框圖。圖2是根據示例性實施例的用于真空工藝的閥的橫截面圖。圖3是根據示例性實施例的軸組件的橫截面圖。圖4是根據示例性實施例的第一引導環的正視圖。圖5是根據示例性實施例的第二閥體的橫截面圖。圖6是示出根據示例性實施例的活塞的橫截面圖。圖7是示出圖2的用于真空工藝的閥的打開狀態的橫截面圖。具體實施方式下面，參照附圖詳細描述根據示例性實施例的用于真空工藝的閥。圖1是使用根據示例性實施例的用于真空工藝的閥的真空系統的示意性框圖。圖 1示出工藝室11、渦輪分子泵(TMP) 12和干泵13。當為腔室內的氣體提供能量以成為等離子態時，腔室內的晶片中發生反應，薄膜形成在晶片上。薄膜形成工藝中產生的多余的反應物通過渦輪分子泵12和管道14排出。 用于真空工藝的第一閥100安裝在工藝室11與干泵13之間。用于真空工藝的第二閥100' 安裝在渦輪分子泵的下游。用于真空工藝的第一閥100也可以被稱為“隔離閥”。設置在渦輪分子泵12的下游的用于真空工藝的第二閥100'也可以被稱為“渦輪隔離閥”。作為圖1的示例性實施例，用于真空工藝的第一閥100、100'可以應用于其它裝置，例如用于控制加載互鎖真空室(load lock chamber)的真空度的裝置。圖2是根據示例性實施例的用于真空工藝的閥的橫截面圖。如圖2所示，用于真空工藝的閥100包括具有入口 112和出口 113的第一閥體110、 以及用于有選擇地打開或閉合入口 112的機構。打開和閉合機構包括軸122、密封單元121、 波紋管123、蓋130和蓋引導單元140。第一閥體110在內部具有閥空間111。軸組件120(參見圖3)安裝在該閥空間111 中。聯接孔110-1形成在入口 112的相對側。用于支撐軸122和蓋引導單元140的第二閥體150緊固到聯接孔110-1。入口 112聯接到腔室(未示出)，出口 113聯接到泵(未示出)。入口 112和出口 113可以設置成在閥體110上具有不同的角度。參照圖2，入口 112 和出口 113以直角彼此相交。軸122延伸出殼體150，從而從入口 112向后直線移動或向前直線移動至入口 112。下面參照圖5描述用于支撐軸122的第二閥體150的構造。活塞170聯接到軸122 的后部，從而使軸122直線地移動。下面參照圖6詳細描述活塞170的構造。密封單元具有“閉合位置”和“打開位置”。在閉合位置中，密封單元121與入口 112接觸，以構成使入口 112關閉的閉合狀態。在打開位置中，密封單元121與入口分離，以構成使入口 112打開的打開狀態。與入口 112接觸以固定入口 112的0形圈125設置在密封單元121的前部。密封單元121聯接到軸122的前部，并通過軸122行進至入口 112或從入口 112 返回。因插入到軸122中的彈簧126的彈性，密封單元121保持閉合狀態。通過設置在軸 122的后部的活塞170的壓力，軸122被迫向后移動，從而實現密封單元121的打開狀態。軸122由波紋管123覆蓋，從而當入口 112打開時保護軸122不受到腐蝕性氣體的侵蝕。波紋管123可以構造成通過焊接多個子板而模制出的“板型波紋管”。當收縮時， 板型波紋管的長度比通過鑄造而模制且具有連續的環形截面的形式的“模制波紋管”的長度短。板型波紋管可以提供用于安裝的寬空間以及密封單元121的打開狀態和閉合狀態之間的足夠距離，即，足以使其松弛至密封單元121的沖程的距離。由于下面描述的蓋引導單元140減小了波紋管123的安裝長度，因此可以有效地使用板型波紋管。輔助口 105可以設置在閥體110中，從而在入口 112關閉的狀態下，減小連接到入口 112的管道與閥100內的閥空間111之間的真空度差。一些真空系統中可以不包括輔助 Π 105。圖3是示出蓋安裝在軸組件上的橫截面圖。軸組件120包括密封單元121、軸122和波紋管123。軸組件120的一端由第一閥體110支撐(可以理解為“懸臂型”)。軸122延伸出殼體150，從而由第二閥體150引導。 由于第二閥體150緊固到第一閥體110，因此軸組件120在第一閥體110本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
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【專利技術屬性】
技術研發人員：李東民，
申請(專利權)人：李東民，
類型：發明
國別省市：