本發明專利技術提供防止低聚物在膜表面析出的簡易的方法。通過以１５００ｍＪ／ｃｍ２以上的曝光量對膜基材（１１）照射紫外線，使膜基材（１１）的至少一部分改性，而形成被膜（１２），從而防止低聚物在膜基材（１１）表面析出。
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及。
技術介紹
關于聚酯膜，可以作為LCD構件的棱鏡片材、透鏡片材、擴散板、反射板、觸摸面板等的基膜，防反射用或顯示器防爆用的基膜等，已在各種光學用途中廣泛使用。這些光學用途中為了獲得明亮、清晰的圖像，作為光學用膜使用的基膜，從其使用形式出發，透明性良好并且不存在對圖像產生影響的異物、損傷等缺陷已變得必要。但是，近年來，隨著其用途的多樣化，膜的加工條件、使用條件多樣化，對聚酯膜進行加熱處理時，產生了作為該膜的非交聯成分的稱為低聚物的聚合物(環狀三聚體)在膜表面析出的問題。低聚物在膜表面的析出嚴重的情況下，產生膜加工時低聚物在工序內附著污染，不能用于需要高度透明性的用途等各種問題。目前為止，作為防止低聚物在膜表面析出的方法，提出了各種方案。例如專利文獻 1中公開了如下技術在電阻膜方式的透明觸摸面板中，在與固定電極支承體對向配置、上面形成了硬涂層的可動電極膜的下面介由透明的收縮性樹脂層形成可動電極。現有技術文獻專利文獻專利文獻1 日本特開平7-13695號公報
技術實現思路
專利技術要解決的問題對于上述的以往手法，通過在可動電極膜的下面形成透明的收縮性樹脂層，從而防止可動電極膜的非交聯成分即低聚物向可動電極側析出，成為白化狀態而失去透明性， 外觀和視認性惡化。再有，由于在可動電極膜的上面形成了硬涂層，因此通過該硬涂層防止低聚物從可動電極膜內部向可動電極膜的上面側析出。但是，對于上述以往手法，為了形成收縮性樹脂層，必須調合規定的涂料，將其涂布在可動電極膜的下面并干燥，如果需要照射紫外線等使其固化，擔心工序增加，生產率變差。因此，希望開發能夠提高生產率的技術。本專利技術要解決的課題在于，提供能夠用簡易的方法防止低聚物在膜表面析出的具有被膜的片材的制造方法和使用了該方法的具有被膜的片材。此外，其目的還在于提供包含該片材的層疊體和包含該層疊體的觸摸面板。用于解決問題的手段本專利技術通過以下的解決手段解決上述課題。應予說明，以下的解決手段中，對表示本專利技術的實施方式的附圖標注對應的符號進行說明，但該符號只是為了使本專利技術的理解變得容易，不意在限定本專利技術。本專利技術涉及的片材(10)的制造方法，是制造具有將膜基材(11)的至少一部分改性而成的被膜(12)的片材的方法，其特征在于，對膜基材(11)照射紫外線，形成被膜(12)。上述專利技術中，可以以1500mJ/cm2以上的曝光量照射紫外線。上述專利技術中，可以分多次照射紫外線。上述專利技術中，作為紫外線，可使用發光波長范圍為200 450nm，在360 370nm處具有峰輸出特性的光線。上述專利技術中，作為紫外線，可使用波長范圍為200 450nm且在360 370nm處和 250 320nm處具有峰輸出特性的光線。上述專利技術中，作為膜基材(11)，可以使用透明聚酯膜。S卩，可通過對膜基材(11)照射紫外線，使膜基材(11)的至少一部分改性，形成被膜(12)，從而能夠防止低聚物的向膜基材(11)表面的析出。本專利技術涉及的片材(10)，其特征在于，具有將膜基材(11)的至少一部分改性而成的被膜(12)，被膜(12)通過對膜基材(11)照射紫外線而形成。上述專利技術中，被膜(12)可以使馬氏硬度(Martens硬度)為200N/mm2以上，使壓入彈性模量為4300MPa以下，使厚度為0. 1 μ m以上。上述專利技術中，馬氏硬度和壓入彈性模量的值可以在最大試驗荷重為ImN的條件下測定。本專利技術涉及的層疊體00)在上述任一片材(10)的表面具有被賦予了各種功能的功能層(22,24).上述專利技術中，功能層(22、24)可包含例如在片材(10)的被膜(12)側層疊的粘合層、在片材(10)的與被膜(1 相反的一側層疊的硬涂層等。本專利技術涉及的觸摸面板( 具有在第1透明基板(52 上形成有第1透明導電膜(524)的第1電極基板(52)、和以與第1透明導電膜(524)間隔規定的間隙而對向的方式在第2透明基板( 上形成有第2透明導電膜(544)的第2電極基板(54)。而且，第 1透明基板(52 和第2透明基板(542)中任一方的可動側電極基板包含層疊體00)。專利技術的效果根據上述專利技術，通過對膜基材照射紫外線，使該膜基材的至少一部分改性，形成被膜。通過形成的被膜，防止低聚物從膜基材的內部析出。即，根據上述專利技術，與以往手法相比，不具有另外的涂料的調合、涂布及其他工序等使生產率惡化的要因，能夠用簡易的方法防止低聚物向膜表面的析出。附圖說明圖1為表示本實施方式涉及的片材的截面圖。圖2為表示具有圖1的片材的層疊體的一例的截面圖。圖3為表示具有圖1的片材的層疊體的另一例的截面圖。圖4為表示具有圖2的層疊體的觸摸面板的截面圖。圖5為紫外線照射前的膜a截面的SEM圖像。圖6為紫外線照射后(Ipass)的膜a截面的SEM圖像。圖7為紫外線照射后Opass)的膜a截面的SEM圖像。圖8為紫外線照射后(3paSS)的膜a截面的SEM圖像。4圖9為紫外線照射后(lOpass)的膜a截面的SEM圖像。圖10為紫外線照射后QOpass)的膜a截面的SEM圖像。圖11為紫外線照射前的膜b截面的SEM圖像。圖12為紫外線照射后(3paSS)的膜b截面的SEM圖像。具體實施例方式以下基于附圖對上述專利技術的一個實施方式進行說明。《片材》如圖1所示，本實施方式涉及的片材10，具有例如透明聚酯膜等膜基材11。本實施方式中，將膜基材11表面的至少一部分改性，在其上形成了被膜12。該被膜12在本實施方式中具有防止低聚物從膜基材11的內部向膜基材11表面析出的功能。就本實施方式的被膜12而言，第一，對其表面硬度進行了適當調節。具體而言，將馬氏硬度(HM)調節得比特定的值大，將壓入彈性模量(EIT)調節得比特定的值小。馬氏硬度(HM)，表示由采用維氏壓子壓入被膜12的表面時的試驗荷重與壓入表面積求出的被膜12的硬度(凹陷難度)，成為被膜12的表面的硬度的指標。本實施方式中，被膜12的HM的值，因膜基材的材質而異，因此不能一概而論，優選調節到200N/mm2以上，更優選調節到210N/mm2以上。本專利技術人等發現，通過將被膜12的HM調節到規定值以上，難以損傷，同時能夠有效地防止低聚物從膜基材11的內部向外部析出。另一方面，如果考慮膜基材11劣化所引起的片材10的平面性，希望將被膜12的HM調節到優選350N/mm2 以下，更優選300N/mm2以下。應予說明，本實施方式中HM的值，是在溫度20度和相對濕度60%的氣氛下，采用超微小硬度試驗裝置(FISCHER測試儀器公司、商品名FISCHERSC0PE HM2000)，采用根據 IS0-14577-1的方法對被膜12的表面的硬度進行測定的值。不過，是最大試驗荷重lmN下測定的值。壓入彈性模量(EIT)相當于楊氏模量，表示被膜12的撓曲容易度(柔軟性)，成為被膜12的脆性的指標。本實施方式中，將被膜12的EIT調節為優選4300MPa以下、更優選 4200MPa以下、進一步優選4100MPa以下。通過將被膜12的EIT調節為規定值以下，能夠制成即使折曲也不產生開裂等的柔軟性優異的片材10。另一方面，如果被膜12的EIT過小， 難以與上述的HM的適合范圍兼顧，同時防低聚物析出性也傾向于下降。因此，希望將被膜 12的EIT調本文檔來自技高網...
【技術保護點】
１．一種片材的制造方法，是制造具有將膜基材的至少一部分改性而成的被膜的片材的方法，其特征在于，對所述膜基材照射紫外線，形成所述被膜。
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...
【專利技術屬性】
技術研發人員：金京春，
申請(專利權)人：木本股份有限公司，
類型：發明
國別省市：JP
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