阻氣性層壓膜的制造方法技術

本發明專利技術提供一種制造生產率良好、制造后就顯示高阻氣性、且維持優良的阻氣性，同時，構成層之間具有優良的密合強度的層壓膜的方法、以及通過該制造方法得到的阻氣性層壓膜。一種阻氣性層壓膜的制造方法，該制造方法具有：（１）通過真空蒸鍍法在基材膜的至少一個表面上形成無機薄膜的工序；（２）通過等離子體化學氣相沉積法在工序（１）所形成的無機薄膜上形成薄膜的工序；以及（３）通過真空蒸鍍法在工序（２）所形成的薄膜上形成無機薄膜的工序，所述工序（１）以及（３）各自在１×１０－７～１Ｐａ的壓力下連續進行，工序（２）在１×１０－３～１×１０２Ｐａ的壓力下連續進行。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及阻氣性優異的層壓膜以及其制造方法。
技術介紹
從以往開始，以塑料膜為基材、在其表面形成無機薄膜的阻氣性塑料膜被廣泛利用于需要阻斷水蒸氣或氧等的各種氣體的物品的包裝，例如用于防止食品、工業用品以及藥品等的變質的包裝。又，關于該阻氣性塑料膜，除了包裝用途之外，近年來作為液晶顯示元件、太陽能電池、電磁波護罩、觸摸屏、EL用基板、濾色器等中使用的透明導電薄片的新用途也受到矚目。關于形成這樣的無機薄膜而形成的阻氣性塑料膜，在各種目的之下研究了若干的改良，例如公開的有，從透明性或阻氣性的觀點考慮，在塑料膜上依次層壓金屬氧化物層/ 樹脂/金屬氧化物層而成的全光線透射率在85%以上的阻氣性膜(參閱專利文獻1)；以及為防止、抑制金屬氧化物的破損，在透明性塑料膜上依次交替層壓金屬氧化物層、有機物層的阻透膜(參閱專利文獻2)。又，專利文獻3公開了 在基材的至少一個面上具有由氮化硅以及/或氧化氮化硅形成的阻氣膜、具有基材/樹脂層/阻擋層/樹脂層/阻擋層等的構成的阻擋膜。此外，專利文獻4公開了，含有碳含量高的金屬氧化物的膜通過作為應力緩和層發揮作用，能夠防止膜整體發生皸裂或層之間發生剝離，專利文獻5顯示了由基材膜/無機薄膜/底涂層/無機薄膜構成的阻氣性層壓膜。專利文獻6公開了通過在基材上重復2次以上的蒸鍍工序，由此層壓了 2層以上的氧化硅蒸鍍膜的層壓蒸鍍膜層改善阻擋性的情況，專利文獻7公開了，通過在基材膜上依次具有無機氧化物層和氧化氮化碳化硅層或者氧化碳化硅層的阻氣性層壓體，改善耐濕熱性或阻氣性。進一步，專利文獻8公開了，在基材上具有由通過物理蒸鍍法形成的金屬或者金屬化合物構成的阻氣性薄膜、在基材和阻氣性薄膜之間夾持有通過蒸鍍合成法形成的聚亞胺膜的阻氣性層壓體，又，專利文獻9公開了通過真空蒸鍍法在由高分子樹脂構成的基材上設置無機化合物膜，通過化學氣相沉積法，使有機化合物在無機化合物膜的厚度方向分布，做成有機·無機復合膜，從而制造阻氣材料。然而，這些膜中，各種目的的性狀有一定程度的改善，然而，對于阻氣性或層壓膜的構成層之間的密合強度或生產率尚不充分，期望改善這些情況。已知技術文獻專利文獻專利文獻1 日本專利特開2003-71968號公報專利文獻2 日本專利特開2003-231202號公報專利文獻3 日本專利特開2004-114645號公報專利文獻4 日本專利特開2003-257619號公報專利文獻5 國際公開2007-34773號小冊子專利文獻6 日本專利特開平4-89236號公報專利文獻7 日本專利特開2006-297730號公報專利文獻8 日本專利特開平10-6433號公報專利文獻9 日本專利特開平11-30M22號公報
技術實現思路
專利技術要解決的課題本專利技術要解決的課題在于，提供一種制造生產率良好、制造之后就顯示高阻氣性、 且維持優良的阻氣性，同時，構成層之間具有優良的密合強度的層壓膜的方法、以及通過該制造方法得到的阻氣性層壓膜。解決課題的手段本專利技術涉及(1) 一種，該制造方法具有(1)通過真空蒸鍍法在基材膜的至少一個表面上形成無機薄膜的工序；( 通過等離子體化學氣相沉積法在工序(1) 所形成的無機薄膜上形成薄膜的工序；以及C3)通過真空蒸鍍法在工序( 所形成的薄膜上形成無機薄膜的工序，所述工序⑴以及⑶各自在IX 10_7 IPa的壓力下連續進行， 工序⑵在1 X ΙΟ"3 1 X IO2Pa的壓力下連續進行，理想的是所述工序⑴以及⑶各自在 1 X 10_6 1 X KT1Pa的壓力下連續進行，工序(2)在1 X 10_2 101 的壓力下連續進行。(2) 一種阻氣性層壓膜，依次具有基材膜、(A)通過真空蒸鍍法形成于所述基材膜的至少一個表面上的無機薄膜以及(B)由通過等離子體化學氣相沉積法、接著通過真空蒸鍍法依次形成于所述無機薄膜(A)上的薄膜構成的構成單元層的至少一層。專利技術的效果本專利技術提供一種制造生產率良好、制造之后就顯示高阻氣性、且維持優良的阻氣性的同時層壓膜的構成層之間具有優良的密合強度的層壓膜的方法、以及通過該制造方法得到的阻氣性層壓膜。附圖說明是用于制造本專利技術的阻氣性層壓膜的真空制膜裝置的概略說明圖。符號說明1真空成膜裝置10成膜室101高分子膜基材102開卷軸103卷繞軸104張力輥105調溫(溫調入”)成膜鼓106調溫(溫調入”)成膜鼓107蒸鍍加熱源108 等離子體CVD用電極具體實施例方式以下，詳細說明本專利技術。<>本專利技術的如上所述。工序(1)是通過真空蒸鍍法在基材膜的至少一個面上形成無機薄膜的工序。基材膜作為本專利技術的阻氣性層壓膜的基材膜理想的是熱塑性高分子膜，作為其原料只要是能用于通常的包裝材料的樹脂，即可無特別限制地使用。具體地，舉例有乙烯、丙烯、丁烯等的自聚物或共聚物等的聚烯烴、環狀聚烯烴等的非晶質聚烯烴、聚對苯二甲酸乙二酯、聚乙烯-2，6_鄰苯二甲酸酯等的聚酯、尼龍6、尼龍66、尼龍12、共聚尼龍等的聚酰胺、聚乙烯醇、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物部分水解物(EVOH)、聚亞胺、聚醚亞胺、聚砜、聚醚砜、聚醚醚酮、聚碳酸酯、聚乙烯醇縮丁醛、聚烯丙酯、氟樹脂、丙烯酸酯樹脂、生物降解性樹脂等。這些當中，從膜強度、成本等觀點考慮，理想的是聚酯、聚酰胺、聚烯烴、生物降解性樹脂。又，上述基材膜可以含有公知的添加劑，例如抗靜電劑、遮光劑、紫外線吸收劑、增塑劑、潤滑劑、填料、著色劑、穩定劑、潤滑劑、交聯劑、防粘連劑、抗氧化劑等。作為上述基材膜的熱塑性高分子膜是用上述原料成形而成的膜，作為基材使用時，可以是未延伸的膜，也可以是已延伸的膜。又，可以與其他塑料基材層壓。所涉及的基材膜可以通過以往公知的方法制造，例如可以通過擠出機將原料樹脂進行熔融，通過環狀模具或T形模具擠壓后驟冷，制造實質上沒有以無定型取向的未延伸膜。通過將該未延伸膜進行單軸延伸、拉幅機式依次雙軸延伸、拉幅機式同時雙軸延伸、管式同時雙軸延伸等的公知方法，通過在膜的移動(縱軸)方向或者與膜的移動方向呈直角的(橫軸)方向延伸， 可以制造至少在單軸方向延伸的膜。從作為本專利技術的阻氣性層壓膜的基材的機械強度、撓性、透明性等的觀點考慮，基材膜的厚度根據其用途，通常在5 500 μ m、理想的是在10 200 μ m的范圍選擇，也包括厚度大的片狀。又，對于膜的寬度或長度沒有特別限制，可以適當根據用途進行選擇。用真空蒸鍍法形成無機薄膜作為構成通過真空蒸鍍法在基材膜的至少一個表面上形成的無機薄膜的無機物質舉例有硅、鋁、鎂、鋅、錫、鎳、鈦、烴等或者它們的氧化物、碳化物、氮化物或它們的混合物，從阻氣性的觀點考慮，理想的是氧化硅、氧化鋁、烴(例如以類金剛石膜等的烴為主體的物質)。尤其，出于能夠穩定地維持高阻氣性的觀點，理想的是氧化硅、氧化鋁。上述無機物質可以單獨1種使用，也可以2種以上組合使用。從得到阻氣性高的均一的薄膜的觀點考慮，上述無機薄膜的形成使用真空蒸鍍法。無機薄膜的厚度一般是0. 1 500nm，從阻氣性、膜的生產率的觀點來看，理想的是0. 5 lOOnm，進一步理想的是1 50nm。由于形成致密的薄膜，因此上述無機薄膜的形成在減壓下進行，理想的是對膜進行傳輸的同時進行。從真空排氣能力和阻擋性的觀點考慮，形成無機薄膜時的壓力為 1\10-7 本文檔來自技高網...

【技術保護點】
１．一種阻氣性層壓膜的制造方法，具有：（１）通過真空蒸鍍法在基材膜的至少一個表面上形成無機薄膜的工序；（２）通過等離子體化學氣相沉積法在工序（１）所形成的無機薄膜上形成薄膜的工序；以及（３）通過真空蒸鍍法在工序（２）所形成的薄膜上形成無機薄膜的工序，所述工序（１）以及（３）各自在１×１０－７～１Ｐａ的壓力下連續進行，工序（２）在１×１０－３～１×１０２Ｐａ的壓力下連續進行。

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...

【專利技術屬性】
技術研發人員：吉田重信，
申請(專利權)人：三菱樹脂株式會社，
類型：發明
國別省市：JP