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    硅片清洗裝置制造方法及圖紙

    技術編號:44804515 閱讀:31 留言:0更新日期:2025-03-28 19:53
    本技術涉及清洗技術領域,具體涉及一種硅片清洗裝置,本裝置包括:設備主體,其兩側設有通流空間;其中所述設備主體上下分割設置有清洗主槽和清洗副槽;所述清洗主槽內沿其長度方向設置有傳送機構;以及所述清洗主槽和清洗副槽之間連接有流通部,所述流通部與通流空間相通,使液體在清洗主槽和清洗副槽循環流動以清洗硅片。通過在設備主體內將主槽下方設副槽,并且其主槽與副槽之間連接流通部與所述通流空間連通,對傳送機構進行液體的溢流和循環,可以確保清洗液更均勻地接觸硅片,提高整體的清洗效率,減少了清洗過程中的生產成本。

    【技術實現步驟摘要】

    本技術涉及清洗,具體涉及一種硅片清洗裝置


    技術介紹

    1、制作太陽能電池的過程中預洗流程可以改善硅片表面的清潔質量,有助于制絨后形成均勻一致的絨面結構,從而提高太陽能電池的光電轉換效率;傳統的硅片制絨前預洗設備中,主副清洗槽以分體形式設計,每個槽都需要自己的獨立空間,這可能導致整體設備的體積較大,多個獨立的清洗槽可能導致設備布局復雜,且清潔液體單向流動,不能使洗液均勻地傳遞到硅片的每個部分,導致槽內不同區域的水質和清洗效果出現差異,使得清洗效果不佳,可能需要使用更多的水和清洗劑來重復清洗過程,從而增加水資源和原材料的消耗。

    2、因此,為了解決由于采用分體式清洗槽使得液體單流動路徑單一,不能將清洗液均勻地傳遞到硅片導致清潔力不佳的技術問題,需要設計一種硅片清洗裝置。


    技術實現思路

    1、為了解決
    技術介紹
    中提及的技術問題,本技術提供了一種硅片清洗裝置,包括:

    2、設備主體,其兩側設有通流空間;其中

    3、所述設備主體上下分割設置有清洗主槽和清洗副槽;

    4、所述清洗主槽內沿其長度方向設置有傳送機構;以及

    5、所述清洗主槽和清洗副槽之間連接有流通部,所述流通部與通流空間相通,使液體在清洗主槽和清洗副槽循環流動以清洗硅片;

    6、進一步的,所述傳送機構包括:上引導輪和下傳輸輪;

    7、所述硅片從上引導輪和下傳輸輪的傳輸間隙穿過;

    8、進一步的,所述清洗主槽中沿傳送機構設置有至少一個超聲波發生器;

    <p>9、所述超聲波發生器設置在所述上引導輪的頂部和/或下傳輸輪的底部。

    10、進一步的,所述流通部包括:第一流通口、第二流通口和第三流通口;

    11、所述第一流通口設置在清洗主槽的兩寬度側,所述第二流通口設置在清洗主槽的寬度一側,且所述清洗副槽的兩寬度側均開設有第三流通口;

    12、所述第一流通口、第三流通口和第三流通口分別與通流空間連通,以使液體在清洗主槽和清洗副槽循環流動。

    13、進一步的,所述上引導輪采用陶瓷材質,以及所述下傳輸輪采用金屬材質。

    14、進一步的,所述通流空間內設有噴淋件;

    15、所述噴淋件包括:第一噴淋件和第二噴淋件;

    16、所述第一噴淋件位于傳送機構的終點端,且設置在上引導輪的上方;以及

    17、所述第二噴淋件位于傳送機構的起始端,且設置在下傳輸輪的下方。

    18、進一步的,所述清洗主槽的底部設有進液口,所述進液口連通進液管從備主體的底部引出。

    19、進一步的,所述進液口至少設置4個。

    20、進一步的,所述設備主體的底部設置有清洗主槽的排廢口。

    21、進一步的,所述排廢口與清洗主槽的連接處設有過濾網。

    22、本技術的有益效果是,本技術在設備主體內將主槽下方設副槽,并且清洗主槽和清洗副槽設有流通部,通過流通部連接設備主體內部兩側的通流空間,以對傳送機構進行液體的溢流和循環,其使槽內形成多個液體流動通道,通過設備的液體可循環流動,可以確保清洗液更均勻地接觸硅片,提高整體的清洗效率,減少了清洗過程中的生產成本,且節省空間并提高布局緊湊性。

    23、本技術的其他特征和優點將在隨后的說明書中闡述,并且,部分地從說明書中變得顯而易見,或者通過實施本技術而了解。本技術的目的和其他優點在說明書以及附圖中所特別指出的結構來實現和獲得。

    24、為使本技術的上述目的、特征和優點能更明顯易懂,下文特舉較佳實施例,并配合所附附圖,作詳細說明如下。

    本文檔來自技高網
    ...

    【技術保護點】

    1.一種硅片清洗裝置,其特征在于,包括:

    2.根據權利要求1所述的硅片清洗裝置,其特征在于,

    3.根據權利要求1所述的硅片清洗裝置,其特征在于,

    4.根據權利要求1所述的硅片清洗裝置,其特征在于,

    5.根據權利要求1所述的硅片清洗裝置,其特征在于,

    6.根據權利要求5所述的硅片清洗裝置,其特征在于,

    7.根據權利要求1所述的硅片清洗裝置,其特征在于,

    8.根據權利要求7所述的硅片清洗裝置,其特征在于,

    【技術特征摘要】

    1.一種硅片清洗裝置,其特征在于,包括:

    2.根據權利要求1所述的硅片清洗裝置,其特征在于,

    3.根據權利要求1所述的硅片清洗裝置,其特征在于,

    4.根據權利要求1所述的硅片清洗裝置,其特征在于,

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:任金枝左國軍周董娟申斌,成旭,談麗文
    申請(專利權)人:常州捷佳創精密機械有限公司
    類型:新型
    國別省市:

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