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    一種真空滅弧室X射線試驗用自動控制系統(tǒng)及方法技術(shù)方案

    技術(shù)編號:44476803 閱讀:4 留言:0更新日期:2025-03-04 17:45
    本發(fā)明專利技術(shù)涉及真空開關(guān)技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種真空滅弧室X射線試驗用自動控制系統(tǒng)及方法,該系統(tǒng)包括氟化液加液及回收單元、數(shù)據(jù)采集及控制系統(tǒng)、試驗工裝單元、機(jī)械動力單元以及測量單元;試驗工裝單元包括試驗槽、真空滅弧室、以及絕緣支架組件;試驗槽的側(cè)壁開設(shè)觀察窗;絕緣支架組件兩端分別連接電源端;液位傳感器設(shè)置在試驗槽內(nèi);測量單元位于試驗槽外部,且測量單元的測量端對準(zhǔn)試驗槽的觀察窗;數(shù)據(jù)采集及控制系統(tǒng)的控制端分別連接氟化液存儲單元、液位傳感器、機(jī)械動力單元、測量單元以及電源端。本發(fā)明專利技術(shù)實現(xiàn)了自動控制系統(tǒng)集成化、智能化,達(dá)到了真空滅弧室自動分閘、開距自動測量、氟化液自動加液及回收,提升了工作效率。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及真空開關(guān),具體為一種真空滅弧室x射線試驗用自動控制系統(tǒng)及方法。


    技術(shù)介紹

    1、目前,在中低壓領(lǐng)域,真空開關(guān)得到廣泛應(yīng)用,12kv電壓等級真空開關(guān)用量最高,已經(jīng)占領(lǐng)了該電壓等級開關(guān)總產(chǎn)量的99%,并且90%以上的40.5kv電壓等級開關(guān)也是真空開關(guān),可以看出,真空開關(guān)在40.5kv及以下等級中占據(jù)著明顯的優(yōu)勢。但是已有研究結(jié)果表明,?在一定條件下,真空滅弧室會產(chǎn)生危害人體健康的x射線,?iec、gb以及dl標(biāo)準(zhǔn)都已將真空滅弧室的x射線試驗作為型式試驗的一部分納入相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)。

    2、隨著真空技術(shù)的發(fā)展以及sf6作為溫室氣體的使用限制,真空開關(guān)也在向著高電壓、大容量發(fā)展,而真空滅弧室作為真空開關(guān)的核心部件,也是重點的研究對象,而真空滅弧室的x射線試驗作為真空開關(guān)的型式試驗項目之一,進(jìn)行高電壓等級真空滅弧室x射線試驗非常困難,因此本專利技術(shù)設(shè)計了一種真空滅弧室x射線試驗用自動控制系統(tǒng),通過該方法可進(jìn)行額定電壓為126kv及以下真空滅弧室的x射線試驗,以滿足iec、gb以及dl標(biāo)準(zhǔn)中對真空滅弧室x射線試驗的相關(guān)要求。

    3、目前,在進(jìn)行真空滅弧室的x射線試驗時,各高電壓實驗室主要采用一種真空滅弧室的x射線試驗簡易工裝,其可進(jìn)行40.5kv及以下電壓等級真空滅弧室的x射線試驗,采用油作為絕緣介質(zhì),需要手動調(diào)整開距,智能化水平較低。

    4、目前,各高電壓實驗室一般只能進(jìn)行40.5kv及以下真空滅弧室的x射線試驗,而更高電壓等級試驗工裝較少,并且現(xiàn)有技術(shù)中主要采用絕緣油作為絕緣介質(zhì)一般試驗工裝中真空滅弧室皆為直立布置,當(dāng)需要將高壓電源由真空滅弧室的一端轉(zhuǎn)接到另一端時,需將整個真空滅弧室翻轉(zhuǎn),而高電壓等級真空滅弧室重量較大,在翻轉(zhuǎn)時,不僅浪費(fèi)較多時間,并且較為危險。并且現(xiàn)有技術(shù)中,真空滅弧室分閘、測量開距、絕緣介質(zhì)加液及回收多為手動操作,導(dǎo)致試驗系統(tǒng)的智能化水平較低,因此大大影響了工作效率。


    技術(shù)實現(xiàn)思路

    1、為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷,本專利技術(shù)的目的在于提供一種真空滅弧室x射線試驗用自動控制系統(tǒng)及方法,以解決如何實現(xiàn)真空滅弧室試驗工裝的集成化以及智能化的技術(shù)問題。

    2、本專利技術(shù)是通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn):

    3、第一方面,本專利技術(shù)提供了一種真空滅弧室x射線試驗用自動控制系統(tǒng),包括氟化液加液及回收單元、數(shù)據(jù)采集及控制系統(tǒng)、試驗工裝單元、機(jī)械動力單元以及測量單元;

    4、試驗工裝單元包括試驗槽、真空滅弧室、以及絕緣支架組件;

    5、試驗槽的側(cè)壁開設(shè)觀察窗;絕緣支架組件兩端分別連接電源端;真空滅弧室固定設(shè)置在絕緣支架組件上,且位于觀察窗的觀察范圍內(nèi);真空滅弧室設(shè)有靜觸頭和動觸頭;

    6、氟化液加液及回收單元包括氟化液存儲單元和液位傳感器;氟化液存儲單元位于試驗槽外部,且氟化液存儲單元的輸出端連接至試驗槽的輸入口,輸入端連接至試驗槽的輸出口;液位傳感器設(shè)置在試驗槽內(nèi);

    7、機(jī)械動力單元位于試驗槽外部,所述機(jī)械動力單元的驅(qū)動端通過試驗槽連接至動觸頭,用于驅(qū)動動觸頭與靜觸頭做合閘或分閘運(yùn)動;

    8、測量單元位于試驗槽外部,且測量單元的測量端對準(zhǔn)試驗槽的觀察窗;

    9、數(shù)據(jù)采集及控制系統(tǒng)的控制端分別連接氟化液存儲單元、液位傳感器、機(jī)械動力單元、測量單元以及電源端。

    10、優(yōu)選的,絕緣支架組件包括第一絕緣支架和第二絕緣支架;

    11、真空滅弧室位于第一絕緣支架和第二絕緣支架之間,其中靜觸頭的一端通過真空滅弧室的一端裝配在第一絕緣支架上,動觸頭經(jīng)真空滅弧室的另一端設(shè)置在第二絕緣支架上,且通過第二絕緣支架與機(jī)械動力單元的驅(qū)動端連接;

    12、試驗槽底部位于第一絕緣支架的一側(cè)設(shè)有滑軌,第一絕緣支架滑動連接在滑軌上,用于控制與第二絕緣支架之間的間距,并將真空滅弧室裝配在第一絕緣支架和第二絕緣支架之間。

    13、進(jìn)一步的,第一絕緣支架包括第一絕緣支柱和第一固定支架;第二絕緣支架包括第二絕緣支柱和第二固定支架;

    14、第一固定支架和第二固定支架的底端分別通過螺栓固定連接至第一絕緣支柱和第二絕緣支柱上;第一固定支架和第二固定支架的頂端設(shè)有接線孔,且通過接線孔連接電源端,其中第一固定支架的接線孔通過第一銅線接地設(shè)置或連接高壓電源,第二固定支架的接線孔通過第二銅線連接至高壓電源或接地設(shè)置。

    15、更進(jìn)一步的,試驗槽的外壁為鉛板,試驗槽靠近第二固定支架的一側(cè)設(shè)有軸封;機(jī)械動力單元的驅(qū)動端通過軸封經(jīng)第二固定支架連接至動觸頭。

    16、更進(jìn)一步的,機(jī)械動力單元包括電機(jī)、傳動裝置、傳感器、機(jī)械特性測試儀以及傳動軸;

    17、電機(jī)的驅(qū)動端經(jīng)傳動裝置連接至傳動軸;傳動軸通過軸封經(jīng)第二固定支架連接至動觸頭;

    18、傳感器設(shè)置在傳動軸上,且傳感器的輸出端連接機(jī)械特性測試儀;

    19、電機(jī)和機(jī)械特性測試儀分別連接至數(shù)據(jù)采集及控制系統(tǒng)。

    20、優(yōu)選的,測量單元包括巡視儀、監(jiān)控攝像頭以及升降移動裝置;

    21、巡視儀架設(shè)在升降移動裝置上,且通過升降移動裝置移動至試驗槽的觀察窗外,用于監(jiān)測觀察窗內(nèi)真空滅弧室所產(chǎn)生的x射線;

    22、監(jiān)控攝像頭位于試驗槽外部,用于實時記錄整體試驗過程;

    23、巡視儀和監(jiān)控攝像頭分別連接至數(shù)據(jù)采集及控制系統(tǒng)。

    24、優(yōu)選的,氟化液存儲單元包括儲液罐和氟化液泵;

    25、儲液罐的輸出端經(jīng)氟化液泵連接至試驗槽的輸入口,且在氟化液泵與試驗槽的輸入口之間設(shè)有第一電磁閥;

    26、儲液罐的輸入端連接至試驗槽的輸出口,且在儲液罐的輸入端和試驗槽的輸出口之間設(shè)有第二電磁閥;

    27、氟化液泵、第一電磁閥以及第二電磁閥分別連接至數(shù)據(jù)采集及控制系統(tǒng)。

    28、優(yōu)選的,試驗槽的頂部兩端分別設(shè)有吊環(huán),試驗槽的底部架設(shè)在絕緣移動裝置上,用于試驗槽的位移移動;絕緣移動裝置包括兩組支柱絕緣子;兩組支柱絕緣子分別設(shè)置在試驗槽底部兩側(cè),且兩組支柱絕緣子的底端分別設(shè)有萬向輪,萬向輪上設(shè)有鎖死機(jī)構(gòu)。

    29、優(yōu)選的,數(shù)據(jù)采集及控制系統(tǒng)內(nèi)設(shè)有控制模塊,控制模塊的輸入端連接信號采集模塊,控制模塊的輸出端連接信號驅(qū)動模塊;信號采集模塊分別連接液位傳感器和測量單元;信號驅(qū)動模塊分別連接氟化液存儲單元、機(jī)械動力單元以及電源端。

    30、第二方面,本專利技術(shù)還提供了一種真空滅弧室x射線試驗用自動控制方法,基于上述所述的一種空滅弧室x射線試驗用自動控制系統(tǒng),包括如下過程:

    31、數(shù)據(jù)采集及控制系統(tǒng)驅(qū)動機(jī)械動力單元,使得機(jī)械動力單元的驅(qū)動端經(jīng)試驗槽帶動動觸頭運(yùn)動,使得動觸頭與靜觸頭在真空滅弧室為分開狀態(tài);機(jī)械動力單元通過傳感器檢測得到動觸頭與靜觸頭的開距后,并將數(shù)據(jù)傳輸?shù)綌?shù)據(jù)采集及控制系統(tǒng),數(shù)據(jù)采集及控制系統(tǒng)對動觸頭與靜觸頭的開距進(jìn)行限位,當(dāng)動觸頭與靜觸頭的開距達(dá)到試驗要求的最小開距時,數(shù)據(jù)采集及控制系統(tǒng)控制電機(jī)自動停止;

    32、數(shù)據(jù)采集及控制系統(tǒng)驅(qū)動本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點】

    1.一種真空滅弧室X射線試驗用自動控制系統(tǒng),其特征在于,包括氟化液加液及回收單元(1)、數(shù)據(jù)采集及控制系統(tǒng)(2)、試驗工裝單元(3)、機(jī)械動力單元(4)以及測量單元(5);

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空滅弧室X射線試驗用自動控制系統(tǒng),其特征在于,絕緣支架組件包括第一絕緣支架和第二絕緣支架;

    3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種真空滅弧室X射線試驗用自動控制系統(tǒng),其特征在于,第一絕緣支架包括第一絕緣支柱(37)和第一固定支架(39);第二絕緣支架包括第二絕緣支柱(38)和第二固定支架(310);

    4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種真空滅弧室X射線試驗用自動控制系統(tǒng),其特征在于,試驗槽(31)的外壁為鉛板,試驗槽(31)靠近第二固定支架(310)的一側(cè)設(shè)有軸封(311);機(jī)械動力單元(4)的驅(qū)動端通過軸封(311)經(jīng)第二固定支架(310)連接至動觸頭(34)。

    5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種真空滅弧室X射線試驗用自動控制系統(tǒng),其特征在于,機(jī)械動力單元(4)包括電機(jī)(41)、傳動裝置(42)、傳感器(43)、機(jī)械特性測試儀(44)以及傳動軸(45);

    6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空滅弧室X射線試驗用自動控制系統(tǒng),其特征在于,測量單元(5)包括巡視儀(51)、監(jiān)控攝像頭(52)以及升降移動裝置(53);

    7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空滅弧室X射線試驗用自動控制系統(tǒng),其特征在于,氟化液存儲單元包括儲液罐(11)和氟化液泵(12);

    8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空滅弧室X射線試驗用自動控制系統(tǒng),其特征在于,試驗槽(31)的頂部兩端分別設(shè)有吊環(huán)(313),試驗槽(31)的底部架設(shè)在絕緣移動裝置上,用于試驗槽(31)的位移移動;絕緣移動裝置包括兩組支柱絕緣子(314);兩組支柱絕緣子(314)分別設(shè)置在試驗槽(31)底部兩側(cè),且兩組支柱絕緣子(314)的底端分別設(shè)有萬向輪(315),萬向輪(315)上設(shè)有鎖死機(jī)構(gòu)。

    9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空滅弧室X射線試驗用自動控制系統(tǒng),其特征在于,數(shù)據(jù)采集及控制系統(tǒng)(2)內(nèi)設(shè)有控制模塊,控制模塊的輸入端連接信號采集模塊,控制模塊的輸出端連接信號驅(qū)動模塊;信號采集模塊分別連接液位傳感器(15)和測量單元(5);信號驅(qū)動模塊分別連接氟化液存儲單元、機(jī)械動力單元(4)以及電源端。

    10.一種真空滅弧室X射線試驗用自動控制方法,其特征在于,基于權(quán)利要求1-9任一項所述的一種空滅弧室X射線試驗用自動控制系統(tǒng),包括如下過程:

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    【技術(shù)特征摘要】

    1.一種真空滅弧室x射線試驗用自動控制系統(tǒng),其特征在于,包括氟化液加液及回收單元(1)、數(shù)據(jù)采集及控制系統(tǒng)(2)、試驗工裝單元(3)、機(jī)械動力單元(4)以及測量單元(5);

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空滅弧室x射線試驗用自動控制系統(tǒng),其特征在于,絕緣支架組件包括第一絕緣支架和第二絕緣支架;

    3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種真空滅弧室x射線試驗用自動控制系統(tǒng),其特征在于,第一絕緣支架包括第一絕緣支柱(37)和第一固定支架(39);第二絕緣支架包括第二絕緣支柱(38)和第二固定支架(310);

    4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種真空滅弧室x射線試驗用自動控制系統(tǒng),其特征在于,試驗槽(31)的外壁為鉛板,試驗槽(31)靠近第二固定支架(310)的一側(cè)設(shè)有軸封(311);機(jī)械動力單元(4)的驅(qū)動端通過軸封(311)經(jīng)第二固定支架(310)連接至動觸頭(34)。

    5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種真空滅弧室x射線試驗用自動控制系統(tǒng),其特征在于,機(jī)械動力單元(4)包括電機(jī)(41)、傳動裝置(42)、傳感器(43)、機(jī)械特性測試儀(44)以及傳動軸(45);

    6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空滅弧室x射線試驗用自動控制系統(tǒng),其特征在于,測量單...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:陸建挺齊飛安海艦蘇春強(qiáng)申萌蘇建政
    申請(專利權(quán))人:西安高壓電器研究院股份有限公司
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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