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    光學成像系統及電子設備技術方案

    技術編號:44470248 閱讀:3 留言:0更新日期:2025-03-04 17:41
    本申請公開了一種光學成像系統及電子設備,屬于光學成像技術領域。所公開的電子設備包括光學成像系統,所公開的光學成像系統包括:正透鏡、負透鏡和超構透鏡,在光學成像系統的光軸所在方向且自物側至成像面的方向上,負透鏡、正透鏡以及超構透鏡依次設置,負透鏡用于擴散光線,正透鏡用于聚焦光線,超構透鏡的物側面或像側面中的至少一者為超表面,且超表面包括至少兩個間隔設置的微結構。相較于傳統由折射透鏡構成的光學成像系統,本申請所公開的光學成像系統體積更小。

    【技術實現步驟摘要】

    本申請屬于光學成像,具體涉及一種光學成像系統及電子設備


    技術介紹

    1、近些年,隨著具備攝影功能的可攜帶電子產品的快速發展,對小型化光學成像系統的要求也日益提高。

    2、然而,為了滿足市場發展的需求,傳統光學成像系統往往不可避免地使用三片以上折射透鏡,以保證成像質量,但由此會造成光學成像系統的體積較大,不利于實現可攜帶電子產品的小型化。


    技術實現思路

    1、本申請實施例的目的是提供一種光學成像系統及電子設備,能夠解決相關技術中光學成像系統體積較大的問題。

    2、第一方面,本申請實施例提供一種光學成像系統,包括:正透鏡、負透鏡和超構透鏡,在所述光學成像系統的光軸所在方向且自物側至成像面的方向上,所述負透鏡、所述正透鏡以及所述超構透鏡依次設置,所述負透鏡用于擴散光線,所述正透鏡用于聚焦光線,所述超構透鏡的物側面或像側面中的至少一者為超表面,且所述超表面包括至少兩個間隔設置的微結構。

    3、第二方面,本申請實施例提供一種電子設備,包括:前文所述的光學成像系統。

    4、在本申請實施例中,光學成像系統包括超構透鏡,超構透鏡的超表面包括至少兩個間隔設置的微結構,超構透鏡每個位置的相位都可以通過微結構的結構參數來調整,這使得超構透鏡具有較大的自由度,可以產生任意的相位面形,從而一個超構透鏡可取代至少兩片折射透鏡,這樣一來,在同樣的成像需求下,本申請實施例提供的光線成像系統相對于傳統由折射透鏡構成的光學成像系統體積更小。此外,由于超構透鏡的體積小于折射透鏡的體積,即使僅利用超構透鏡取代一片折射透鏡,也可使傳統光學成像系統的體積縮小。

    本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    1.一種光學成像系統,其特征在于,包括:正透鏡(100)、負透鏡(200)和超構透鏡(300),在所述光學成像系統的光軸所在方向且自物側至成像面的方向上,所述負透鏡(200)、所述正透鏡(100)以及所述超構透鏡(300)依次設置,所述負透鏡(200)用于擴散光線(500),所述正透鏡(100)用于聚焦光線(500),所述超構透鏡(300)的物側面或像側面中的至少一者為超表面(310),且所述超表面(310)包括至少兩個間隔設置的微結構(311)。

    2.根據權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,所述負透鏡(200)的數量為至少兩個,其中包括第一負透鏡(200a)和第二負透鏡(200b);在所述光軸所在方向且自物側至成像面的方向上,所述第一負透鏡(200a)、所述第二負透鏡(200b)以及所述正透鏡(100)依次設置;所述第一負透鏡(200a)的物側面為凹面,所述第一負透鏡(200a)的像側面為凸面;第二負透鏡(200b)的物側面為凸面,第二負透鏡(200b)的像側面為凹面。

    3.根據權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,所述正透鏡(100)的數量為至少兩個,其中包括第一正透鏡(100a)、第二正透鏡(100b)以及第三正透鏡(100c);在所述光軸所在方向且自物側至成像面的方向上,所述負透鏡(200)、所述第一正透鏡(100a)、所述第二正透鏡(100b)、所述第三正透鏡(100c)以及所述超構透鏡(300)依次設置;所述第一正透鏡(100a)的物側面為凹面,所述第一正透鏡(100a)的像側面為凸面;所述第二正透鏡(100b)的物側面為凸面,所述第二正透鏡(100b)的像側面為平面;所述第三正透鏡(100c)的物側面為凸面,所述第三正透鏡(100c)的像側面為凹面。

    4.根據權利要求3所述的光學成像系統,其特征在于,所述第一正透鏡(100a)的物側面和像側面以及所述第三正透鏡(100c)的物側面和像側面均為弧形結構,且所述第一正透鏡(100a)的像側面的曲率小于所述第三正透鏡(100c)的物側面的曲率。

    5.根據權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,所述正透鏡(100)的物側面和像側面中的至少一者以及所述負透鏡(200)的物側面和像側面中的一者為球面鏡面或偶次非球面鏡面,所述偶次非球面鏡面的面型滿足以下關系:

    6.根據權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,所述超構透鏡(300)的物側面和像側面均為所述超表面(310);

    7.根據權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,所述微結構(311)為圓柱結構,且所述超表面(310)的各所述微結構(311)呈四方晶格周期陣列排列。

    8.根據權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,所述超表面(310)的相位的分布滿足以下關系:

    9.根據權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,所述光學成像系統還包括紅外焦平面探測器(400),在所述光軸所在方向且自物側至成像面的方向上,所述負透鏡(200)、所述正透鏡(100)、所述超構透鏡(300)以及所述紅外焦平面探測器(400)依次設置。

    10.一種電子設備,其特征在于,包括如權利要求1-9任一項所述的光學成像系統。

    ...

    【技術特征摘要】

    1.一種光學成像系統,其特征在于,包括:正透鏡(100)、負透鏡(200)和超構透鏡(300),在所述光學成像系統的光軸所在方向且自物側至成像面的方向上,所述負透鏡(200)、所述正透鏡(100)以及所述超構透鏡(300)依次設置,所述負透鏡(200)用于擴散光線(500),所述正透鏡(100)用于聚焦光線(500),所述超構透鏡(300)的物側面或像側面中的至少一者為超表面(310),且所述超表面(310)包括至少兩個間隔設置的微結構(311)。

    2.根據權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,所述負透鏡(200)的數量為至少兩個,其中包括第一負透鏡(200a)和第二負透鏡(200b);在所述光軸所在方向且自物側至成像面的方向上,所述第一負透鏡(200a)、所述第二負透鏡(200b)以及所述正透鏡(100)依次設置;所述第一負透鏡(200a)的物側面為凹面,所述第一負透鏡(200a)的像側面為凸面;第二負透鏡(200b)的物側面為凸面,第二負透鏡(200b)的像側面為凹面。

    3.根據權利要求1所述的光學成像系統,其特征在于,所述正透鏡(100)的數量為至少兩個,其中包括第一正透鏡(100a)、第二正透鏡(100b)以及第三正透鏡(100c);在所述光軸所在方向且自物側至成像面的方向上,所述負透鏡(200)、所述第一正透鏡(100a)、所述第二正透鏡(100b)、所述第三正透鏡(100c)以及所述超構透鏡(300)依次設置;所述第一正透鏡(100a)的物側面為凹面,所述第一正透鏡(100a)的像側面為凸面;所述第二正透鏡(100b)的物...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:魏東馬強蔡宏毛慧浦世亮易飛李林翰陳巖侯銘銘
    申請(專利權)人:杭州海康威視數字技術股份有限公司
    類型:新型
    國別省市:

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