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    玻璃板的清洗方法技術

    技術編號:44454915 閱讀:4 留言:0更新日期:2025-02-28 19:00
    本發明專利技術玻璃板的清洗方法,包括采用第一清洗劑對玻璃板進行第一超聲波清洗,所述第一超聲波清洗設置第一清洗溫度,所述第一清洗劑包括氫氧化鈉、碳酸鈉以及去離子水;采用第二清洗劑對所述玻璃板進行第二超聲波清洗,所述第一超聲波清洗設置高于所述第一清洗溫度且不大于80℃的第二清洗溫度,所述第二清洗劑包括檸檬酸、丙二醇甲醚、脂肪醇聚氧乙烯醚AEO?9、異構醇聚氧乙烯醚TO?7及去離子水;將所述玻璃板置于噴淋槽內進行淋洗;以及將所述玻璃板干燥。該方法操作簡單、成本低,有效提高清洗效果,防止半導體產品被二次污染,同時延長玻璃板的使用壽命。

    【技術實現步驟摘要】

    本專利技術涉及玻璃制造領域,尤其涉及一種玻璃板的清洗方法。


    技術介紹

    1、在半導體加工領域中,經常需要用玻璃載體作為承載板或夾具以支撐半導體產品以進行加工。加工后,玻璃板表面常留有污物,如粘接劑等。因此,有必要對玻璃板進行清洗以利于延長使用壽命。由于玻璃板的結構特質,在使用普通清洗劑清洗后容易在玻璃邊緣和玻璃縫隙中產生肉眼不可見的納米級臟污和水漬,導致半導體產品被二次污染。

    2、因此,亟待提供一種改進的玻璃板的清洗方法以克服以上缺陷。


    技術實現思路

    1、本專利技術的目的在于提供一種改進的玻璃板的清洗方法,該方法操作簡單、成本低,有效提高清洗效果,防止半導體產品被二次污染,同時延長玻璃板的使用壽命。

    2、為實現上述目的,本專利技術玻璃板的清洗方法,包括以下步驟:

    3、采用第一清洗劑對玻璃板進行第一超聲波清洗,所述第一超聲波清洗設置第一清洗溫度,所述第一清洗劑包括氫氧化鈉、碳酸鈉以及去離子水;

    4、采用第二清洗劑對所述玻璃板進行第二超聲波清洗,所述第一超聲波清洗設置高于所述第一清洗溫度且不大于80℃的第二清洗溫度,所述第二清洗劑包括檸檬酸、丙二醇甲醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、異構醇聚氧乙烯醚及去離子水;

    5、將所述玻璃板置于噴淋槽內進行淋洗;以及

    6、將所述玻璃板干燥。

    7、與現有技術相比,本專利技術首先采用特定的第一清洗劑對玻璃板進行第一超聲波清洗,接著采用特定的第二清洗劑對玻璃板進行第二超聲波清洗,其中第二超聲波清洗中的第二清洗溫度大于第一超聲波清洗中的第一清洗溫度,且該第二清洗溫度控制在不高于80℃,這樣的好處是使第二清洗劑中的有效組分充分發揮作用,提高清洗效果。特定地,第一清洗劑包括氫氧化鈉、碳酸鈉以及去離子水,對玻璃杯進行預清洗,第二清洗劑包括檸檬酸、丙二醇甲醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、異構醇聚氧乙烯醚及去離子水,在合適的溫度下進行超聲波清洗,效果十分優異。接著,玻璃板在噴淋槽中進行淋洗,將清洗劑充分清洗掉,最后進行干燥步驟。該清洗方法操作簡單、成本低,可以有效清洗玻璃板邊緣和玻璃縫隙中肉眼不可見的納米級臟污和水漬,清洗效果佳,防止半導體產品被二次污染,同時延長玻璃板的使用壽命。

    8、作為一個優選實施例,所述第一清洗溫度為25-30℃,所述第二清洗溫度為60-80℃。

    9、作為一個優選實施例,還包括控制所述第一超聲波清洗中的超聲波電流大于所述第二超聲波清洗的超聲波電流。

    10、作為一個優選實施例,所述第一超聲波清洗中的超聲波電流為5-6a,所述第二超聲波清洗的超聲波電流為2-3a。

    11、作為一個優選實施例,以質量百分比計,所述第一清洗劑包括氫氧化鈉15%、碳酸鈉5%以及去離子水80%。

    12、作為一個優選實施例,以質量百分比計,所述第二清洗劑包括檸檬酸7%、丙二醇甲醚28%、脂肪醇聚氧乙烯醚aeo-9?2%、異構醇聚氧乙烯醚to-7?3%及去離子水60%。

    13、作為一個優選實施例,所述噴淋之后,所述干燥之前,還包括采用純水對所述玻璃板進行超聲波漂洗,漂洗溫度為50-60℃,超聲波電流為5-6a。

    14、作為一個優選實施例,所述干燥包括鼓風干燥及烘烤。

    15、作為一個優選實施例,所述鼓風干燥包括采用常溫氮氣吹干所述玻璃板。

    16、作為一個優選實施例,所述烘烤包括:將經鼓風干燥后的所述玻璃板置于烤箱中烘烤,烘烤溫度為150-180℃。

    本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    1.一種玻璃板的清洗方法,其特征在于,包括以下步驟:

    2.如權利要求1所述的玻璃板的清洗方法,其特征在于:所述第一清洗溫度為25-30℃,所述第二清洗溫度為60-80℃。

    3.如權利要求1所述的玻璃板的清洗方法,其特征在于:還包括控制所述第一超聲波清洗中的超聲波電流大于所述第二超聲波清洗的超聲波電流。

    4.如權利要求3所述的玻璃板的清洗方法,其特征在于:所述第一超聲波清洗中的超聲波電流為5-6A,所述第二超聲波清洗的超聲波電流為2-3A。

    5.如權利要求1所述的玻璃板的清洗方法,其特征在于:以質量百分比計,所述第一清洗劑包括氫氧化鈉15%、碳酸鈉5%以及去離子水80%。

    6.如權利要求1所述的玻璃板的清洗方法,其特征在于:以質量百分比計,所述第二清洗劑包括檸檬酸7%、丙二醇甲醚28%、脂肪醇聚氧乙烯醚2%、異構醇聚氧乙烯醚3%及去離子水60%。

    7.如權利要求1所述的玻璃板的清洗方法,其特征在于:所述噴淋之后,所述干燥之前,還包括采用純水對所述玻璃板進行超聲波漂洗,漂洗溫度為50-60℃,超聲波電流為5-6A。

    8.如權利要求1所述的玻璃板的清洗方法,其特征在于:所述干燥包括鼓風干燥及烘烤。

    9.如權利要求8所述的玻璃板的清洗方法,其特征在于:所述鼓風干燥包括采用常溫氮氣吹干所述玻璃板。

    10.如權利要求8所述的玻璃板的清洗方法,其特征在于,所述烘烤包括:將經鼓風干燥后的所述玻璃板置于烤箱中烘烤,烘烤溫度為150-180℃。

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    【技術特征摘要】

    1.一種玻璃板的清洗方法,其特征在于,包括以下步驟:

    2.如權利要求1所述的玻璃板的清洗方法,其特征在于:所述第一清洗溫度為25-30℃,所述第二清洗溫度為60-80℃。

    3.如權利要求1所述的玻璃板的清洗方法,其特征在于:還包括控制所述第一超聲波清洗中的超聲波電流大于所述第二超聲波清洗的超聲波電流。

    4.如權利要求3所述的玻璃板的清洗方法,其特征在于:所述第一超聲波清洗中的超聲波電流為5-6a,所述第二超聲波清洗的超聲波電流為2-3a。

    5.如權利要求1所述的玻璃板的清洗方法,其特征在于:以質量百分比計,所述第一清洗劑包括氫氧化鈉15%、碳酸鈉5%以及去離子水80%。

    6.如權利要求1所述的玻璃板的清洗方法...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:萬知武,
    申請(專利權)人:東莞新科技術研究開發有限公司,
    類型:發明
    國別省市:

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