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    改善絕緣層破裂的發光二極管及其制備方法技術

    技術編號:44414204 閱讀:3 留言:0更新日期:2025-02-25 10:29
    本公開提供了一種改善絕緣層破裂的發光二極管及其制備方法,屬于光電子制造技術領域。該發光二極管包括:外延層、電極和絕緣層,所述電極位于所述外延層的表面上,所述絕緣層位于所述電極的表面上;所述絕緣層包括:絕緣材料層和金屬阻擋層,所述金屬阻擋層位于所述絕緣材料層內。本公開實施例能改善絕緣層在鍵合過程中易破裂而導致發光二極管出現漏電失效的問題。

    【技術實現步驟摘要】

    本公開涉及光電子制造,特別涉及一種改善絕緣層破裂的發光二極管及其制備方法


    技術介紹

    1、發光二極管(英文:light?emitting?diode,簡稱:led)是常見的制品。led通常是在襯底上制造各種膜層并進行圖形化處理后,并進行切割形成的一顆一顆的led芯粒。

    2、相關技術中,在制備發光二極管時,首先,在襯底上形成外延層和位于外延層的表面上的第一電極;然后,在外延層上形成包裹第一電極的絕緣層,絕緣層還具有露出外延層的過孔;接著,在導電基板的表面和絕緣層的表面均形成鍵合金屬,通過鍵合金屬將導電基板和絕緣層鍵合在一起,并去除襯底。

    3、由于制備發光二極管的過程中,在發光二極管的部分表面或多或少會留存有細微顆粒。而在高壓鍵合的工況下,這些細微顆粒會擠壓并頂破絕緣層,導致絕緣層兩側的金屬材料導通,從而造成發光二極管出現漏電失效的問題。


    技術實現思路

    1、本公開實施例提供了一種改善絕緣層破裂的發光二極管及其制備方法,能改善絕緣層在鍵合過程中易破裂而導致發光二極管出現漏電失效的問題。所述技術方案如下:

    2、一方面,本公開實施例提供了一種發光二極管,所述發光二極管包括:外延層、電極和絕緣層,所述電極位于所述外延層的表面上,所述絕緣層位于所述電極的表面上;所述絕緣層包括:絕緣材料層和金屬阻擋層,所述金屬阻擋層位于所述絕緣材料層內。

    3、可選地,所述金屬阻擋層包括兩層粘附金屬層和抗壓金屬層,所述抗壓金屬層夾設在兩層所述粘附金屬層之間。

    <p>4、可選地,所述金屬阻擋層還包括攔截金屬層,所述攔截金屬層夾設在所述抗壓金屬層和任一所述粘附金屬層之間。

    5、可選地,所述攔截金屬層包括pt層和ti層中的至少一種。

    6、可選地,所述粘附金屬層包括ti層,所述抗壓金屬層包括au層和al層中的至少一種。

    7、可選地,所述粘附金屬層的厚度為1nm至20nm,所述抗壓金屬層的厚度為100nm至300nm,所述攔截金屬層的厚度為50nm至150nm。

    8、可選地,所述絕緣層包括至少兩個所述金屬阻擋層。

    9、可選地,所述金屬阻擋層在所述外延層的遠離所述電極的表面上的正投影為第一投影,所述絕緣材料層在所述外延層的遠離所述電極的表面上的正投影為第二投影;所述第一投影的面積與所述第二投影的面積之比大于或者等于0.8。

    10、可選地,所述發光二極管還包括透明導電層、導電基板和鍵合金屬層;所述外延層包括依次層疊的第一半導體層、多量子阱層和第二半導體層,所述透明導電層位于所述第一半導體層的遠離所述第二半導體層的表面,所述電極位于所述透明導電層的遠離所述第二半導體層的表面上,且與所述透明導電層電性連接;所述第一半導體層的遠離所述第二半導體層的表面具有露出所述第二半導體層的第二凹槽,所述絕緣層具有位于所述第二凹槽內的部分,位于所述第二凹槽內的所述絕緣層的部分具有露出所述第二半導體層的過孔,所述鍵合金屬層位于所述絕緣層的遠離所述外延層的表面,且位于所述第二凹槽內與所述第二半導體層電性連接,所述導電基板位于所述鍵合金屬層的遠離所述絕緣層的表面上。

    11、本公開實施例提供了一種發光二極管的制備方法,所述制備方法包括:在襯底上制備外延層;在所述外延層的表面形成電極和絕緣層,使所述絕緣層包裹所述電極,所述絕緣層包括:絕緣材料層和金屬阻擋層,所述絕緣材料層具有相反的第一表面和第二表面,所述第一表面與所述外延層的表面相連,所述金屬阻擋層位于所述絕緣材料層內,且所述金屬阻擋層位于所述第一表面和所述第二表面之間;在所述絕緣層的第二表面和導電基板的表面涂覆鍵合金屬層,將所述導電基板鍵合至所述絕緣層的第二表面所在側,并去除所述襯底。

    12、本公開實施例提供的技術方案帶來的有益效果至少包括:

    13、本公開實施例提供的發光二極管中的絕緣層包括絕緣材料層和金屬阻擋層。通過在絕緣材料層內嵌入金屬阻擋層,利用金屬阻擋層抵御絕緣材料層表面的細微顆粒。防止在高壓鍵合的工況下,細微顆粒穿透絕緣層,以避免絕緣層兩側的金屬材料導通,而導致發光二極管漏電失效的問題。同時,金屬阻擋層采用絕緣材料層包裹,也能避免金屬阻擋層與其他膜層連接而出現短路的問題,提升發光二極管的可靠性。

    本文檔來自技高網
    ...

    【技術保護點】

    1.一種發光二極管,其特征在于,所述發光二極管包括:外延層(20)、電極(30)和絕緣層(40),所述電極(30)位于所述外延層(20)的表面上,所述絕緣層(40)位于所述電極(30)的表面上;

    2.根據權利要求1所述的發光二極管,其特征在于,所述金屬阻擋層(42)包括兩層粘附金屬層(421)和抗壓金屬層(422),所述抗壓金屬層(422)夾設在兩層所述粘附金屬層(421)之間。

    3.根據權利要求2所述的發光二極管,其特征在于,所述金屬阻擋層(42)還包括攔截金屬層(423),所述攔截金屬層(423)夾設在所述抗壓金屬層(422)和任一所述粘附金屬層(421)之間。

    4.根據權利要求3所述的發光二極管,其特征在于,所述攔截金屬層(423)包括Pt層和Ti層中的至少一種。

    5.根據權利要求2所述的發光二極管,其特征在于,所述粘附金屬層(421)包括Ti層,所述抗壓金屬層(422)包括Au層和Al層中的至少一種。

    6.根據權利要求3所述的發光二極管,其特征在于,所述粘附金屬層(421)的厚度為1nm至20nm,所述抗壓金屬層(422)的厚度為100nm至300nm,所述攔截金屬層(423)的厚度為50nm至150nm。

    7.根據權利要求1至6任一項所述的發光二極管,其特征在于,所述絕緣層(40)包括至少兩個所述金屬阻擋層(42)。

    8.根據權利要求1至6任一項所述的發光二極管,其特征在于,所述金屬阻擋層(42)在所述外延層(20)的遠離所述電極(30)的表面上的正投影為第一投影,所述絕緣材料層(41)在所述外延層(20)的遠離所述電極(30)的表面上的正投影為第二投影;

    9.根據權利要求1至6任一項所述的發光二極管,其特征在于,所述發光二極管還包括透明導電層(50)、導電基板(70)和鍵合金屬層(80);

    10.一種發光二極管的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括:

    ...

    【技術特征摘要】

    1.一種發光二極管,其特征在于,所述發光二極管包括:外延層(20)、電極(30)和絕緣層(40),所述電極(30)位于所述外延層(20)的表面上,所述絕緣層(40)位于所述電極(30)的表面上;

    2.根據權利要求1所述的發光二極管,其特征在于,所述金屬阻擋層(42)包括兩層粘附金屬層(421)和抗壓金屬層(422),所述抗壓金屬層(422)夾設在兩層所述粘附金屬層(421)之間。

    3.根據權利要求2所述的發光二極管,其特征在于,所述金屬阻擋層(42)還包括攔截金屬層(423),所述攔截金屬層(423)夾設在所述抗壓金屬層(422)和任一所述粘附金屬層(421)之間。

    4.根據權利要求3所述的發光二極管,其特征在于,所述攔截金屬層(423)包括pt層和ti層中的至少一種。

    5.根據權利要求2所述的發光二極管,其特征在于,所述粘附金屬層(421)包括ti層,所述抗壓金屬層(422)包括au層和a...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:江賓,張舜,宋飛翔,石躍航,韓藝蕃
    申請(專利權)人:京東方華燦光電浙江有限公司,
    類型:發明
    國別省市:

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