【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及一種光掩模的圖案檢查裝置和圖案檢查方法。
技術介紹
1、在顯示器等電子器件等產品的制造工藝中，使用光掩模。為了進行光掩模的質量管理、質量保證，在光掩模的制造工藝中，進行對形成于光掩模上的圖案進行檢查的圖案檢查。
2、但是，在通過圖案檢查而檢測出的缺陷中，除了不良、故障等會對產品造成影響的真缺陷，有時還包含了不會對產品造成影響的偽缺陷(也稱為假缺陷)。作業(yè)員需要進行確認作業(yè)(缺陷復查)，來確認圖案檢查裝置的缺陷檢查的輸出結果為真缺陷還是偽缺陷。為了減輕作業(yè)員的作業(yè)負擔，已提出一種減少圖案檢查裝置檢測偽缺陷的方法。以往的防止檢測偽缺陷的方法，可防止因相對于所設計的圖案發(fā)生的規(guī)定尺寸變化(或形狀變化)而檢測到偽缺陷。
3、現有技術文獻
4、專利文獻
5、專利文獻1：日本特開平5-198641號公報
6、專利文獻2：日本特開2000-258352號公報
技術實現思路
1、專利技術要解決的技術問題
2、構成電子器件的電路等的設計圖案，在光掩模的制造工藝中，有時會包含圖案形成的非保證(不能保證)的設計圖案。關于這樣的在制造上為非保證的設計圖案，在所制成的光掩模中，混有解析狀態(tài)或未解析狀態(tài)，而造成由圖案檢查裝置檢測的缺陷頻繁發(fā)生的情況。
3、但是，在不影響器件的性能、可靠性的情況下，對這樣的在制造上為非保證的特定圖案進行修正，會使設計人員的作業(yè)負擔增加。若是為了減少設計人員的作業(yè)負擔而允許這樣的非保
4、鑒于上述技術問題，本專利技術要解決的技術問題在于提供一種光掩模的圖案檢查方法和圖案檢查裝置，其能夠防止將與光掩模的制造上為非保證的圖案對應的區(qū)域檢測(或識別)為缺陷。
5、用于解決技術問題的技術手段
6、本專利技術的圖案檢查裝置，用于檢查光掩模的缺陷，使用包含非保證設計圖案的所述光掩模的掩模圖案數據、和包含通過對所述光掩模進行圖案檢查而獲取的缺陷的位置和形狀的缺陷數據，從所述缺陷數據中將與所述非保證設計圖案對應的區(qū)域從被識別為真缺陷的缺陷識別區(qū)域排除。
7、通過采用這樣的圖案檢查裝置，能夠容許起因于光掩模的制造中非保證的圖案的缺陷，不僅能夠減輕光掩模的制造工廠中的缺陷復查的作業(yè)負擔，還能夠減輕設計人員的圖案設計的作業(yè)負擔。
8、此外，在上述的結構中可以構成為，將與所述非保證設計圖案對應的區(qū)域從所述缺陷識別區(qū)域刪除、或與所述真缺陷區(qū)分地分類為偽缺陷。
9、通過采用這樣的圖案檢查裝置，能夠活用以往的圖案檢查的缺陷數據。
10、此外，在上述的組成中可以構成為，將與所述非保證設計圖案對應的區(qū)域從執(zhí)行所述圖案檢查的區(qū)域排除。
11、通過采用這樣的圖案檢查裝置，能夠減輕圖案檢查裝置的負擔。
12、本專利技術的光掩模的圖案檢查方法包括：非保證圖案提取步驟，基于用于形成光掩模的圖案的設計圖案，提取所述光掩模的非保證設計圖案；掩模圖案生成步驟，生成包含所述非保證設計圖案的掩模圖案；和圖案檢查步驟，為了檢測出所述光掩模上的真缺陷而執(zhí)行圖案檢查，將與所述掩模圖案對應的區(qū)域從被識別為所述真缺陷的缺陷識別區(qū)域排除。
13、通過采用這樣的光掩模的圖案檢查方法，能夠容許因光掩模的制造中非保證的圖案而產生的缺陷，不僅能夠減輕制造工廠中的缺陷復查的作業(yè)負擔，還能夠減輕設計人員的圖案設計的作業(yè)負擔。
14、此外，上述方式中也可以是，所述掩模圖案通過以規(guī)定量擴張所述非保證設計圖案而生成。
15、通過采用這樣的光掩模的圖案檢查方法，能夠正確地生成圖案。
16、此外，上述方式中也可以是，通過從在所述圖案檢查步驟中獲取到的缺陷數據將與所述掩模圖案對應的區(qū)域的缺陷刪除或分類為偽缺陷，將與所述掩模圖案對應的區(qū)域從所述缺陷識別區(qū)域排除。
17、通過采用這樣的光掩模的圖案檢查方法，能夠活用以往的圖案檢查的缺陷數據。
18、此外，上述方式中也可以是，通過在所述圖案檢查步驟中將與所述掩模圖案對應的區(qū)域從檢查區(qū)域排除，將與所述掩模圖案對應的區(qū)域從所述缺陷識別區(qū)域排除。
19、通過采用這樣的光掩模的圖案檢查方法，能夠減輕圖案檢查裝置的負擔。
20、專利技術的效果
21、根據本專利技術，能夠提供一種光掩模的圖案檢查裝置和圖案檢查方法，其能夠防止將與光掩模的制造非保證的圖案對應的區(qū)域檢測(或識別)為缺陷。
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1.一種圖案檢查裝置，其用于檢查光掩模的缺陷，所述圖案檢查裝置的特征在于：
2.如權利要求1所述的圖案檢查裝置，其特征在于：
3.如權利要求1所述的圖案檢查裝置，其特征在于：
4.一種光掩模的圖案檢查方法，其特征在于，包括：
5.如權利要求4所述的圖案檢查方法，其特征在于：
6.如權利要求4所述的圖案檢查方法，其特征在于：
7.如權利要求4所述的圖案檢查方法，其特征在于：
【技術特征摘要】
1.一種圖案檢查裝置，其用于檢查光掩模的缺陷，所述圖案檢查裝置的特征在于：
2.如權利要求1所述的圖案檢查裝置，其特征在于：
3.如權利要求1所述的圖案檢查裝置，其特征在于：
4.一種光掩...
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：堀川清史，
申請(專利權)人：株式會社SK電子，
類型：發(fā)明
國別省市：
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