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    基于結構光的缺陷檢測方法、裝置、電子設備及存儲介質制造方法及圖紙

    技術編號:44383143 閱讀:10 留言:0更新日期:2025-02-25 09:57
    本發(fā)明專利技術提供一種基于結構光的缺陷檢測方法、裝置、電子設備及存儲介質,該方法包括獲取參考信息和待檢電路板的待檢投影圖像,對待檢投影圖像進行時頻信號變換得到待檢絕對相位,并基于基準絕對相位和待檢絕對相位之間的絕對相位差,得到待檢實際相位,根據待檢實際相位和設備標定參數進行三維重建,得到三維點云信息,并對待檢電路板進行缺陷檢測,待檢投影圖像基于通過投影設備將預設的結構光圖案投影至待檢電路板后,通過圖像采集設備進行采集得到,設備標定參數基于對投影設備和圖像采集設備進行相位坐標轉換的標定得到;本申請通過單幀待檢投影圖像提高三維重建速度,降低硬件系統(tǒng)復雜度和計算量,提供了更簡單、更高速的缺陷檢測方法。

    【技術實現步驟摘要】

    本申請涉及精密檢測,尤其涉及一種基于結構光的缺陷檢測方法、裝置、電子設備及存儲介質


    技術介紹

    1、與傳統(tǒng)的印制電路板(pcb)缺陷檢測技術相比,基于三維(3d)成像的pcb缺陷檢測技術,包含了pcb的深度信息,能充分描述pcb中元器件、焊盤的位置、形貌信息,因此基于3d成像原理的檢測技術已成為pcb缺陷檢測的主流技術。目前,基于3d成像原理的pcb缺陷檢測技術主要分為立體視覺、結構光、以及結構光和立體視覺混合三種方式。

    2、其中,立體視覺計算復雜,難度大,對系統(tǒng)硬件要求高,對處理芯片的計算能力有很高的需求。并且,由于該方法的原理是通過視差進行成像,在昏暗環(huán)境以及特征不明顯的情況下精度低。結構光的原理是通過將帶有編碼的結構光圖案投影至pcb的表面,由圖像傳感器采集到pcb的表面調制的變形圖形,通過系統(tǒng)標定后進一步求解得到pcb的三維信息,實現三維重建。但目前該方法需要采用投影超過4張結構光圖案進行三維重建,計算量大,效率低,速度慢,例如cn114792305a公開了通過fpga產生點云信息,并采用5張格雷碼和3張正弦光柵相結合,實現三維重建,但引入了fpga系統(tǒng),且需共投影8張結構光圖案進行重建,不僅增加了硬件成本,投影效率也不高。結構光和立體視覺混合是為了改善立體視覺在昏暗環(huán)境以及特征不明顯的情況下精度低的缺點,雖然提高了精度,但增加了計算量,同時也增加了系統(tǒng)光學復雜度和硬件成本,再例如cn104713885a雖然改善了立體視覺在昏暗條件下以及pcb的表面紋理稀疏情況下精度低的缺陷,但系統(tǒng)至少由1臺投影結構光設備,2臺攝像系統(tǒng),不僅增加硬件負擔及成本,同時也增加了計算量。目前,pcb缺陷檢測存在計算量大、速度低、硬件系統(tǒng)復雜的問題。


    技術實現思路

    1、本專利技術提供一種基于結構光的缺陷檢測方法、裝置、電子設備及存儲介質,以解決上述基于結構光進行缺陷檢測時,存在計算量大、速度低、硬件系統(tǒng)復雜的技術問題。

    2、于本申請一實施例中,本申請?zhí)峁┮环N基于結構光的缺陷檢測方法,包括:獲取參考信息和待檢電路板的待檢投影圖像,所述參考信息包括設備標定參數和基準面的基準絕對相位;對所述待檢投影圖像進行時頻信號變換,得到待檢絕對相位,并基于所述基準絕對相位和所述待檢絕對相位之間的絕對相位差,得到待檢實際相位;根據所述待檢實際相位和所述設備標定參數進行三維重建,得到三維點云信息,并對所述待檢電路板進行缺陷檢測;其中,所述待檢投影圖像基于通過投影設備將預設的結構光圖案投影至所述待檢電路板后,通過圖像采集設備進行采集得到,所述設備標定參數基于對所述投影設備和所述圖像采集設備進行相位坐標轉換的標定得到

    3、于本申請一實施例中,對所述待檢投影圖像進行時頻信號變換,得到待檢絕對相位,并基于所述基準絕對相位和所述待檢絕對相位之間的絕對相位差,得到待檢實際相位,包括:對所述待檢投影圖像進行頻域變換,并提取待檢基頻信息;對所述待檢基頻信息進行時域變換,并提取待檢絕對相位;將所述基準絕對相位和所述待檢絕對相位之間的絕對相位差進行相位解包裹,得到實際相位差;根據所述實際相位差和所述基準絕對相位確定待檢實際相位。

    4、于本申請一實施例中,時頻信號變換包括傅里葉變換和傅里葉逆變換,或者,小波變換和小波逆變換。

    5、于本申請一實施例中,基準面的基準絕對相位的確定方式包括:通過投影設備將預設的結構光圖案投影至基準面,并通過圖像采集設備進行采集基準投影圖像;對所述基準投影圖像進行頻域變換,并提取基準基頻信息;對所述基準基頻信息進行時域變換,并提取基準絕對相位。

    6、于本申請一實施例中,對所述待檢電路板進行缺陷檢測,包括:將深度信息投影至二維平面,生成深度圖,并基于調制度信息生成調制度圖;對所述深度圖和/或調制度圖進行缺陷識別,得到缺陷識別結果;基于所述缺陷識別結果對待檢電路板進行合格檢測,得到合格檢測結果;其中,所述三維點云信息包括所述待檢電路板的深度信息和所述調制度信息。

    7、于本申請一實施例中,本申請?zhí)峁┮环N基于結構光的缺陷檢測裝置,包括:獲取模塊,用于獲取參考信息和待檢電路板的待檢投影圖像,所述參考信息包括設備標定參數和基準面的基準絕對相位;相位確定模塊,用于對所述待檢投影圖像進行時頻信號變換,得到待檢絕對相位,并基于所述基準絕對相位和所述待檢絕對相位之間的絕對相位差,得到待檢實際相位;缺陷檢測模塊,用于根據所述待檢實際相位和所述設備標定參數進行三維重建,得到三維點云信息,并對所述待檢電路板進行缺陷檢測;其中,所述待檢投影圖像基于通過投影設備將預設的結構光圖案投影至所述待檢電路板后,通過圖像采集設備進行采集得到,所述設備標定參數基于對所述投影設備和所述圖像采集設備進行相位坐標轉換的標定得到。

    8、于本申請一實施例中,所述投影設備還用于將預設的亮光圖案投影至待檢電路板,以對所述待檢電路板進行照明;所述圖像采集設備還用于采集照明后的待檢電路板的待檢對比圖像,以對所述待檢對比圖像進行閾值分割,并根據閾值分割的結果進行缺陷識別。

    9、于本申請一實施例中,所述裝置還包括傳送設備,用于將所述待檢電路板傳送至預設檢測區(qū)域;所述預設檢測區(qū)域由滿足預設三角關系的所述圖像采集設備、所述投影設備和所述待檢電路板組成。

    10、于本申請一實施例中,本申請?zhí)峁┮环N電子設備,所述電子設備包括:一個或多個處理器;存儲裝置,用于存儲一個或多個程序,當所述一個或多個程序被所述一個或多個處理器執(zhí)行時,使得所述電子設備實現如上述各實施例任一所述的基于結構光的缺陷檢測方法。

    11、于本申請一實施例中,本申請?zhí)峁┮环N計算機可讀存儲介質,其上存儲有計算機程序,當所述計算機程序被計算機的處理器執(zhí)行時,使計算機執(zhí)行上述各實施例任一所述的基于結構光的缺陷檢測方法。

    12、本專利技術實施例的有益效果:本專利技術提供一種基于結構光的缺陷檢測方法、裝置、電子設備及存儲介質,本專利技術實施例通過對單幀的待檢投影圖像進行時頻信號變換,得到待檢實際相位,提高了三維重建的速度,降低了硬件系統(tǒng)復雜度和計算量,從而提供了更簡單、更高速的缺陷檢測方法。

    13、應當理解的是,以上的一般描述和后文的細節(jié)描述僅是示例性和解釋性的,并不能限制本專利技術。

    本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    1.一種基于結構光的缺陷檢測方法,其特征在于,所述方法包括:

    2.根據權利要求1所述的基于結構光的缺陷檢測方法,其特征在于,對所述待檢投影圖像進行時頻信號變換,得到待檢絕對相位,并基于所述基準絕對相位和所述待檢絕對相位之間的絕對相位差,得到待檢實際相位,包括:

    3.根據權利要求2所述的基于結構光的缺陷檢測方法,其特征在于,時頻信號變換包括傅里葉變換和傅里葉逆變換,或者,小波變換和小波逆變換。

    4.根據權利要求1-3任一項所述的基于結構光的缺陷檢測方法,其特征在于,基準面的基準絕對相位的確定方式包括:

    5.根據權利要求1-3任一項所述的基于結構光的缺陷檢測方法,其特征在于,對所述待檢電路板進行缺陷檢測,包括:

    6.一種基于結構光的缺陷檢測裝置,其特征在于,所述裝置包括:

    7.根據權利要求6所述的基于結構光的缺陷檢測裝置,其特征在于,所述投影設備還用于將預設的亮光圖案投影至待檢電路板,以對所述待檢電路板進行照明;

    8.根據權利要求6-7任一項所述的基于結構光的缺陷檢測裝置,其特征在于,所述裝置還包括傳送設備,用于將所述待檢電路板傳送至預設檢測區(qū)域;

    9.一種電子設備,其特征在于,所述電子設備包括:

    10.一種計算機可讀存儲介質,其特征在于,其上存儲有計算機程序,當所述計算機程序被計算機的處理器執(zhí)行時,使計算機執(zhí)行權利要求1至5中任一項所述的基于結構光的缺陷檢測方法。

    ...

    【技術特征摘要】

    1.一種基于結構光的缺陷檢測方法,其特征在于,所述方法包括:

    2.根據權利要求1所述的基于結構光的缺陷檢測方法,其特征在于,對所述待檢投影圖像進行時頻信號變換,得到待檢絕對相位,并基于所述基準絕對相位和所述待檢絕對相位之間的絕對相位差,得到待檢實際相位,包括:

    3.根據權利要求2所述的基于結構光的缺陷檢測方法,其特征在于,時頻信號變換包括傅里葉變換和傅里葉逆變換,或者,小波變換和小波逆變換。

    4.根據權利要求1-3任一項所述的基于結構光的缺陷檢測方法,其特征在于,基準面的基準絕對相位的確定方式包括:

    5.根據權利要求1-3任一項所述的基于結構光的缺陷檢測方法,其特征在于,對所述待檢電路板進...

    【專利技術屬性】
    技術研發(fā)人員:吉垚廖雯唐坤龍王傳瑤
    申請(專利權)人:中國電子科技集團公司第二十六研究所
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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