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    用于X射線測(cè)量的檢測(cè)裝置制造方法及圖紙

    技術(shù)編號(hào):43323790 閱讀:14 留言:0更新日期:2024-11-15 20:23
    本技術(shù)公開(kāi)了一種用于X射線測(cè)量的檢測(cè)裝置,涉及X射線測(cè)量的技術(shù)領(lǐng)域。所述檢測(cè)裝置包括箱體、反應(yīng)靶、發(fā)射組件、環(huán)形電離室和檢測(cè)組件,箱體上設(shè)置有入射口,反應(yīng)靶設(shè)置在箱體內(nèi),反應(yīng)靶位于入射口的后方,發(fā)射組件設(shè)置在入射口內(nèi),發(fā)射組件位于入射口的前方,發(fā)射組件用于發(fā)射X射線,環(huán)形電離室包括多個(gè)同心設(shè)置的環(huán)形件,每?jī)蓚€(gè)相鄰的環(huán)形件之間形成一個(gè)環(huán)形腔室,環(huán)形電離室設(shè)置在箱體內(nèi),環(huán)形電離室位于反應(yīng)靶的后方,檢測(cè)組件設(shè)置在箱體內(nèi),檢測(cè)組件位于環(huán)形電離室的后方,檢測(cè)組件用于檢測(cè)每一個(gè)環(huán)形腔室中的電子能量的數(shù)值。本技術(shù)的檢測(cè)裝置其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,成本較低。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

    本技術(shù)涉及x射線測(cè)量的,具體涉及一種用于x射線測(cè)量的檢測(cè)裝置。


    技術(shù)介紹

    1、在相關(guān)技術(shù)中,加速器中的x射線由高能電子打靶產(chǎn)生,x射線具有束流強(qiáng)度大和穩(wěn)定性較強(qiáng)的特點(diǎn),x射線可用于小型動(dòng)物的臨床前放射生物學(xué)實(shí)驗(yàn)、皮膚淺表和術(shù)中的臨床放射治療。同時(shí),可用于表面工業(yè)輻照,比如材料表面改性,物品表面細(xì)菌病毒蟲(chóng)害等的消殺,食品的輻照殺菌以及貨物車輛的安全檢查等方面。x射線對(duì)人們的生產(chǎn)生活具有重大意義,而x射線的能譜對(duì)于成像效果、作用物反應(yīng)及輻射防護(hù)劑量的計(jì)算起到?jīng)Q定作用。

    2、x射線束流強(qiáng)度大的特點(diǎn)使得利用傳統(tǒng)探測(cè)器通過(guò)逐個(gè)測(cè)量單光子能量并計(jì)數(shù)的方法難以實(shí)現(xiàn),這是因?yàn)閭鹘y(tǒng)譜儀分辨時(shí)間有限,強(qiáng)束流情形下,一個(gè)分辨時(shí)間內(nèi)會(huì)有大量光子入射靈敏體積,使得該分辨時(shí)間內(nèi)的靈敏體積的劑量不能反映單光子的能量。

    3、目前常用的x射線測(cè)量方法包括衰減透射法、熒光法和康普頓散射法,以上方法中,衰減透射法和熒光法的能量分辨率有限且解譜難度較大,無(wú)法做到對(duì)加速器x射線能量的精準(zhǔn)測(cè)量,只有康普頓散射法具有較高的分辨率和可測(cè)能量范圍。但現(xiàn)有的康普頓散射法所用的設(shè)備較復(fù)雜、成本較高。


    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

    1、本技術(shù)的目的在于提供一種用于x射線測(cè)量的檢測(cè)裝置,用以解決現(xiàn)有康普頓散射法中設(shè)備成本較高的問(wèn)題。

    2、為此,本技術(shù)的實(shí)施例提出一種用于x射線測(cè)量的檢測(cè)裝置。

    3、根據(jù)本技術(shù)的實(shí)施例的用于x射線測(cè)量的檢測(cè)裝置,包括:箱體,所述箱體上設(shè)置有入射口;反應(yīng)靶,所述反應(yīng)靶設(shè)置在所述箱體內(nèi),所述反應(yīng)靶位于所述入射口的后方;發(fā)射組件,所述發(fā)射組件設(shè)置在所述入射口內(nèi),所述發(fā)射組件位于所述入射口的前方,所述發(fā)射組件用于發(fā)射x射線;環(huán)形電離室,所述環(huán)形電離室包括多個(gè)同心設(shè)置的環(huán)形件,每?jī)蓚€(gè)相鄰的所述環(huán)形件之間形成一個(gè)環(huán)形腔室,所述環(huán)形電離室設(shè)置在所述箱體內(nèi),所述環(huán)形電離室位于所述反應(yīng)靶的后方;檢測(cè)組件,所述檢測(cè)組件設(shè)置在所述箱體內(nèi),所述檢測(cè)組件位于所述環(huán)形電離室的后方,所述檢測(cè)組件用于檢測(cè)每一個(gè)所述環(huán)形腔室中的電子能量的數(shù)值。

    4、根據(jù)本技術(shù)的檢測(cè)裝置,通過(guò)在反應(yīng)靶的后方設(shè)置環(huán)形電離室,環(huán)形電離室中具有多個(gè)環(huán)形腔室,其中,每一個(gè)環(huán)形腔室可能無(wú)法準(zhǔn)確探測(cè)特定立體角范圍內(nèi)的電子能量,但是可以得到各環(huán)形腔室信號(hào)之間的比值,根據(jù)公開(kāi)的反沖電子的能量與角度的分布關(guān)系表就可以反推出x射線的能量。本技術(shù)的檢測(cè)裝置其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,成本較低。

    5、在一些實(shí)施例中,所述反應(yīng)靶的材質(zhì)為低原子數(shù)材料。

    6、在一些實(shí)施例中,所述反應(yīng)靶的外周輪廓為圓板形。

    7、在一些實(shí)施例中,所述發(fā)射組件發(fā)射的x射線的延長(zhǎng)線依次穿過(guò)所述反應(yīng)靶和所述環(huán)形電離室的中心。

    8、在一些實(shí)施例中,所述用于x射線測(cè)量的檢測(cè)裝置還包括距離檢測(cè)機(jī)構(gòu),所述距離檢測(cè)機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述箱體內(nèi),所述距離檢測(cè)機(jī)構(gòu)用于檢測(cè)所述反應(yīng)靶與所述環(huán)形電離室之間的間距。

    9、在一些實(shí)施例中,所述用于x射線測(cè)量的檢測(cè)裝置還包括數(shù)據(jù)處理器,所述數(shù)據(jù)處理器與所述檢測(cè)組件相連,所述數(shù)據(jù)處理器用于接受每一個(gè)所述環(huán)形腔室中的電子能量的數(shù)值,并計(jì)算每一個(gè)所述環(huán)形腔室中的電子能量的比值。

    10、在一些實(shí)施例中,所述環(huán)形件的材質(zhì)為導(dǎo)電材料,所述環(huán)形件與高壓電流相連。

    11、在一些實(shí)施例中,所述用于x射線測(cè)量的檢測(cè)裝置還包括高壓電流箱,所述高壓電流箱通過(guò)導(dǎo)線與所述環(huán)形件相連。

    12、應(yīng)當(dāng)理解的是,以上的一般描述和后文的細(xì)節(jié)描述僅是示例性和解釋性的,而非限制本公開(kāi)。根據(jù)下面參考附圖對(duì)示例性實(shí)施例的詳細(xì)說(shuō)明,本公開(kāi)的其它特征及方面將更清楚。

    本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

    1.一種用于X射線測(cè)量的檢測(cè)裝置,其特征在于,包括:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于X射線測(cè)量的檢測(cè)裝置,其特征在于,

    3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于X射線測(cè)量的檢測(cè)裝置,其特征在于,

    4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于X射線測(cè)量的檢測(cè)裝置,其特征在于,

    5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于X射線測(cè)量的檢測(cè)裝置,其特征在于,還包括:

    6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于X射線測(cè)量的檢測(cè)裝置,其特征在于,還包括:

    7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于X射線測(cè)量的檢測(cè)裝置,其特征在于,

    8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于X射線測(cè)量的檢測(cè)裝置,其特征在于,還包括:

    【技術(shù)特征摘要】

    1.一種用于x射線測(cè)量的檢測(cè)裝置,其特征在于,包括:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于x射線測(cè)量的檢測(cè)裝置,其特征在于,

    3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于x射線測(cè)量的檢測(cè)裝置,其特征在于,

    4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于x射線測(cè)量的檢測(cè)裝置,其特征在于,

    5.根據(jù)權(quán)...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:王傳璟裘家琪王健韓運(yùn)生魏少華
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:北京華清加高能電子科技有限公司
    類型:新型
    國(guó)別省市:

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