本發明專利技術提供一種適用于連續鍍金的特殊密閉式噴嘴裝置，輔助組件還包括上推桿、圓盤、圓球、第一斜臂、第二斜臂和下推桿，上推桿鑲嵌于水袋靠近支架的一端，圓盤安裝于支架內部靠近上推桿的一端，圓球擺動于圓盤的內部，第一斜臂和第二斜臂分別擺動于圓球的兩側，下推桿擺動于圓球的下端，由于噴芯的內部通過隔板分隔呈左右內腔，通過密封袋的左右擺動，方便噴芯左右內腔內部的鍍金原料能夠持續通過噴嘴進入噴頭的內部，使得噴嘴和噴芯的貫通處能夠對噴頭的內部形成持續供料，避免因鍍金原料較為粘稠，導致噴頭內部出現間歇性供料的情況。導致噴頭內部出現間歇性供料的情況。導致噴頭內部出現間歇性供料的情況。
【技術實現步驟摘要】
一種適用于連續鍍金的特殊密閉式噴嘴裝置
[0001]本專利技術涉及鍍金加工領域，尤其涉及一種適用于連續鍍金的特殊密閉式噴嘴裝置。
技術介紹
[0002]銅箔是一種陰質性電解材料，沉淀于電路板基底層上的一層薄的、連續的金屬箔，且用于5G通訊信號傳輸，是電子通訊設備的必備元器件，銅箔在加工時，需要對表面進行鍍金，鍍金之前工藝采用鍍鎳銅箔工藝技術，鍍金時采用特殊密閉式噴嘴裝置對銅箔表面進行鍍金，噴嘴裝置與鍍金所需原料的管道連接，進而通過噴嘴裝置對銅箔形成鍍金，針對于噴嘴裝置的技術啟示；
[0003]對于噴嘴裝置的研究發現了以下問題：
[0004]由于鍍金原料通常較為粘稠，導致鍍金原料于噴嘴裝置內部流動性較差，并噴嘴裝置為密閉式噴嘴，當鍍金原料通過泵體和管道帶動進入噴嘴裝置內部后，使得鍍金原料在通過噴嘴噴灑時易出現間歇性供料的情況，導致噴嘴裝置無法對銅箔表面形成連續性鍍金的情況；
[0005]目前，現有技術中的CN202110449653.8一種連續電鍍線特殊鍍金密閉噴嘴裝置，公開了噴嘴裝置,該專利技術裝置外殼中心處設有鏤空槽，鏤空槽內設有產品通道，產品通道底部設有安全隔板，安全隔板下方安裝有電鍍開口區；裝置外殼的頂部分別設有第一進液口、第二進液口及第三進液口，第一進液口、第二進液口及第三進液口下方連接有導液管，導液管位于產品通道正上方；
[0006]本專利技術主要能夠解決噴嘴裝置無法對銅箔表面形成連續性鍍金的問題。
技術實現思路
[0007]為解決上述技術問題，本專利技術提供一種適用于連續鍍金的特殊密閉式噴嘴裝置，以解決上述
技術介紹
中描述問題。
[0008]本專利技術一種適用于連續鍍金的特殊密閉式噴嘴裝置的目的與功效，由以下具體技術手段達成：一種適用于連續鍍金的特殊密閉式噴嘴裝置，包括噴嘴，該噴嘴的兩端貫通有噴頭和噴芯，所述噴芯的內部貫穿有隔板，所述噴芯的內部設有輔助連續鍍金的輔助組件，輔助組件包括支架，支架安裝于隔板的內側。
[0009]進一步的，所述噴芯的一端與輸料管道貫通對接，鍍金原料通過噴芯進入噴嘴和噴頭的內部，通過噴頭對鍍金原料進行鍍金噴灑。
[0010]進一步的，所述支架貫穿于隔板的內側，噴芯內部通過隔板分隔為左右內腔，噴芯內部的左右內腔均與噴嘴貫通。
[0011]進一步的，所述支架內部呈中空狀設置，支架整體呈三角狀設置，所述支架的頂部鑲嵌有水袋，水袋呈半圓弧狀設置，半圓弧角度為180
°
，水袋的兩側延伸至噴芯的左右內腔內部，并水袋兩側長度相差1
?
3cm。
[0012]進一步的，所述輔助組件還包括上推桿、圓盤、圓球、第一斜臂、第二斜臂和下推桿，上推桿鑲嵌于水袋靠近支架的一端，圓盤安裝于支架內部靠近上推桿的一端，圓球擺動于圓盤的內部，第一斜臂和第二斜臂分別擺動于圓球的兩側，下推桿擺動于圓球的下端。
[0013]進一步的，所述上推桿遠離水袋的一端與圓球間隔1cm以下，上推桿靠近圓球的一端呈半圓環狀。
[0014]進一步的，所述圓盤呈凹狀，圓盤靠近圓球的一端貫穿有孔洞，下推桿貫穿并延伸至圓盤的外側，圓盤的兩側開設有軌道，軌道分別分布于圓盤內部的上下兩端，第一斜臂和第二斜臂分別于軌道內部滑動。
[0015]進一步的，所述圓球于圓盤的內部呈左右擺動，第一斜臂處于圓球一側的上方，第二斜臂處于圓球另一側的下方，第一斜臂和第二斜臂均呈傾斜35
°
。
[0016]進一步的，所述支架內部靠近下推桿的一端安裝有圓管，所述圓管的內部滑動有滑塊，所述滑塊的兩端滑動連接有連桿，所述連桿遠離滑塊的一端擺動有外框架，所述外框架遠離連桿的一端鑲嵌有密封袋，所述密封袋的內部滾動有滾珠。
[0017]進一步的，所述圓管呈半圓環狀，半圓環角度為180
°
，圓管呈凹狀設置，滑塊半圓環角度為45
°
，滑塊的一端與下推桿連接，滑塊與圓管的內壁滑動貼合。
[0018]進一步的，所述連桿依次延伸至圓管和支架的外側，連桿遠離滑塊的一端處于外框架一端的兩側，連桿呈傾斜擺動時，外框架呈同步擺動。
[0019]進一步的，所述外框架呈圓環狀，密封袋處于噴嘴和噴芯的貫通處，滾珠于密封袋的內部呈左右滾動。
[0020]有益效果：
[0021]1.鍍金原料進入噴芯的左右內腔內部，由于水袋的兩側延伸至噴芯的左右內腔內部，因此鍍金原料進入噴芯內部時，鍍金原料能夠沖擊至水袋的兩側，由于水袋兩側長度相差1
?
3cm，使得鍍金原料同時沖擊至水袋的兩側時，水袋的兩側能夠利用長度差，增加與鍍金原料的接觸面積差，進而水袋的一側能夠于支架的一端變形，隨后鍍金原料通過噴嘴進入噴頭的內部，通過噴頭對鍍金原料進行鍍金噴灑；
[0022]2.水袋的一側于支架的一端變形時，水袋靠近上推桿的一側呈傾斜膨脹，使得水袋另一側的上推桿同步呈傾斜滑動，由于上推桿遠離水袋的一端與圓球間隔1cm以下，上推桿能夠快速擠壓至圓球的一端，圓球于圓盤的內部呈傾斜擺動；
[0023]3.圓球傾斜擺動時，圓球一側的第一斜臂于圓盤的軌道內部滑動，而第二斜臂同步于圓盤另一側的軌道內部滑動，此時第一斜臂和第二斜臂滑動方向相反，導致圓球兩側重量差進一步增加；
[0024]4.利用圓球兩側的重量差，同時圓球整體擺動于圓盤的內部，因此圓球重量較大的一端能夠輔助圓球于圓盤的內部回位擺動，使得圓球的另一側能夠向上擺動，重復上述步驟，使得圓球能夠于圓盤的內部呈左右往復擺動，從而圓球一端的下推桿能夠于支架的內部呈左右擺動；
[0025]5.下推桿呈左右擺動時，下推桿輔助滑塊于圓管內部左右滑動，滑塊于圓管的內部滑動時，滑塊一側的連桿向圓管的外側滑動，而滑塊另一側的連桿向圓管的內部滑動，滑塊一側的連桿能夠擠壓至外框架的一端，使得外框架的一端于支架的內部呈傾斜擺動，此時外框架一側的密封袋同步擺動，密封袋與噴嘴和噴芯的貫通處之間產生間隔，利用密封
袋處于噴嘴和噴芯的貫通處，使得鍍金原料能夠通過噴嘴和噴芯的貫通處進入噴頭的內部；
[0026]6.通過滑塊的左右擺動，滑塊另一側的連桿能夠向圓管外側滑塊，而滑塊一側的連桿能夠向圓管的內部回位，使得外框架能夠呈反向擺動，外框架一端的密封袋能夠同步呈反向擺動，由于噴芯的內部通過隔板分隔呈左右內腔，通過密封袋的左右擺動，方便噴芯左右內腔內部的鍍金原料能夠持續通過噴嘴進入噴頭的內部，使得噴嘴和噴芯的貫通處能夠對噴頭的內部形成持續供料，避免因鍍金原料較為粘稠，導致噴頭內部出現間歇性供料的情況。
附圖說明
[0027]圖1為本專利技術整體結構示意圖。
[0028]圖2為本專利技術噴嘴截面結構示意圖。
[0029]圖3為本專利技術圖2中A處放大結構示意圖。
[0030]圖4為本專利技術圓球擺動結構示意圖。
[0031]圖5為本專利技術連桿組件結構示意圖。
[0032]圖6為本專利技術圖5中滑塊滑動示意圖。
[0033]圖7為本本文檔來自技高網...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
1.一種適用于連續鍍金的特殊密閉式噴嘴裝置，包括噴嘴，其特征在于：該噴嘴的兩端貫通有噴頭和噴芯，所述噴芯的內部貫穿有隔板，所述噴芯的內部設有輔助連續鍍金的輔助組件，輔助組件包括支架，支架安裝于隔板的內側。2.根據權利要求1所述的適用于連續鍍金的特殊密閉式噴嘴裝置，其特征在于：噴芯的一端與輸料管道貫通對接，鍍金原料通過噴芯進入噴嘴和噴頭的內部，通過噴頭對鍍金原料進行鍍金噴灑；隔板，支架貫穿于隔板的內側，噴芯內部通過隔板分隔為左右內腔，噴芯內部的左右內腔均與噴嘴貫通；支架，支架內部呈中空狀設置，支架整體呈三角狀設置，所述支架的頂部鑲嵌有水袋，水袋呈半圓弧狀設置，半圓弧角度為180
°
，水袋的兩側延伸至噴芯的左右內腔內部，并水袋兩側長度相差1
?
3cm。3.根據權利要求2所述的適用于連續鍍金的特殊密閉式噴嘴裝置，其特征在于：所述輔助組件還包括上推桿、圓盤、圓球、第一斜臂、第二斜臂和下推桿，上推桿鑲嵌于水袋靠近支架的一端，圓盤安裝于支架內部靠近上推桿的一端，圓球擺動于圓盤的內部，第一斜臂和第二斜臂分別擺動于圓球的兩側，下推桿擺動于圓球的下端。4.根據權利要求3所述的適用于連續鍍金的特殊密閉式噴嘴裝置，其特征在于：所述上推桿遠離水袋的一端與圓球間隔1cm以下，上推桿靠近圓球的一端呈半圓環狀；圓盤，圓盤呈凹狀，圓盤靠近圓球的一端貫穿有孔洞，下推桿貫穿并延伸至圓盤的外側，圓盤的兩側開設有軌道，軌道分別分布于圓盤內部...
【專利技術屬性】
技術研發人員：楊文峰，
申請(專利權)人：煙臺晨煜電子有限公司，
類型：發明
國別省市：
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