本實用新型專利技術涉及掛載裝置領域，公開了一種掛載裝置和磁控濺射鍍膜系統，所述掛載裝置包括上導軌(1)、下導軌(2)以及安裝在所述上導軌(1)和所述下導軌(2)之間的安裝架(3)，其中，所述安裝架(3)的上端通過上磁懸浮結構安裝于所述上導軌(1)，所述安裝架(3)的下端通過下磁懸浮結構安裝于所述下導軌(2)。上述掛載裝置利用磁懸浮原理使安裝架不與上導軌和下導軌接觸，使得安裝架在移動過程中始終懸浮在導軌上，移動過程平穩，避免安裝架振動，從而避免安裝架中所掛載的工件(例如，玻璃基板等)移動、形變或者破裂，提高成品的質量。
【技術實現步驟摘要】
掛載裝置和磁控濺射鍍膜系統
本技術涉及掛載裝置領域，具體地涉及一種掛載裝置和磁控濺射鍍膜系統。
技術介紹
薄膜技術能夠賦予材料表面新的機械功能、裝飾功能和各種特殊的聲、光、電、磁及其轉換功能等，因此，薄膜技術在許多領域得到了應用。磁控濺射技術由于其沉膜溫度較低、沉膜均勻性好等特點在各種功能性薄膜領域、裝飾領域、機械加工領域、光學領域等得到了大量的應用。特別是近年來透明導電玻璃被廣泛運用于平板顯示器件、太陽能電池、微波與射頻屏蔽裝置與器件、傳感器等上面，磁控濺射技術更多的被開發和運用于透明導電玻璃的制備上。傳統的磁控濺射鍍膜制程中，掛載裝置在運送基板行進的過程中，由于傳送導軌間有高低差、傳送導軌變形、掛載裝置和導軌接觸面不平、導向輪與掛載裝置間的摩擦和碰撞、電機的啟動和停止過程等因素會使掛載裝置發生震動，導致基板在掛載裝置上移動或發生形變，基板較薄時往往還會發生基板破裂，基板在制程腔體內破裂清理十分麻煩，浪費大量的時間，影響生產制造的正常進行，降低生產效率，增加生產成本。因此，希望有一種掛載裝置能夠克服或者至少減輕現有技術的上述缺陷。
技術實現思路
本技術的目的是為了克服現有技術存在的問題，提供掛載裝置，該掛載裝置利用磁懸浮技術以減少或者避免安裝架移動過程中的振動。為了實現上述目的，本技術一方面提供一種掛載裝置，所述掛載裝置包括上導軌、下導軌以及安裝在所述上導軌和所述下導軌之間的安裝架，其中，所述安裝架的上端通過上磁懸浮結構安裝于所述上導軌，所述安裝架的下端通過下磁懸浮結構安裝于所述下導軌。優選地，所述下磁懸浮結構包括用于使得所述安裝架懸浮于安裝于所述下導軌的懸浮部和用于推動所述安裝架沿所述下導軌移動的推進部。優選地，所述下懸浮結構包括用于引導所述安裝架沿所述下導軌移動的導向部。優選地，所述下導軌形成有安裝塊，所述安裝架的下端形成有安裝于所述安裝塊的安裝槽，所述安裝槽的尺寸大于所述安裝塊的尺寸以預留懸浮空間。優選地，所述懸浮部包括設置于所述安裝塊的導軌懸浮線圈和設置于所述安裝槽與所述導軌懸浮線圈對應的位置的安裝架懸浮線圈；所述推進部包括設置于所述安裝塊的導軌推進線圈和設置于所述安裝槽與所述導軌推進線圈對應的位置的安裝架推進線圈；以及所述導向部包括設置于所述安裝塊的導軌導向線圈和設置于所述安裝槽與所述導軌導向線圈對應的位置的安裝架導向線圈。優選地，所述導軌懸浮線圈包括沿所述下導軌的寬度方向間隔設置于所述安裝塊的下側的第一導軌懸浮線圈和第二導軌懸浮線圈，所述安裝架懸浮線圈包括相應的第一安裝架懸浮線圈和第二安裝架懸浮線圈；所述導軌推進線圈包括沿所述下導軌的寬度方向間隔設置于所述安裝塊的上側的第一導軌推進線圈和第二導軌推進線圈，所述安裝架推進線圈包括相應的第一安裝架推進線圈和第二安裝架推進線圈；以及所述導軌導向線圈包括沿所述下導軌的寬度方向設置于所述安裝塊的兩端處的第一導軌導向線圈和第二導軌導向線圈，所述安裝架導向線圈包括相應的第一安裝架導向線圈和第二安裝架導向線圈。優選地，所述導軌懸浮線圈所形成的磁極的極性與所述安裝架懸浮線圈所形成的磁極的極性不同；所述導軌導向線圈所形成的磁極的極性與所述安裝架導向線圈所形成的磁極的極性相同。優選地，沿所述下導軌的延伸方向，所述導軌推進線圈間隔形成有的N極和S極，所述安裝架推進線圈間隔形成有S極和N極。優選地，所述上導軌形成有安裝槽，所述安裝架的上端安裝于所述安裝槽中，所述安裝槽的兩側壁處形成有第一磁極，所述安裝架的上端形成有第二磁極，所述第一磁極的極性與所述第二磁極的極性相同；和/或所述安裝架為鈦金屬框架。本技術第二方面提供一種磁控濺射鍍膜系統，所述磁控濺射鍍膜系統包括根據上文所述的掛載裝置。通過上述技術方案，本技術所提供的掛載裝置利用磁懸浮原理使安裝架不與上導軌和下導軌接觸，使得安裝架在移動過程中始終懸浮在導軌上，移動過程平穩，避免了移動過程中由于傳送導軌間有高低差、傳送導軌變形、掛載裝置和導軌接觸面不平、導向輪與掛載裝置間的摩擦和碰撞、電機的啟動和停止過程等因素所導致的摩擦與碰撞，避免安裝架振動，從而避免安裝架中所掛載的工件(例如，玻璃基板等)移動、形變或者破裂，并且平穩的傳送方式還有利于提高成品的質量，例如，在基板鍍膜時提高鍍膜的均勻性。附圖說明圖1是根據本技術的一種實施方式的掛載裝置的示意圖；圖2是圖1所示的掛載裝置的推進部的示意圖；圖3是圖2所示的推進部的原理示意圖。附圖標記說明1-上導軌，2-下導軌，21-安裝塊，3-安裝架，31-上安裝塊，32-安裝槽，41-導軌推進線圈，42-安裝架推進線圈，51-導軌導向線圈，52-安裝架導向線圈，61-導軌懸浮線圈，62-安裝架懸浮線圈。具體實施方式在本技術中，在未作相反說明的情況下，使用的方位詞如“上、下、”通常是指掛載裝置在使用時沿重力方向的上、下。這些方位詞僅是為清楚限定本技術的技術特征而使用的詞語，無論掛載裝置在生產、運輸過程中因部件所處的位置狀態所人為認定的方位如何，但是只要將該裝置使用時，其相應的改進結構所處方位與本技術的方位一致，就應屬于本技術的保護范圍。根據本技術的一個方面，提供一種掛載裝置，參見圖1，所述掛載裝置包括上導軌1、下導軌2以及安裝在上導軌1和下導軌2之間的安裝架3，其中，安裝架3的上端通過上磁懸浮結構安裝于上導軌1，安裝架3的下端通過下磁懸浮結構安裝于下導軌2。上述掛載裝置利用磁懸浮原理使安裝架3不與上導軌1和下導軌2接觸，使得安裝架3在移動過程中始終懸浮在導軌上，移動過程平穩，避免了移動過程中由于傳送導軌間有高低差、傳送導軌變形、掛載裝置和導軌接觸面不平、導向輪與掛載裝置間的摩擦和碰撞、電機的啟動和停止過程等因素所導致的摩擦與碰撞，避免安裝架3振動，從而避免安裝架3中所掛載的工件(例如，玻璃基板等)移動、形變或者破裂，并且平穩的傳送方式還有利于提高成品的質量，例如，在基板鍍膜時提高鍍膜的均勻性。所述上磁懸浮結構和所述下磁懸浮結構的具體結構可根據實際需要進行適當的選擇，能夠使得安裝架3懸浮于上導軌1和下導軌2之間即可。優選地，所述下磁懸浮結構包括用于使得安裝架3懸浮于安裝于下導軌2的懸浮部和用于推動安裝架3沿下導軌2移動的推進部，利用下磁懸浮結構驅動安裝架3沿下導軌2移動，無需再單獨設置驅動裝置。優選地，所述下懸浮結構包括用于引導安裝架3沿下導軌2移動的導向部，保障安裝架3始終與下導軌2對準，保持安裝架3穩定移動，避免安裝架3移動過程中偏離下導軌2，導致安裝架3出現振動。優選地，參見圖1，下導軌2形成有安裝塊21，安裝架3的下端形成有安裝于安裝塊21的安裝槽32，安裝槽32的尺寸大于安裝塊21的尺寸以預留懸浮空間，其中，該處安裝槽32的尺寸大于安裝塊21的尺寸是指安裝槽的橫截面的寬度和高度均大于安裝塊21的寬度和高度，使得安裝槽和安裝塊21之間本文檔來自技高網...
【技術保護點】
1.一種掛載裝置，其特征在于，所述掛載裝置包括上導軌(1)、下導軌(2)以及安裝在所述上導軌(1)和所述下導軌(2)之間的安裝架(3)，其中，所述安裝架(3)的上端通過上磁懸浮結構安裝于所述上導軌(1)，所述安裝架(3)的下端通過下磁懸浮結構安裝于所述下導軌(2)。/n
【技術特征摘要】
1.一種掛載裝置，其特征在于，所述掛載裝置包括上導軌(1)、下導軌(2)以及安裝在所述上導軌(1)和所述下導軌(2)之間的安裝架(3)，其中，所述安裝架(3)的上端通過上磁懸浮結構安裝于所述上導軌(1)，所述安裝架(3)的下端通過下磁懸浮結構安裝于所述下導軌(2)。
2.根據權利要求1所述的掛載裝置，其特征在于，所述下磁懸浮結構包括用于使得所述安裝架(3)懸浮于安裝于所述下導軌(2)的懸浮部和用于推動所述安裝架(3)沿所述下導軌(2)移動的推進部。
3.根據權利要求2所述的掛載裝置，其特征在于，所述下磁懸浮結構包括用于引導所述安裝架(3)沿所述下導軌(2)移動的導向部。
4.根據權利要求3所述的掛載裝置，其特征在于，所述下導軌(2)形成有安裝塊(21)，所述安裝架(3)的下端形成有安裝于所述安裝塊(21)的安裝槽(32)，所述安裝槽(32)的尺寸大于所述安裝塊(21)的尺寸以預留懸浮空間。
5.根據權利要求4所述的掛載裝置，其特征在于，
所述懸浮部包括設置于所述安裝塊(21)的導軌懸浮線圈(61)和設置于所述安裝槽(32)與所述導軌懸浮線圈(61)對應的位置的安裝架懸浮線圈(62)；
所述推進部包括設置于所述安裝塊(21)的導軌推進線圈(41)和設置于所述安裝槽(32)與所述導軌推進線圈(41)對應的位置的安裝架推進線圈(42)；以及
所述導向部包括設置于所述安裝塊(21)的導軌導向線圈(51)和設置于所述安裝槽(32)與所述導軌導向線圈(51)對應的位置的安裝架導向線圈(52)。
6.根據權利要求5所述的掛載裝置，其特征在于，
所述導軌懸浮線圈...
【專利技術屬性】
技術研發人員：陳富松，方政，
申請(專利權)人：東旭昆山顯示材料有限公司，東旭光電科技股份有限公司，
類型：新型
國別省市：江蘇;32
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