本發明專利技術公開了一種高濃度印染廢水處理裝置，本發明專利技術在絮凝罐內的攪拌組件的攪拌葉的外周部設置有柔性的緩沖毛層，這樣，毛層不僅可以增加攪拌的流動性能，而且廢水流動緩和，減少絮體斷開的問題，而在初步的磁場沉淀后，在溢流濾箱的底部設置有底磁板，在溢流濾箱底部一側設置有電磁盤，次級污泥回收管口朝向電磁盤處設置，這樣，可以在溢流箱內進行次級的污泥磁種回收，這樣，可以進一步去除廢水中的更細小的絮凝體，提高廢水水質，而且，電磁盤的轉動以及脈沖式強度設計，可以使得絮凝體流向電磁盤的時候大部分被次級污泥回收管口排出，有效增加了廢水處理的徹底性。
【技術實現步驟摘要】
一種高濃度印染廢水處理裝置
本專利技術涉及一種高濃度印染廢水處理裝置，屬于廢水處理設備
技術介紹
在印染行業中，由于印染廢水水量較大，每印染加工1噸紡織品耗水100-200噸，其中80-90%成為廢水。紡織印染廢水具有水量大、有機污染物含量高、堿性大、水質變化大等特點，屬難處理的工業廢水之一，廢水中含有染料、漿料、助劑、油劑、酸堿、纖維雜質、砂類物質、無機鹽等。目前，用于印染廢水處理的主要方法有物化法、生化法、化學法以及幾種工藝結合的處理方法，而廢水處理中的預處理主要是為了改善廢水水質，去除懸浮物及可直接沉降的雜質，調節廢水水質及水量、降低廢水溫度等，提高廢水處理的整體效果，確保整個處理系統的穩定性，因此預處理在印染廢水處理中具有極其重要的地位。目前對于印染廢水的處理技術已經比較成熟，但是，對于高濃度的印染廢水來說，其在處理過程中，在對絮凝時攪拌機速率低的話絮凝不均勻，速率高的話成絮的絮凝體容易被攪開，這就影響后續處理的徹底性，進而導致磁場沉淀時的不徹底，而且后續的溢流時，僅僅依靠自身沉淀進行排出處理后的水，對于高濃度的廢水處理來說，排出的水很容易出現磁場沉降不徹底、水質不達標的問題。本專利技術針對以上問題，提供一種高濃度印染廢水處理裝置，提高污水處理的徹底性，從不同角度對現有的廢水處理裝置進行改進。
技術實現思路
為實現上述目的，本專利技術提供如下技術方案：一種高濃度印染廢水處理裝置，其包括絮凝罐、絮凝劑添加組件、磁種添加罐、溢流濾箱、磁場沉降器和控制器，其中，所述絮凝罐的上端設置有所述絮凝劑添加組件、所述絮凝罐的下部側壁上設置有印染廢水進水組件，所述絮凝罐的出水端連通所述磁種添加罐，所述磁種添加罐的下部的磁場沉降空間內設置有所述磁場沉降器，所述磁場沉降空間的上部通過連通管連接所述溢流濾箱的底部，所述磁場沉降空間的下部連通初級污泥回收裝置，所述溢流濾箱的底部設置有次級污泥回收管口，所述溢流濾箱的上部通過污水排出管連接處理水排出泵；其特征在于，所述絮凝罐內設置有攪拌組件，所述攪拌組件的攪拌葉的外周部設置有柔性緩沖層；所述溢流濾箱的底部設置有底磁板，所述溢流濾箱底部一側設置有電磁盤，所述次級污泥回收管口朝向所述電磁盤處設置，所述電磁盤為可轉動設置；所述所述溢流濾箱內部位于所述次級污泥回收管口的上方設置有多層溢流濾板，最上層的所述溢流濾板的上方還設置有溢流濾膜，污水排出管設置在所述溢流濾膜的上方，所述控制器控制該廢水處理裝置的動作。進一步，作為優選，所述印染廢水進水組件包括污水進給泵、污水供給盤和污水供給噴頭，所述污水進給泵設置在污水進水管上，所述污水進水管連接于設置在所述絮凝罐側壁上的污水供給盤上，所述污水供給盤的內側陣列設置有污水供給噴頭，所述污水進水管上還設置有流量計。進一步，作為優選，所述絮凝劑添加組件包括絮凝劑料斗、隔板、絮凝劑振蕩供給器和下料管，所述絮凝劑料斗的下端至少設置有兩個下料管，所述下料管接入所述絮凝罐內，每個所述下料管的上端均連接于各自的所述絮凝劑料斗內的下料腔，各個下料腔由設置在所述絮凝劑料斗內的隔板進行隔開設置，所述下料管上還設置有控制絮凝劑下料速率的控制閥。進一步，作為優選，所述攪拌組件包括攪拌葉和攪拌盤，所述攪拌盤固定設置在攪拌桿的中部，所述攪拌桿上位于所述攪拌盤的上方和下方均設置有攪拌葉，所述攪拌葉和攪拌盤的外表面均設置有柔性的緩沖毛層，所述攪拌桿的上端由設置在所述絮凝罐上的轉動電機驅動轉動。進一步，作為優選，所述磁種添加罐與所述絮凝罐之間采用中轉泵一進行連接，且所述磁種添加罐的上部水平設置有磁種噴管，所述磁種噴管與磁種添加泵連通，所述磁種添加罐內還設置有向下傾斜設置的隔板，所述隔板將所述磁種添加罐分割為添加空間和磁場沉降空間，所述添加空間的底部與與所述磁場沉降空間之間由底部流通腔連通，所述底部流通腔由所述隔板底部與所述磁種添加罐的底壁圍成，所述磁場沉降空間的底部設置有磁場沉降器，所述的磁場沉降空間上部通過中轉泵二連接所述溢流濾箱。進一步，作為優選，所述電磁盤的伸入所述溢流箱端的端面上設置有弧形旋槽，所述電磁盤的電磁強度為可調節設置。進一步，作為優選，所述電磁盤的電磁強度為脈沖式設置。進一步，作為優選，所述溢流濾板包括下U型多孔板、上U型多孔板和連接件，所述上U型多孔板倒立設置，以便使得所述下U型多孔板、上U型多孔板相對布置，兩個相鄰的下U型多孔板之間、兩個相鄰的上U型多孔板之間均設置有空隙，且兩個相鄰的下U型多孔板之間采用所述上U型多孔板連接，兩個相鄰的上U型多孔板之間采用所述下U型多孔板連接，且所述上U型多孔板與所述下U型多孔板之間采用所述連接件進行隔開連接，溢流箱內下方的水通過多孔板以及孔隙向上溢流。進一步，作為優選，所述溢流濾板為2-6層，且溢流濾板為由振蕩器振蕩設置.進一步，作為優選，所述絮凝罐的前端還設置有對污水進行調節PH以及溫度處理的前處理池。與現有技術相比，本專利技術的有益效果是：本專利技術在絮凝罐內的攪拌組件的攪拌葉的外周部設置有柔性的緩沖毛層，這樣，毛層不僅可以增加攪拌的流動性能，而且廢水流動緩和，減少絮體斷開的問題，而在初步的磁場沉淀后，在溢流濾箱的底部設置有底磁板，在溢流濾箱底部一側設置有電磁盤，次級污泥回收管口朝向電磁盤處設置，這樣，可以在溢流箱內進行次級的污泥磁種回收，這樣，可以進一步去除廢水中的更細小的絮凝體，提高廢水水質，而且，電磁盤的轉動以及脈沖式強度設計，可以使得絮凝體流向電磁盤的時候大部分被次級污泥回收管口排出，有效增加了廢水處理的徹底性。附圖說明圖1是本專利技術一種高濃度印染廢水處理裝置的結構示意圖；圖2是本專利技術一種高濃度印染廢水處理裝置的攪拌葉結構示意圖；圖3是本專利技術一種高濃度印染廢水處理裝置的溢流濾箱結構示意圖；圖4是本專利技術一種高濃度印染廢水處理裝置的電磁盤結構示意圖；其中，1、絮凝罐，2、絮凝劑添加組件，3、磁種添加罐，4、溢流濾箱，5、磁場沉降器，6、污水進給泵，7、隔板，8、絮凝劑振蕩供給器，9、控制閥，10、污水供給盤，11、污水供給噴頭，12、攪拌葉，13、攪拌盤，14、轉動電機，15、中轉泵一，16、磁種添加泵，17、隔板，18、磁種噴管，19、底部流通腔，20、中轉泵二，21、溢流濾膜，22、溢流濾板，23、底磁板，24、電磁盤，25、次級污泥回收泵，26、處理水排出泵，27、次級污泥回收管口，28、弧形旋槽。具體實施方式下面將結合本專利技術實施例中的附圖，對本專利技術實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本專利技術一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦＠夹g中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本專利技術保護的范圍。請參閱圖1-4，本專利技術提供一種技術方案：一種高濃度印染廢水處理裝置，其包括絮凝罐1、絮凝劑添加組件2、磁種添加罐3、溢流濾箱4、磁場沉降器5和控制器，其中，所述絮凝罐1的上端設置有所述絮凝劑添加組件2、所述絮凝罐1的下部側壁上設置有印染廢水進水組件，所述絮凝罐1的出水端連通所述磁種添加罐3，所述磁種添加罐3的下部的磁場沉降空間內設置有所述磁場沉降器5，所述磁場沉降空間的上部通過連通管連接所述溢流濾箱4的底部，所述磁場沉降空間的下部連通初級污泥回收本文檔來自技高網...
【技術保護點】
1.一種高濃度印染廢水處理裝置，其包括絮凝罐、絮凝劑添加組件、磁種添加罐、溢流濾箱、磁場沉降器和控制器，其中，所述絮凝罐的上端設置有所述絮凝劑添加組件、所述絮凝罐的下部側壁上設置有印染廢水進水組件，所述絮凝罐的出水端連通所述磁種添加罐，所述磁種添加罐的下部的磁場沉降空間內設置有所述磁場沉降器，所述磁場沉降空間的上部通過連通管連接所述溢流濾箱的底部，所述磁場沉降空間的下部連通初級污泥回收裝置，所述溢流濾箱的底部設置有次級污泥回收管口，所述溢流濾箱的上部通過污水排出管連接處理水排出泵；其特征在于，所述絮凝罐內設置有攪拌組件，所述攪拌組件的攪拌葉的外周部設置有柔性緩沖層；所述溢流濾箱的底部設置有底磁板，所述溢流濾箱底部一側設置有電磁盤，所述次級污泥回收管口朝向所述電磁盤處設置，所述電磁盤為可轉動設置；所述所述溢流濾箱內部位于所述次級污泥回收管口的上方設置有多層溢流濾板，最上層的所述溢流濾板的上方還設置有溢流濾膜，污水排出管設置在所述溢流濾膜的上方，所述控制器控制該廢水處理裝置的動作。
【技術特征摘要】
1.一種高濃度印染廢水處理裝置，其包括絮凝罐、絮凝劑添加組件、磁種添加罐、溢流濾箱、磁場沉降器和控制器，其中，所述絮凝罐的上端設置有所述絮凝劑添加組件、所述絮凝罐的下部側壁上設置有印染廢水進水組件，所述絮凝罐的出水端連通所述磁種添加罐，所述磁種添加罐的下部的磁場沉降空間內設置有所述磁場沉降器，所述磁場沉降空間的上部通過連通管連接所述溢流濾箱的底部，所述磁場沉降空間的下部連通初級污泥回收裝置，所述溢流濾箱的底部設置有次級污泥回收管口，所述溢流濾箱的上部通過污水排出管連接處理水排出泵；其特征在于，所述絮凝罐內設置有攪拌組件，所述攪拌組件的攪拌葉的外周部設置有柔性緩沖層；所述溢流濾箱的底部設置有底磁板，所述溢流濾箱底部一側設置有電磁盤，所述次級污泥回收管口朝向所述電磁盤處設置，所述電磁盤為可轉動設置；所述所述溢流濾箱內部位于所述次級污泥回收管口的上方設置有多層溢流濾板，最上層的所述溢流濾板的上方還設置有溢流濾膜，污水排出管設置在所述溢流濾膜的上方，所述控制器控制該廢水處理裝置的動作。2.根據權利要求1所述的一種高濃度印染廢水處理裝置，其特征在于：所述印染廢水進水組件包括污水進給泵、污水供給盤和污水供給噴頭，所述污水進給泵設置在污水進水管上，所述污水進水管連接于設置在所述絮凝罐側壁上的污水供給盤上，所述污水供給盤的內側陣列設置有污水供給噴頭，所述污水進水管上還設置有流量計。3.根據權利要求2所述的一種高濃度印染廢水處理裝置，其特征在于：所述絮凝劑添加組件包括絮凝劑料斗、隔板、絮凝劑振蕩供給器和下料管，所述絮凝劑料斗的下端至少設置有兩個下料管，所述下料管接入所述絮凝罐內，每個所述下料管的上端均連接于各自的所述絮凝劑料斗內的下料腔，各個下料腔由設置在所述絮凝劑料斗內的隔板進行隔開設置，所述下料管上還設置有控制絮凝劑下料速率的控制閥。4.根據權利要求2所述的一種高濃度印染廢水處理裝置，其特征在于：所述攪拌組件包括攪拌葉和攪拌盤，所述攪拌盤固定設...
【專利技術屬性】
技術研發人員：馬萬征，謝越，李新偉，蔡永兵，肖新，王艷，萬夢，
申請(專利權)人：安徽科技學院，
類型：發明
國別省市：安徽,34
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