本發(fā)明專(zhuān)利技術(shù)涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種OLED基板的制備方法及OLED基板,在所述OLED基板的上表面上覆蓋一層坡面材料層,向所述坡面材料層中加入添加劑,在基板不同區(qū)域表面上的坡面材料層內(nèi)加入的添加劑比率不同,對(duì)所述坡面材料層進(jìn)行固化處理,直至所述坡面材料層穩(wěn)定固化并在基板表面形成一個(gè)坡面結(jié)構(gòu);所述坡面材料層固化穩(wěn)定后形成的上表面積比原OLED基板的上表面積大,因此可以在所述坡面材料層上設(shè)置更多的薄膜晶體管、電容、連線(xiàn)等電子器件,提高屏幕的像素解析度并降低生產(chǎn)成本。
A Fabrication Method of OLED Substrate and OLED Substrate
The invention relates to the field of display technology, in particular to a preparation method of OLED substrate and an OLED substrate. The upper surface of the OLED substrate is covered with a layer of slope material layer, additives are added to the slope material layer, and the ratio of additives is different in the slope material layer on the surface of different areas of the substrate. The slope material layer is solidified until the slope is covered. The surface material layer solidifies steadily and forms a slope structure on the surface of the substrate; the surface area formed by the slope material layer solidifies steadily is larger than that of the original OLED substrate, so more thin film transistors, capacitors, wiring and other electronic devices can be installed on the slope material layer to improve the pixel resolution of the screen and reduce the production cost.
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
一種OLED基板的制備方法及OLED基板
本專(zhuān)利技術(shù)涉及顯示
,尤其涉及一種OLED基板的制備方法及OLED基板。
技術(shù)介紹
有機(jī)發(fā)光二極管(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)顯示技術(shù)具有自發(fā)光、廣視角、相對(duì)較高的對(duì)比度、較低耗電和反應(yīng)速度快等優(yōu)點(diǎn),已經(jīng)被應(yīng)用于各種電子產(chǎn)品中。隨著虛擬現(xiàn)實(shí)顯示技術(shù)(virtualreality,VR)以及手機(jī)設(shè)備的不斷發(fā)展,其對(duì)顯示屏幕的分辨率(Pixelsperinch,PPI)要求也在不斷的提高,PPI數(shù)值越高,像素解析度越高,即代表顯示屏能夠以越高的密度顯示圖像。當(dāng)然,顯示的密度越高,畫(huà)面的擬真度就越高,畫(huà)面的細(xì)節(jié)就會(huì)越豐富細(xì)膩,用戶(hù)體驗(yàn)也會(huì)越好。現(xiàn)在OLED技術(shù)用于VR設(shè)備的屏幕可以做到的PPI在600左右,在VR設(shè)備里經(jīng)過(guò)放大后,投射出的畫(huà)面像素顆粒感大,畫(huà)質(zhì)差。若要生產(chǎn)這種高PPI的顯示屏幕,對(duì)現(xiàn)有的制造技術(shù)和加工設(shè)備也有更高的要求。然而由于現(xiàn)在的制造機(jī)臺(tái)、材料、所需芯片、以及檢測(cè)設(shè)備等技術(shù)發(fā)展仍有許多技術(shù)瓶頸存在,使得現(xiàn)生產(chǎn)的產(chǎn)品的良率一直很低,并且生產(chǎn)成本較高,無(wú)法滿(mǎn)足市場(chǎng)需求,不能很好的將高PPI顯示設(shè)備推廣到市場(chǎng)。綜上所述,現(xiàn)有的生產(chǎn)設(shè)備和技術(shù)的瓶頸限制了高像素解析度產(chǎn)品的制備,以及制備產(chǎn)品成本較高等問(wèn)題,需要提出進(jìn)一步完善和改進(jìn)方案。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專(zhuān)利技術(shù)提供一種OLED基板的制備方法及OLED基板,以解決現(xiàn)有技術(shù)水平中制造高像素解析度產(chǎn)品所需較高性能生產(chǎn)設(shè)備和制造成本大,并且生產(chǎn)產(chǎn)品良率低的問(wèn)題。為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本專(zhuān)利技術(shù)提供的技術(shù)方案如下:根據(jù)本公開(kāi)實(shí)施例的第一方面,提供了一種OLED基板的制備方法;所述方法包括:在所述OLED基板的上表面上覆蓋一層坡面材料層;向所述坡面材料層中加入添加劑,在所述OLED基板不同區(qū)域表面上的所述坡面材料層中加入的所述添加劑比率不同;對(duì)所述坡面材料層進(jìn)行固化處理,直至所述坡面材料層穩(wěn)定固化并在所述OLED基板上表面形成一個(gè)坡面結(jié)構(gòu)。根據(jù)本專(zhuān)利技術(shù)一優(yōu)選實(shí)施例,所述坡面材料處理的方法包括烘烤或者以光線(xiàn)照射。根據(jù)本公開(kāi)實(shí)施例的第二方面,提供了一種OLED基板,一坡面材料層覆蓋于所述OLED基板的上表面,所述坡面材料層還包括添加劑,所述坡面材料層在所述OLED基板的所述上表面的不同區(qū)域中的所述添加劑的添加比率不同;其中,對(duì)所述坡面材料層進(jìn)行固化處理后,所述坡面材料層在所述OLED基板上形成一個(gè)坡面結(jié)構(gòu),所述坡面材料層的上表面設(shè)置有可呈現(xiàn)畫(huà)面的光學(xué)器件或電子器件。根據(jù)本專(zhuān)利技術(shù)一優(yōu)選實(shí)施例,所述坡面材料層的上表面與所述OLED基板的所述上表面的夾角界于0度至90度之間;根據(jù)本專(zhuān)利技術(shù)一優(yōu)選實(shí)施例,所述坡面材料層的上表面所設(shè)置的光學(xué)器件或電子器件所呈現(xiàn)的畫(huà)面全部投影在所述OLED基板的所述上表面內(nèi);根據(jù)本專(zhuān)利技術(shù)一優(yōu)選實(shí)施例,所述坡面材料層的上表面面積大于所述OLED基板的所述上表面面積;根據(jù)本專(zhuān)利技術(shù)一優(yōu)選實(shí)施例,所述坡面材料層的上表面頂端最高處距離所述OLED基板的所述上表面的最短距離為100-200μm;根據(jù)本專(zhuān)利技術(shù)一優(yōu)選實(shí)施例,所述坡面材料層的上表面的光學(xué)器件或電子器件包括薄膜晶體管、電容及連線(xiàn);根據(jù)本專(zhuān)利技術(shù)一優(yōu)選實(shí)施例,所述坡面材料層為分子式結(jié)構(gòu)中主鏈為C-C或C-Si的材料;根據(jù)本專(zhuān)利技術(shù)一優(yōu)選實(shí)施例,所述OLED基板為觸控基板或顯示基板。綜上所述,本專(zhuān)利技術(shù)的有益效果為:通過(guò)對(duì)現(xiàn)有顯示器中的基板進(jìn)行改進(jìn),在其表面覆蓋一層坡面材料層,所述坡面材料層在基板上表面各區(qū)域內(nèi)的添加劑比率不同,經(jīng)過(guò)加熱處理后,由于各區(qū)域內(nèi)的添加劑比率不同,使它能在基板上表面形成一坡面結(jié)構(gòu),然后再在所述坡面材料層上布置顯示器中的其他部件。由所述工藝生產(chǎn)制造的高解析度屏幕在現(xiàn)有的設(shè)備和技術(shù)條件下能夠很容易實(shí)現(xiàn),并且生產(chǎn)良率好。解決了在現(xiàn)有技術(shù)的條件下增加屏幕的像素解析度的難題,并且降低了高解析度屏幕的生產(chǎn)成本。附圖說(shuō)明為了更清楚地說(shuō)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單介紹,顯而易見(jiàn)地,下面描述中的附圖僅僅是專(zhuān)利技術(shù)的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本專(zhuān)利技術(shù)制備OLED基板的方法流程圖;圖2為本專(zhuān)利技術(shù)中OLED基板上表面坡面材料層尚未完成固化處理狀態(tài)的示意圖;圖3為本專(zhuān)利技術(shù)中OLED基板上表面坡面材料層完成固化處理后的示意圖;圖4為本專(zhuān)利技術(shù)OLED基板示意圖;圖5為本專(zhuān)利技術(shù)OLED基板的截面圖。具體實(shí)施方式下面將結(jié)合本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例中的附圖,對(duì)本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本專(zhuān)利技術(shù)一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例。基于本專(zhuān)利技術(shù)中的實(shí)施例,本領(lǐng)域技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本專(zhuān)利技術(shù)保護(hù)的范圍。在本專(zhuān)利技術(shù)的描述中,需要理解的是,術(shù)語(yǔ)“中心”、“縱向”、“橫向”、“長(zhǎng)度”、“寬度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”、等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系,僅是為了便于描述本專(zhuān)利技術(shù)和簡(jiǎn)化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作,因此不能理解為對(duì)本專(zhuān)利技術(shù)的限制。此外,術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”僅用于描述目的,而不能理解為指示或暗示相對(duì)重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個(gè)或者更多個(gè)所述特征。在本專(zhuān)利技術(shù)的描述中,“多個(gè)”的含義是兩個(gè)或兩個(gè)以上,除非另有明確具體的限定。在本專(zhuān)利技術(shù)中,除非另有明確的規(guī)定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接觸,也可以包括第一和第二特征不是直接接觸而是通過(guò)它們之間的另外的特征接觸。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或僅僅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或僅僅表示第一特征水平高度小于第二特征。下文的公開(kāi)提供了許多不同的實(shí)施方式或例子用來(lái)實(shí)現(xiàn)本專(zhuān)利技術(shù)的不同結(jié)構(gòu)。為了簡(jiǎn)化本專(zhuān)利技術(shù)的公開(kāi),下文中對(duì)特定例子的部件和設(shè)置進(jìn)行描述。當(dāng)然,它們僅僅為示例,并且目的不在于限制本專(zhuān)利技術(shù)。此外,本專(zhuān)利技術(shù)可以在不同例子中重復(fù)參考數(shù)字和/或參考字母,這種重復(fù)是為了簡(jiǎn)化和清楚的目的,其本身不指示所討論各種實(shí)施方式和/或設(shè)置之間的關(guān)系。此外,本專(zhuān)利技術(shù)提供了的各種特定的工藝和材料的例子,但是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以意識(shí)到其他工藝的應(yīng)用和/或其他材料的使用。如圖1所示,本專(zhuān)利技術(shù)制備OLED基板的具體方法包括下列步驟:步驟S10;在所述OLED基板的上表面上覆蓋一層坡面材料;步驟S11;向所述坡面材料中加入添加劑,在基板不同區(qū)域表面上的坡面材料內(nèi)加入的添加劑比率不同;步驟S12;對(duì)所述坡面材料進(jìn)行固化處理,直至所述坡面材料穩(wěn)定固化并在基板表面形成一個(gè)坡面結(jié)構(gòu)。于實(shí)際中,所述坡面材料的固化處理可以是經(jīng)過(guò)烘烤或者以光線(xiàn)照射等處理制程,處理制程的目的是使覆蓋于所述OLED基板上的坡面材料能夠在所述OLED基板上穩(wěn)定存在,并且能在基板上形成一個(gè)坡本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種OLED基板的制備方法,其特征在于,所述OLED基板的制備方法包括以下步驟:S10:在所述OLED基板的上表面上覆蓋一層坡面材料層;S11:向所述坡面材料層中加入添加劑,在所述OLED基板不同區(qū)域表面上的所述坡面材料層中加入的所述添加劑比率不同;S12:對(duì)所述坡面材料層進(jìn)行固化處理,直至所述坡面材料層穩(wěn)定固化并在所述OLED基板上表面形成一個(gè)坡面結(jié)構(gòu)。
【技術(shù)特征摘要】
1.一種OLED基板的制備方法,其特征在于,所述OLED基板的制備方法包括以下步驟:S10:在所述OLED基板的上表面上覆蓋一層坡面材料層;S11:向所述坡面材料層中加入添加劑,在所述OLED基板不同區(qū)域表面上的所述坡面材料層中加入的所述添加劑比率不同;S12:對(duì)所述坡面材料層進(jìn)行固化處理,直至所述坡面材料層穩(wěn)定固化并在所述OLED基板上表面形成一個(gè)坡面結(jié)構(gòu)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述坡面材料層固化處理的方法包括烘烤或者以光線(xiàn)照射。3.一種OLED基板,其特征在于,所述OLED基板包括:一坡面材料層覆蓋于所述OLED基板的上表面,所述坡面材料層還包括添加劑,所述坡面材料層在所述OLED基板的所述上表面的不同區(qū)域中的所述添加劑的添加比率不同;其中,對(duì)所述坡面材料層進(jìn)行固化處理后,所述坡面材料層在所述OLED基板上形成一個(gè)坡面結(jié)構(gòu),所述坡面材料層的上表面設(shè)置有可呈現(xiàn)畫(huà)面的光學(xué)器件或電子器件。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的...
【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:王麗君,
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人:武漢華星光電技術(shù)有限公司,
類(lèi)型:發(fā)明
國(guó)別省市:湖北,42
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