可控降解的微弧氧化金屬支架及其制備方法技術

本發明專利技術涉及一種可控降解的微弧氧化金屬支架及其制備方法，該支架具有微弧氧化膜層和可降解高分子涂層，該方法包括步驟：將可降解的金屬加工成支架；對支架進行預處理，去除支架表面的氧化物；將支架放入微弧氧化電解液中，支架作為電解槽的陽極，通入直流或交流電進行微弧氧化處理，使支架的表面具有微弧氧化膜層；將微弧氧化處理后的支架進行清洗；在清洗后的支架表面噴涂可降解高分子材料，該可降解高分子材料攜帶治療性藥物。本發明專利技術支架上的微弧氧化膜層可以明顯降低支架的腐蝕速率，延長支架的使用壽命，同時也保證了降解過程中材料的力學性能。

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
一種可控降解的微弧氧化金屬支架制備方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：Ｓ１：選用可降解的金屬加工成支架；Ｓ２：對所述支架進行預處理，去除支架表面的氧化物；Ｓ３：將所述支架放入微弧氧化電解液中，所述支架作為電解槽的陽極，通入直流或交流電進行微弧氧化處理，使所述支架的表面具有微弧氧化膜層；Ｓ４：將微弧氧化處理后的支架依次用去離子水、超聲波清洗機進行清洗；Ｓ５：在清洗后的支架表面噴涂可降解高分子材料。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：董颯英，張正才，徐毅，蒲忠杰，
申請(專利權)人：樂普北京醫療器械股份有限公司，
類型：發明
國別省市：11[中國|北京]