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    納米硅粉的制備方法技術(shù)

    技術(shù)編號:18100732 閱讀:56 留言:0更新日期:2018-06-03 02:48
    本發(fā)明專利技術(shù)屬于材料化學(xué)技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種納米硅粉的制備方法;包括如下步驟:(1)向等離子發(fā)生器中引入硅烷,經(jīng)電離分解,重新成核得到納米硅顆粒;(2)納米硅顆粒經(jīng)過氣固分離和冷卻后,得到納米硅粉;上述各步驟均在氮氣環(huán)境下進行;本發(fā)明專利技術(shù)提供的制備方法簡單,產(chǎn)品品質(zhì)好,生產(chǎn)成本低。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
    納米硅粉的制備方法
    本專利技術(shù)屬于材料化學(xué)
    ,具體涉及一種納米硅粉的制備方法。
    技術(shù)介紹
    納米硅粉是一種廣泛應(yīng)用于微電子、電極材料及太陽能電池等領(lǐng)域的半導(dǎo)體材料,具有表面積大,高表面活性,松裝密度低等性能優(yōu)勢。目前,用于制備納米硅粉的常見方法有機械球磨法、等離子蒸發(fā)冷凝法和化學(xué)氣相沉積法。其中,機械球磨法較為簡單、成本低,但存在產(chǎn)品純度低,晶體缺陷多,耗時長,顆粒分布不均勻等缺點。等離子蒸發(fā)冷凝法原料價格低,無需后處理,但是產(chǎn)品的質(zhì)量受到原料品質(zhì)的影響大,且難以保證產(chǎn)率和產(chǎn)品純度。化學(xué)氣相沉積法的反應(yīng)機理不夠明確,反應(yīng)安全性有待解決,且所得產(chǎn)品形狀大多無定型。
    技術(shù)實現(xiàn)思路
    本專利技術(shù)的目的在于提供一種工業(yè)化制備高品質(zhì)納米硅粉的方法。為實現(xiàn)上述目的,本專利技術(shù)采用的技術(shù)方案是:一種納米硅粉的制備方法,包括如下步驟:(1)向等離子發(fā)生器中引入硅烷,經(jīng)電離分解,重新成核得到納米硅顆粒;(2)納米硅顆粒經(jīng)過氣固分離和冷卻后,得到納米硅粉;上述各步驟均在氮氣環(huán)境下進行。上述技術(shù)方案產(chǎn)生的有益效果在于:以高純度的硅烷為原料,保證了產(chǎn)品的高純度。從原料到產(chǎn)品,中間只涉及電離、成核和氣固分離等過程,原料無需進行除雜和前處理,同時反應(yīng)過程中不需要加入催化劑和其他原料,方法簡單,適用于工業(yè)化生產(chǎn),對環(huán)境無污染。硅烷中Si-H和Si-Si鍵的強度較低,以氮氣為等離子弧的工作氣體,獲得的能量足夠?qū)崿F(xiàn)硅烷的電離和分解,因此能在保證產(chǎn)品質(zhì)量的同時降低生產(chǎn)成本。從掃描電鏡圖來看,產(chǎn)品的晶格完整規(guī)則。附圖說明圖1是本專利技術(shù)制備系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為實施例1制得的納米硅粉的XRD圖;圖3為實施例1制得的納米硅粉的掃描電鏡圖;圖4為實施例2制得的納米硅粉的XRD圖;圖5為實施例2制得的納米硅粉的掃描電鏡圖;圖6為實施例3制得的納米硅粉的XRD圖;圖7為實施例3制得的納米硅粉的掃描電鏡圖。具體實施方式以下結(jié)合實施例1-3對本專利技術(shù)公開的技術(shù)方案作進一步的說明。以下實施例中,如圖1所示:納米硅粉的制備系統(tǒng)包括順序連通的等離子體發(fā)生器10,分離器20,冷卻系統(tǒng)30,捕集塔40和收粉器50。氮氣氣源和硅烷氣源通過流量計60與等離子體發(fā)生器10的進氣端相連,等離子體發(fā)生器10的出氣端與分離器20連通。實施例1:納米硅粉的制備(1)對整個制備系統(tǒng)抽真空,同時加入氮氣進行沖洗與保護直至整個制備系統(tǒng)都為氮氣環(huán)境;(2)啟動等離子體發(fā)生器10,調(diào)整至工作氣體壓力為0.3MPa,工作電壓為300V,工作電流為300A,工作流量為70m3/h;(3)以純度為99.99%的硅烷為原料,啟動流量計60,使原料以5kg/h的進料速率穿過等離子弧進入等離子體發(fā)生器10,在等離子體作用下,硅烷迅速電離分解形成硅離子與氫離子,硅離子再重新結(jié)合成核形成納米硅顆粒;(4)在氮氣氣流帶動下,納米硅顆粒進入分離器中進行氣固分離,分離出的氣體通過過濾器后排空或循環(huán)使用,納米硅顆粒則在氮氣氣流的帶動下,進入冷卻系統(tǒng),經(jīng)冷卻后進入捕集塔,在重力作用下,沉降在收粉器中;(5)停止通入硅烷,等離子發(fā)生器10繼續(xù)運行60分鐘以保證反應(yīng)完全,關(guān)閉電源,打開收粉器即可得到納米硅粉。本實施例所得到的納米硅粉為棕黃色粉末,經(jīng)X射線衍射分析,得XDR圖如圖2所示,其測試值如表1所示:表1:2-Theta28.5347.3356.22Intensity36681348908經(jīng)電鏡掃描,如圖3所示,平均粒徑為67nm,比表面積為89.5m2/g。實施例2:納米硅粉的制備按照實施例1的制備方法進行制備,不同的是,所述步驟(2)中等離子體發(fā)生器10的工作氣體壓力為0.4MPa,工作電壓為300V,工作電流為350A,工作流量為75m3/h;步驟(3)中原料硅烷的送料速度為7kg/h;步驟(5)中等離子發(fā)生器10繼續(xù)運行的時間為70分鐘。本實施例所得到的納米硅粉為棕黃色粉末,經(jīng)X射線衍射分析,得XDR圖如圖4所示,其測試值如表2所示:表2:2-Theta28.5647.4256.24Intensity35400188809880經(jīng)電鏡掃描,如圖5所示,平均粒徑為84nm,比表面積為78.1m2/g。實施例3:納米硅粉的制備按照實施例1的制備方法進行制備,不同的是,所述步驟(2)中等離子體發(fā)生器10的工作氣體壓力0.5MPa,工作電壓為350V,工作電流為350A,工作流量為80m3/h;步驟(3)中原料硅烷的送料速度為10kg/h;步驟(5)中等離子發(fā)生器10繼續(xù)運行的時間為90分鐘。本實施例所得到的納米硅粉為棕黃色粉末,經(jīng)X射線衍射分析,得XDR圖如圖6所示,其測試值如表3所示:表3:2-Theta28.6047.4856.30Intensity541322601066.67經(jīng)電鏡掃描,如圖7所示,平均粒徑為93nm,比表面積為65.7m2/g。本文檔來自技高網(wǎng)...
    納米硅粉的制備方法

    【技術(shù)保護點】
    一種納米硅粉的制備方法,其特征在于:包括如下步驟:(1)向等離子發(fā)生器中引入硅烷,經(jīng)電離分解,重新成核得到納米硅顆粒;(2)納米硅顆粒經(jīng)過氣固分離和冷卻后,得到納米硅粉;上述各步驟均在氮氣環(huán)境下進行。

    【技術(shù)特征摘要】
    1.一種納米硅粉的制備方法,其特征在于:包括如下步驟:(1)向等離子發(fā)生器中引入硅烷,經(jīng)電離分解,重新成核得到納米硅顆粒;(2)納米硅顆粒經(jīng)過氣固分離和冷卻后,得到納米硅粉;上述各步驟均在氮氣環(huán)境下進行。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米硅粉的制備方法,其特征在于:所述步驟(1)中等離子發(fā)生器的工作...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:張芬紅
    申請(專利權(quán))人:合肥開爾納米能源科技股份有限公司
    類型:發(fā)明
    國別省市:安徽,34

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