本發明專利技術涉及酞菁色素,其特征在于,至少具有1個未取代氨磺酰基及取代氨磺酰基作為取代基,兩者合計為2至4,且取代氨磺酰基上的取代基通過交聯基具有取代三嗪基,并且未取代氨磺酰基及取代氨磺酰基在酞菁環的β位上進行取代,該酞菁色素適合作于噴墨打印用的油墨,尤其適合作為于青色油墨,使用該油墨印刷的印刷物的耐光性、耐臭氧性及耐濕性優越。(*該技術在2024年保護過期,可自由使用*)
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】?酞菁色素及其噴墨打印用途
本專利技術涉及酞菁色素、油墨、油墨組、使用該油墨或油墨組的噴墨記錄方法、著色體、酞菁色素的制造方法。
技術介紹
近年來作為圖像記錄材料,特別是用于形成彩色圖像的材料為主流,具體而言,噴墨方式記錄材料、感熱轉印型圖像記錄材料、使用電子照像方式的記錄材料、轉印式鹵素化銀感光材料、印刷油墨、記錄筆等被廣泛利用。另外,在顯示器的LCD或PDP中,攝影設備的CCD等電子零件中,使用濾色器。在這些彩色圖像記錄材料或濾色器中,為了再現或記錄全色圖像,使用所謂的加法混色法或減法混色法的3原色色素(染料或顏料),但是現狀為沒有具有可實現理想色再現域的吸收特性且耐受各種使用條件的色素,強烈期待能加以改善。噴墨記錄方法由于材料費便宜,可快速記錄,記錄時噪音少且彩色記錄容易,所以快速普及且持續發展。噴墨記錄方法有連續將液滴噴射的連續方式及對應圖像信息信號將液滴噴射的隨需(on?demand)方式,其排出方式有:通過壓電器件施加壓力使液滴排出的方式,通過熱使于油墨中產生氣泡而使液滴排出的方式、使用超音波的方式或通過靜電將液滴吸取排出的方式。適合噴墨記錄的油墨的例子可列舉如:水性油墨、油性油墨或固體(熔融型)油墨等。對于在適合這樣的噴墨記錄的油墨中所使用的色素,要求對于溶劑的溶解性或分散性佳,可高濃度記錄,色調良好,對于光、熱、環境中的活性氣體(NOx、臭氧和SOx等氧化性氣體)強,對水或藥品的耐久性優越,對于被記錄材料的定影性佳,不易滲透,作為油墨的保-->存性優越,無毒性且便宜又容易購得。尤其強烈期待具有良好青色澤,耐光性(對光的耐久性)、耐臭氧性(對臭氧氣體的耐久性)及耐濕性(在高濕度下的耐久性)優越,不會引起青銅現象(亦稱為青銅化現象)的青色素。青銅現象是指由于色素聚集或油墨吸收不良等原因導至光澤紙等的表面上色素成為金屬片狀、發光的現象。若引起該現象,則光澤性、印刷品質、印刷濃度均變差。適合噴墨記錄的油墨所使用的水溶性青色素的骨架以酞菁系或三苯甲烷系為代表。最被廣范圍地報道、利用的代表性酞菁系色素有以下A至H所分類的酞菁衍生物。A:直接藍-86(Direct?Blue?86)、直接藍-87(Direct?Blue?87)、直接藍-199(Direct?Blue?199)、酸性藍-249(Acid?Blue?249)或活性藍-71(Reactive?Blue?71)等公知的酞菁系色素B:特開昭62-190273號公報(文獻1)、特開平7-138511號公報(文獻2)、特開2002-105349號公報(文獻3)等所揭示的酞菁系色素[例如Cu-Pc-(SO3Na)m(SO2NH2)n:m+n=1至4的混合物]C:特開平5-171085號公報(文獻4)等所揭示的酞菁系色素[例如Cu-Pc-(CO2H)m(CONR1R2)n:m+n=0至4的數]D:特開平10-140063號公報(文獻5)等所揭示的酞菁系色素[例如Cu-Pc-(SO3H)m(SO2NR1R2)n:m+n=0至4的數且m≠0]E:特表平11-515048號公報(文獻6)等所揭示的酞菁系色素[例如Cu-Pc-(SO3H)1(SO2NH2)m(SO2NR1R2)n:1+m+n=0至4的數]F:特開昭59-22967號公報(文獻7)等所揭示的酞菁系色素[例如Cu-Pc-(SO2NR1R2)n:n=1至5的數]G:特開2000-303009號公報(文獻8)及特開2002-249677號公報(文獻9)等所揭示的酞菁系色素[控制取代基取代位置的酞菁化合物、β-位上導入取代基的酞菁系色素:有關β-位,請參照后述說明]H:特開2003-34758號公報(文獻10)等所揭示的具有吡啶環的酞菁系色素-->現在一般廣泛使用的直接藍86或直接藍199所代表的酞菁系色素具有比一般所知的洋紅色素或黃色色素的耐光性優越的特征。酞菁系色素在酸性條件下是帶綠的色調,不太適合作為青色油墨。因此使用這些色素作為青色油墨時優選在中性至堿性條件下使用。但是,即使油墨為中性至堿性,而所使用被記錄材料為酸性紙時,則印刷物的色澤可能會產生大變化。尤其,近來即使因環境問題而常采納的氧化氮氣體或臭氧等氧化性氣體,亦會引起變色帶綠及脫色,同時印刷濃度亦降低。另一方面,對三苯甲烷系而言雖然色澤佳,但是耐光性、耐臭氧性及耐濕性極為低劣。今后,由于使用領域擴大,若廣泛使用于廣告等展示物,則曝露于光或環境中的活性氣體的情形增多,所以越來越期待具有良好色澤、耐光性及在環境中的活性氣體(NOx、臭氧和SOx等氧化性氣體)的耐性優越且便宜的色素及油墨。但是卻難以開發能以高水平滿足這些要求的青色素(例如酞菁系色素)及青色油墨。至今,賦予活性氣體耐性的酞菁系色素揭示于上述文獻3、8至10及特開2002-80762號公報(文獻11)等中,但是仍無法獲得能滿足色澤、耐光性、耐臭氧性及耐濕性等所有品質且可便宜制造的青色素及青色油墨。因而無法充分滿足市場的需求。本專利技術以解決上述以往的問題,并達成以下的目的為課題。亦即,本專利技術的目的是提供具有良好色澤,且具優異耐光性、耐臭氧性及耐濕性的新穎酞菁色素作為青色油墨,并提供適于使用該酞菁色素噴墨的油墨及噴墨記錄方法。
技術實現思路
本專利技術人等在詳細研究良好色澤、耐光性及耐臭氧性高的酞菁系-->色素類時發現以特定的酞菁系色素作為油墨用的色素使用,可解決上述課題,因而完成本專利技術。詳言之,本專利技術涉及在特定取代位置(β位:參照后述)上具有以含有三嗪環的取代基取代的氨磺酰基及未取代的氨磺酰基兩者的下述式(1)所示的金屬酞菁色素,發現該色素具有良好的青色等色澤,耐光性(對光的耐久性)、耐濕性(在高濕度下的耐久性)優越、不會引起青銅現象(亦稱為使成青銅化現象)的性質,同時耐臭氧性(對于臭氧氣體的耐久性)亦優越,因而完成本專利技術。以下將本專利技術加以詳細揭示。亦即,本專利技術涉及1.式(1)表示的酞菁色素,{式(1)中,M為氫原子、金屬原子、金屬氧化物、金屬氫氧化物或金屬鹵化物;R2、R3、R6、R7、R10、R11、R14、R15各自獨立為式(2)所示的未取代氨磺酰基、式(3)所示的取代氨磺酰基或氫原子;其中,R2、R3、R6、R7、R10、R11、R14、R15中至少有1個為未取代氨磺酰基,至少有1個為式(3)所示的取代氨磺酰基;R1、R4、R5、R8、R9、R12、R13、R16為氫原子;未取代氨磺酰基數與取代氨磺酰基數的和為2至4且未取代氨磺酰基數為1至3,取代氨磺酰基數為1至3}-->-SO2NH2??????????????????????(2){式(3)中,R17及R18各自獨立為氫原子、取代或未取代的烷基、取代或未取代的環烷基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的雜環基或取代或未取代的烯基;A為交聯基,鄰接的R17、R18、A之間可相互連結形成環;Y及Z各自獨立為鹵素原子、羥基、磺酸基、羧基、氨基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的環烷氧基、取代或未取代的芳氧基、取代或未取代的雜環氧基、取代或未取代的烯氧基、取代或未取代的烷胺基、取代或未取代的環烷胺基、取代或未取代的芳胺基、取代或未取代的雜環胺基、取代或未取代的烯胺基、取代或未取代的二烷胺基、取代或未取代的烷硫基、取代或未取代的本文檔來自技高網...
【技術保護點】
式(1)表示的酞菁色素,***(1){式(1)中,M為氫原子、金屬原子、金屬氧化物、金屬氫氧化物或金屬鹵化物,R↓[2]、R↓[3]、R↓[6]、R↓[7]、R↓[10]、R↓[11]、R↓[14]、R↓[15]各自獨立 為式(2)表示的未取代氨磺酰基、式(3)表示的取代氨磺酰基或氫原子;其中,R↓[2]、R↓[3]、R↓[6]、R↓[7]、R↓[10]、R↓[11]、R↓[14]、R↓[15]中至少有1個為未取代氨磺酰基,至少有1個為式(3)表示的取代氨磺酰基;另外,R↓[1]、R↓[4]、R↓[5]、R↓[8]、R↓[9]、R↓[12]、R↓[13]、R↓[16]為氫原子;未取代氨磺酰基數與取代氨磺酰基數的和為2至4,且未取代氨磺酰基數為1至3,取代氨磺酰基數為1至3}-SO↓[2 ]NH↓[2](2)***(3){式(3)中,R↓[17]及R↓[18]各自獨立為氫原子、取代或未取代的烷基、取代或未取代的環烷基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的雜環基、取代或未取代的烯基,A為交聯基,鄰接的R↓ [17]、R↓[18]、A之間可相互連結形成環;Y及Z各自獨立為鹵素原子、羥基、磺酸基、羧基、氨基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的環烷氧基、取代或未取代的芳氧基、取代或未取代的雜環氧基、取代或未取代的烯氧基、取代或未取代的烷胺基、取代或未取代的環烷胺基、取代或未取代的芳胺基、取代或未取代的雜環胺基、取代或未取代的烯胺基、取代或未取代的二烷胺基、取代或未取代的烷硫基、取代或未取代的芳硫基、取代或未取代的雜環硫基或取代或未取代的烯硫基;其中,Y、Z中至少有1個為具有離子性親水性基作為取代基的基}。...
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】JP 2003-3-31 095292/2003;JP 2003-8-8 289492/20031.式(1)表示的酞菁色素,{式(1)中,M為氫原子、金屬原子、金屬氧化物、金屬氫氧化物或金屬鹵化物,R2、R3、R6、R7、R10、R11、R14、R15各自獨立為...
【專利技術屬性】
技術研發人員:藤井隆文,北山弘和,難波晉一,
申請(專利權)人:日本化藥株式會社,
類型:發明
國別省市:JP[日本]
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