高壓氣體容器的清洗方法和高壓氣體容器技術

本發(fā)明專利技術提供適合于除去高壓氣體容器內的水分的清洗方法，在本發(fā)明專利技術的高壓氣體容器的清洗方法中，重復進行向高壓氣體容器導入具有親水性的氣體而進行升壓的升壓工序和將上述高壓氣體容器內的氣體排出的排氣工序。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】高壓氣體容器的清洗方法和高壓氣體容器
本專利技術涉及用于除去高壓氣體容器內的水分的清洗方法。
技術介紹
為了運輸醫(yī)療設備和分析設備的校正用的標準氣體和半導體用高純度氣體，使用大量的高壓氣體容器。為了長期保持這些標準氣體和高純度氣體的品質，在氣體的填充前進行適當的容器內的清洗處理。特別是在氯化氫、氯、二氧化硫、氨等與水分的親和性強的氣體用容器中，需要在填充前充分地除去容器內的水分。作為含有鐵、鉻、鉬、錳和它們的合金的金屬制的高壓氣體容器內的水分除去方法，一般能夠列舉(1)使用氮等不活潑氣體重復進行升壓和減壓的清洗，(2)對容器進行加溫而重復進行使用氮等不活潑氣體的升壓和減壓的加溫真空清洗。但是，在這些方法中，如果在利用不活潑氣體進行水分除去之后，不能充分地除去水分而填充具有親水性的氣體(具有與水分的親和性的氣體)，則存在在容器內微量殘留的水分與氣體親和，與調制時的濃度相比氣體純度低等不能獲得穩(wěn)定的標準氣體和高純度氣體的品質的問題。此外，根據氣體的種類，還存在成為高壓氣體容器內面的生銹、腐蝕的原因的情況。關于用于容器內等的水分除去的清洗，例如在下述的專利文獻1、2中有所記載。在專利文獻1中，通過將液化氯化氫填充于容器，在30～50℃進行加溫，將高壓氣體容器內的水分和成為水分的原因的氧化物除去。但是，由于填充液化氯化氫，之后進行排出，所以使用大量的制品(液化氯化氫)，并不是經濟的方法。在專利文獻2中，基板上的水分除去使用高純度氯化氫、高純度溴化氫、高純度氨。但是，因為僅向基板上吹送氣體，所以水分的除去效率差，需要大量的清洗氣體。此外，由于在一般的高壓氣體容器中氣體吹送口為一處，所以氣體的流動偏向一方，僅能夠向容器內的一部分吹送高純度氣體，難以遍及容器內的角落進行水分除去。現有技術文獻專利文獻專利文獻1：日本專利第3920544號公報專利文獻2：日本特開平9-106974號公報
技術實現思路
專利技術所要解決的問題本專利技術是在這樣的情況之下想到的專利技術，其課題在于提供適合于除去高壓氣體容器內的水分的清洗方法。用于解決課題的手段由本專利技術的第一方面提供的高壓氣體容器的清洗方法的特征在于：重復進行向高壓氣體容器導入具有親水性的氣體而升壓的升壓工序和將上述高壓氣體容器內的氣體排出的排氣工序。優(yōu)選上述升壓工序中的上述高壓氣體容器的內部的最高壓力為0.1MPaG以上。優(yōu)選上述排氣工序中的上述高壓氣體容器的內部的最低壓力為大氣壓以下。優(yōu)選上述高壓氣體容器具有在規(guī)定的工作溫度以上熔化的易熔塞，在上述升壓工序和上述排氣工序中，上述高壓氣體容器的溫度被維持在30℃以上且低于上述工作溫度。優(yōu)選導入上述高壓氣體容器的上述具有親水性的氣體的純度為99.99vol.％以上。優(yōu)選上述具有親水性的氣體為選自氯化氫、溴化氫、氯、二氧化硫和氨中的任一種氣體。由本專利技術的第二方面提供的高壓氣體容器的特征在于：利用本專利技術的第一方面的高壓氣體容器的清洗方法進行了清洗處理。本專利技術的其它特征和優(yōu)點通過參照附圖在以下進行詳細說明而明了。附圖說明圖1表示能夠用于實施本專利技術的高壓氣體容器的清洗方法的清洗裝置的概略結構。具體實施方式以下，參照附圖對本專利技術的優(yōu)選實施方式進行具體說明。圖1表示能夠用于實施本專利技術的高壓氣體容器的清洗方法的清洗裝置X的概略結構。本實施方式的清洗裝置X具有高壓氣體容器1、氯化氫氣體供給源2、液化氯化氫供給源3、連接它們的配管4和設置在配管4的適當位置的開閉閥51、52、53、54，構成為能夠向高壓氣體容器1導入作為具有親水性的氣體的氯化氫而對容器內進行清洗。高壓氣體容器1例如用于填充作為制品的高純度液化氣體。高壓氣體容器1具有容器主體11和與該容器主體11連接的容器閥12。容器主體11為具有規(guī)定的容量的耐壓容器，例如為含有鐵和鐵的合金的金屬制。容器閥12具有手柄121、連接部122和易熔塞123而構成。手柄121是通過該手柄121的操作切換容器主體11與連接部122之間的流路的開閉的部件。連接部122是承擔與配管4的連接的關節(jié)部分。在將容器閥12閉合的狀態(tài)下，高壓氣體容器1能夠維持密閉狀態(tài)相對配管4(后述的部分管路41)進行裝卸。在向高壓氣體容器1填充制品之前，利用清洗用氣體清洗高壓氣體容器1的內部。在高壓氣體容器1的外周部設置有用于在清洗時將該高壓氣體容器1保持在規(guī)定溫度的加溫單元(省略圖示)。另外，在本實施方式中，列舉使用氯化氫及其液化氣體作為高壓氣體容器1的清洗用氣體和填充至該高壓氣體容器1的制品的情況為例進行說明，但本專利技術并不限定于此。作為清洗用氣體和制品(液化氣體)，使用具有親水性的氣體(與水的親和性強的氣體)。作為這樣的具有親水性的氣體，例如能夠列舉溴化氫、氯、二氧化硫和氨。易熔塞123能夠在成為規(guī)定的工作溫度以上時熔化而開栓，由此將容器主體11內部的氣體向外部釋放。易熔塞123例如包含在工作溫度以上熔化的可溶金屬而構成，作為防止高壓氣體容器1內成為過度的高壓狀態(tài)的安全閥發(fā)揮作用。易熔塞123的工作溫度與填充至高壓氣體容器1內的液化氣體的種類不同。對易熔塞123的工作溫度例示如下：在填充的液化氣體為液化氯化氫或液化溴化氫的情況下為70℃，在為液化氯的情況下為61℃，在為液化二氧化硫的情況下為58℃，在為液化氨的情況下為57℃。氯化氫氣體供給源2是收容作為清洗用氣體的高純度氯化氫氣體的部件。該氯化氫氣體(清洗用氣體)的純度例如為99.99vol.％以上，優(yōu)選為99.999vol.％以上。液化氯化氫供給源3是收容作為制品的液化氯化氫的部件。配管4具有部分管路41～46。部分管路41與高壓氣體容器1連接，部分管路42與氯化氫氣體供給源2連接。在部分管路42設置有流量調整器61和開閉閥51。流量調整器61是將從液化氫氣體供給源2供給的清洗用氣體控制為規(guī)定的流量的部件。部分管路44連接部分管路41與部分管路42，部分管路42、44、41形成從氯化氫氣體供給源2至高壓氣體容器1的流路。在部分管路44連接有壓力計62。部分管路43與液化氯化氫供給源3連接，相對于部分管路42(44)呈分支狀延伸。在部分管路43設置有開閉閥52。部分管路43、44、41形成從液化氯化氫供給源3至高壓氣體容器1的流路。部分管路45相對于部分管路41(44)呈分支狀延伸。在部分管路45設置有開閉閥53和減壓閥63。在部分管路45的端部連接有分析裝置7。部分管路46相對于部分管路44呈分支狀延伸。在部分管路46設置有開閉閥54和泵64。在使用上述構成的清洗裝置X對高壓氣體容器1進行清洗時，向高壓氣體容器1導入氯化氫氣體而進行升壓(升壓工序)，接著，將高壓氣體容器1內的氣體排出(排氣工序)，重復進行該升壓工序和排氣工序。在升壓工序中，使開閉閥51為打開狀態(tài)，且使開閉閥52、53、54為關閉狀態(tài)，從氯化氫氣體供給源2導出的氣體經部分管路42、流量調整器61、開閉閥51和部分管路44、41被導入高壓氣體容器1內。升壓工序中的高壓氣體容器1的內部的最高壓力，在之后進行的排氣工序中的最低壓力小于大氣壓的情況下，例如為0.0MPaG(表壓)以上即可，在排氣工序中的最低壓力為大氣壓左右的情況下，例如為0.1MPaG(表壓)以上，優(yōu)選為0.3MPaG以上。在排氣工序中，使開閉閥54為打本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種高壓氣體容器的清洗方法，其特征在于：重復進行向高壓氣體容器導入具有親水性的氣體而升壓的升壓工序和將所述高壓氣體容器內的氣體排出的排氣工序。

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2014.12.03 JP 2014-2450291.一種高壓氣體容器的清洗方法，其特征在于：重復進行向高壓氣體容器導入具有親水性的氣體而升壓的升壓工序和將所述高壓氣體容器內的氣體排出的排氣工序。2.如權利要求1所述的高壓氣體容器的清洗方法，其特征在于：所述升壓工序中的所述高壓氣體容器的內部的最高壓力為0.1MPaG以上。3.如權利要求1或2所述的高壓氣體容器的清洗方法，其特征在于：所述排氣工序中的所述高壓氣體容器的內部的最低壓力為大氣壓以下。4.如權利要求1～3中任一項所述的高壓氣體容器的清洗方法...

【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：桑名晃裕，山內宏貴，本田弘樹，
申請(專利權)人：住友精化株式會社，
類型：發(fā)明
國別省市：日本,JP