一種清洗制絨水洗槽噴淋裝置的設計方法制造方法及圖紙

本發明專利技術公開了一種清洗制絨水洗槽噴淋裝置的設計方法，包括進水管和若干噴淋頭，所述的若干噴淋頭設置于進水管的側壁上，并處于同一水平線上；所述噴淋頭的數量及分布根據清洗制絨設備每次上料時硅片的數量及位置進行確定；所述的噴淋頭的出水口包括噴淋頭中心具有同心的等間距設置的若干個弧形結構的出水口和噴淋頭蓋邊緣處具有同心的等間距設置的若干個弧形結構的出水口組成；所述的噴淋頭的形狀為圓形、橢圓形、方形等任意形狀。本發明專利技術的有益效果增加噴淋出水流量，使水完全覆蓋硅片表面，充分清洗硅片表面的殘留藥液，大大降低了因制絨水洗不干凈導致的擴散外觀異常返工比例，降低了電池片制造成本。

Design method of cleaning and washing bath spraying device

The invention discloses a design method of cleaning wool washing bath spraying device, which comprises a water inlet pipe and a plurality of spray heads, some spray head arranged on the side wall of the water inlet pipe, and at the same level; the number of the spray head and the distribution according to the cleaning every material milling equipment the number and location of the silicon wafer was determined; the outlet of the spray head comprises a plurality of arc-shaped structure spacing at the outlet and a plurality of arc spray head edge spacing structure etc. the spray head center is arranged concentrically with concentrically disposed water outlet; the spray head is in the shape of round or oval arbitrary shape and square etc.. The invention has the advantages of increasing the spray water flow, the water completely covers the wafer surface, fully clean the residual liquor of silicon surface, greatly reduced due to diffusion of wool washing is not clean and causes the appearance of abnormal rework ratio, reducing the manufacturing cost of battery plate.

【技術實現步驟摘要】
一種清洗制絨水洗槽噴淋裝置的設計方法
本專利技術涉及晶硅太陽能電池片的制備領域，具體地涉及一種清洗制絨水洗槽噴淋裝置的設計方法。
技術介紹
在晶硅太陽能電池片的制備工藝中，首先硅片需要經過清洗制絨。在現有的設備中，清洗制絨工序中使用的機臺的水洗槽采用多孔并列式噴淋的設計結構。該設計結構的噴淋頭存在噴淋口小且間距較大，水不能完全覆蓋硅片表面等問題，難以保證片子表面殘留藥液得到完全去除，容易導致擴散后硅片表面有小黑點或者硅片發藍等現象，使擴散返工片數量增加，從而增加制造成本。
技術實現思路
本專利技術的目的是提供一種清洗制絨水洗槽噴淋裝置的設計方法，達到在生產過程中，硅片經過水洗槽時水完全覆蓋硅片表面，充分去除硅片表面殘留藥液，降低擴散外觀異常返工片的比例的目的。本專利技術采用的技術解決方案是：一種清洗制絨水洗槽噴淋裝置的設計方法，包括進水管和若干噴淋頭，所述的若干噴淋頭設置于進水管的側壁上，并處于同一水平線上；所述噴淋頭的數量及分布根據清洗制絨設備每次上料時硅片的數量及位置進行確定；所述的噴淋頭的出水口包括噴淋頭中心具有同心的等間距設置的若干個弧形結構的出水口和噴淋頭蓋邊緣處具有同心的等間距設置的若干個弧形結構的出水口組成；所述的噴淋頭的形狀為圓形、橢圓形、方形等任意形狀。本專利技術的有益效果增加噴淋出水流量，使水完全覆蓋硅片表面，充分清洗硅片表面的殘留藥液，大大降低了因制絨水洗不干凈導致的擴散外觀異常返工比例，降低了電池片制造成本。附圖說明圖1原噴淋裝置結構示意圖圖中：1表示水管；2表示水管上圓形孔洞圖2本專利技術中提供的噴淋裝置結構示意圖圖中：1表示水管，2表示噴淋頭圖3本專利技術中提供的噴淋頭細節結構圖圖中：1表示整個噴淋頭蓋，2表示噴淋出水口，3表示噴淋出水口。具體實施方式下面結合附圖2和附圖3對本專利技術的技術方案作進一步詳細說明。在本具體實施方式中，清洗制絨的上料設備每次上料時，硅片的數量為五片。因此在本噴淋裝置中，噴淋頭的數量為五個，且中心位置與上料時硅片的中心位置一致。在進水管的側壁進行開孔，直徑與噴淋頭的進水口的直徑相同，且五個噴淋頭在同一水平線上。噴淋頭的形狀為圓形，以其中心為標準點，設計成兩層出水口，內層為相同的八個等間距的出水口，外層為相同的四個等間距的出水口。本實施方式中，噴淋頭裝置內含多個噴口的大口徑噴淋，解決了多孔并列式噴淋因噴淋流量小不能完全覆蓋硅片表面的弊端，此大口徑噴淋增加噴淋的流量，使水完全覆蓋硅片表面，使得硅片表面殘留藥液得以充分去除，大大降低了因制絨水洗不干凈導致的擴散外觀異常返工比例，降低了電池片制造成本。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種清洗制絨水洗槽噴淋裝置的設計方法，包括進水管和若干噴淋頭，所述的若干噴淋頭設置于進水管的側壁上，并處于同一水平線上。

【技術特征摘要】
1.一種清洗制絨水洗槽噴淋裝置的設計方法，包括進水管和若干噴淋頭，所述的若干噴淋頭設置于進水管的側壁上，并處于同一水平線上。2.根據權利要求1所述的一種清洗制絨水洗槽噴淋裝置的設計方法，其特征在于：所述噴淋頭的數量及分布根據清洗制絨設備每次上料時硅片的數量及位置進行確定。3.根據權利要求1所述的一種清洗制...

【專利技術屬性】
技術研發人員：潘龍，方智，王慶錢，
申請(專利權)人：浙江鴻禧能源股份有限公司，
類型：發明
國別省市：浙江,33