The invention provides a nickel foam substrate direct growth of carbon nanotube preparing method of battery electrode, which comprises the following steps: catalytic and substrate material selection of nickel foam carbon nanotubes chemical vapor deposition, chemical and ultrasonic cleaning on nickel foam substrate; CVD reactor, gas and chemical growth in CVD the reaction device of nickel foam substrate directly by carbon nanotube deposition, growth temperature of 600 at 900 C, the hydrocarbon gas and carrier gas flow ratio (10 40sccm (100): 400sccm), growth pressure in 1 760Torr, 1 30min growth time. The advantages of this invention is to a significant role to enhance the performance of the battery device, CNT nickel foam substrate surface area and electrochemical activity increased significantly, the performance cycle life of Ni MH battery CNT nickel foam substrate based on improved.
【技術實現步驟摘要】
泡沫鎳基底上直接生長碳納米管來制備電池電極的方法
本專利技術屬于碳納米管應用領域,具體是指泡沫鎳基底上直接生長碳納米管來制備泡沫鎳電池電極的方法。
技術介紹
泡沫鎳具有優異的催化活性、呈多孔結構、表面積大,在鎳氫電池、超級電容器等多種電池能源器件中,泡沫鎳是制備電池電極的重要材料。提高泡沫鎳的催化活性、多孔性、導電性等,對于增強電池器件的性能有重要意義。碳納米管(CNTs)具有典型的層狀中空結構特征、較高的長徑比、高機械強度、穩定的化學性質,使得它在電池能源器件領域的應用得到廣泛關注和研究。因此,將CNTs與泡沫鎳相結合,是提高相關電池能源器件性能的一條有效途徑。在現有技術中,泡沫鎳上生長CNTs的工藝中,常用的手段是先沉積一層催化劑,再經CVD進行CNTs生長。受CNTs生長機制的制約,因而這種方法存在一些固有缺陷,包括:(1)在結構性能方面,CNT-催化金屬薄膜-基底之間難以形成強烈有機的結合,在不同的應用條件沖擊下,CNT薄膜易脫落,直接影響器件的性能和壽命;(2)CNT-催化金屬薄膜-基底結構的導電性能不佳,影響電子、能源等器件的性能;(3)CNT-催化金屬薄膜-基底結構的非緊密結合會造成較大的熱耗散,不但會直接影響能源器件的效率等特性,還會加速器件的老化。
技術實現思路
本專利技術的目的是為了克服現有技術存在的缺點和不足,而提供一種泡沫鎳基底上直接生長碳納米管來制備泡沫鎳電池電極的方法。通過該方法碳納米管在泡沫鎳基底上生長均勻、晶體性好、與基底結合力強且工藝步驟簡單高效,從而提高了其作為泡沫鎳電池電極的性能。為實現上述目的,本專利技術的技術方案包括以 ...
【技術保護點】
泡沫鎳基底上直接生長碳納米管來制備電池電極的方法,其特征在于,包括以下步驟:⑴選用泡沫鎳做碳納米管化學氣相沉積反應的催化與基底材料,對泡沫鎳基底進行化學和超聲清潔;⑵設置CVD反應裝置,并在CVD反應裝置中對泡沫鎳基底直接進行碳納米管的化學氣相沉積生長,所述CVD反應裝置包括管式爐、設置于管式爐一側的進氣通道、以及設置于管式爐另一端的真空抽氣泵,將泡沫鎳基底用耐高溫托盤承載、放置在管式爐中間,用真空抽氣泵將管式爐抽至壓強<1?Torr的真空狀態,同時對管式爐進行加熱,并向石英爐內通入載氣,當管式爐加熱溫度達到600?900°C時,向爐中通入適當流量比的碳氫氣體,該碳氫氣體與載氣的流量比為(10?40sccm)?:?(100?400sccm),并控制反應爐內的壓力在1?760Torr,?開始1?30min的碳納米管生長,生長結束后,停止加熱,關閉碳氫氣源,維持載氣通入,讓反?應爐降溫至室溫,取出樣品。
【技術特征摘要】
1.泡沫鎳基底上直接生長碳納米管來制備電池電極的方法,其特征在于,包括以下步驟:⑴選用泡沫鎳做碳納米管化學氣相沉積反應的催化與基底材料,對泡沫鎳基底進行化學和超聲清潔;⑵設置CVD反應裝置,并在CVD反應裝置中對泡沫鎳基底直接進行碳納米管的化學氣相沉積生長,所述CVD反應裝置包括管式爐、設置于管式爐一側的進氣通道、以及設置于管式爐另一端的真空抽氣泵,將泡沫鎳基底用耐高溫托盤承載、放置在管式爐中間,用真空抽氣泵將管式爐抽至壓強<1Torr的真空狀態,同時對管式爐進行加熱,并向石英爐內通入載氣,當管式爐加熱溫度達到600-900°C時,向爐中通入適當流量比的碳氫氣體,該碳氫氣體與載氣的流量比為(10-40sccm):(100-400sccm),并控制反應爐內的壓力在1-760Torr,開始1-3...
【專利技術屬性】
技術研發人員:余興華,易秋珍,鐘建夫,朱濟群,
申請(專利權)人:常德力元新材料有限責任公司,
類型:發明
國別省市:湖南,43
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