用于基于網(wǎng)的處理的無(wú)掩模平版印刷制造技術(shù)

本公開(kāi)案總體涉及一種用于處理基于網(wǎng)的基板的方法和設(shè)備。當(dāng)所述基板在輥之間行進(jìn)時(shí)，所述基板可被拉伸并且因而扭曲。一旦所述基板到達(dá)所述輥處，所述基板扭曲就會(huì)固定。通過(guò)調(diào)整處理參數(shù)，所扭曲的基板得以處理，而不需要校正所述扭曲。

Maskless lithography for web based processing

The disclosure generally relates to a method and apparatus for processing a substrate based on a network. When the substrate travels between rollers, the substrate can be stretched and distorted. When the substrate reaches the roller, the substrate distortion is fixed. By adjusting the processing parameters, the distorted substrate is processed without the need to correct the distortions.

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】背景領(lǐng)域本公開(kāi)案的實(shí)施方式涉及一種用于處理基于網(wǎng)的基板(web-basedsubstrate)的方法和設(shè)備。相關(guān)技術(shù)描述在基于網(wǎng)的基板處理中，基板移動(dòng)過(guò)輥，并且在一或多個(gè)處理位置處進(jìn)行處理。與靜態(tài)處理相反，基于網(wǎng)的基板可以在基板連續(xù)移動(dòng)通過(guò)系統(tǒng)時(shí)進(jìn)行處理。因此，基板位置不斷改變，這種情況在基于網(wǎng)的基板處理中尤為明顯。基于網(wǎng)的基板行進(jìn)過(guò)輥。當(dāng)在該輥上時(shí)，基板位置一般是固定的。然而，在輥與輥之間，基板會(huì)被拉伸或垂直/側(cè)向于基板所行進(jìn)的路徑移動(dòng)。換句話說(shuō)，基板可能游移(wander)，使得當(dāng)基板遇到該輥時(shí)，就基于網(wǎng)的基板的整個(gè)長(zhǎng)度而言，基板并非在輥上的相同位置。除了游移之外，基板會(huì)被扭曲，使得基板相對(duì)于基板移動(dòng)方向側(cè)向地“擠成一團(tuán)(bunchup)”或壓縮。當(dāng)所扭曲的基板到達(dá)輥處時(shí)，扭曲一般固定，使得這種扭曲不會(huì)由于該基板的部分與輥接觸發(fā)生改變。然而，處理所扭曲的基板可能導(dǎo)致許多問(wèn)題，因?yàn)榕で赡茉诨逡苿?dòng)通過(guò)系統(tǒng)時(shí)沿基板的長(zhǎng)度發(fā)生改變。因此，基板必須將不扭曲，或者處理?xiàng)l件必須改變以便補(bǔ)償扭曲。一種解決基板扭曲問(wèn)題的方法是使用自對(duì)準(zhǔn)壓印平版印刷技術(shù)(SelfAlignedImprintLithography,SAIL)。SAIL僅僅將多個(gè)平版印刷(lithography)步驟間的對(duì)準(zhǔn)問(wèn)題轉(zhuǎn)移至多個(gè)蝕刻步驟，并且目前是商業(yè)上不可行的。SAIL處理需要大量資金投入以及非常嚴(yán)苛的系統(tǒng)布局和設(shè)計(jì)規(guī)則。因此，在本領(lǐng)域需要一種以不同于SAIL的方式來(lái)處理基于網(wǎng)的基板的方法。概述本公開(kāi)案總體涉及一種用于處理基于網(wǎng)的基板的方法和設(shè)備。當(dāng)所述基板在輥之間行進(jìn)時(shí)，所述基板可被拉伸并且因而扭曲。一旦所述基板到達(dá)所述輥處，所述基板扭曲就會(huì)固定。通過(guò)調(diào)整處理參數(shù)，所扭曲的基板得以處理，而不需要校正所述扭曲。在一個(gè)實(shí)施方式中，一種對(duì)基于網(wǎng)的基板進(jìn)行處理的方法包括：檢測(cè)所述基板是扭曲的；以及基于所述檢測(cè)到的扭曲來(lái)對(duì)所扭曲的基板進(jìn)行光刻處理。在另一實(shí)施方式中，一種基于網(wǎng)的處理設(shè)備包括：輥，所述輥設(shè)置在腔室主體中；對(duì)準(zhǔn)測(cè)量裝置；CPU，所述CPU耦接所述對(duì)準(zhǔn)測(cè)量裝置；處理裝置，所述處理裝置被耦接到所述CPU；以及圖像整形器(imageshaper)，所述圖形整形器設(shè)置在所述處理裝置與所述輥之間，其中所述圖像整形器能夠形成凸出且柱形的場(chǎng)形，以便匹配所述輥的形狀。附圖簡(jiǎn)述因此，為了能夠詳細(xì)理解本公開(kāi)案的上述特征結(jié)構(gòu)所用方式，上文所簡(jiǎn)要概述的本公開(kāi)案的更具體的描述可以參考實(shí)施方式進(jìn)行，其中一些實(shí)施方式示出在附圖中。然而，應(yīng)當(dāng)注意，附圖僅僅示出本公開(kāi)案的典型實(shí)施方式，并且因此不應(yīng)視為限制本公開(kāi)案范圍，因?yàn)楸竟_(kāi)案可以允許其他等效實(shí)施方式。圖1是通過(guò)輥的基于網(wǎng)的基板的示意圖。圖2A至圖2C是基于網(wǎng)的基板的示意圖，其中示出扭曲。圖3是具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的基于網(wǎng)的基板的示意圖。圖4是根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式的設(shè)備的示意圖。圖5是根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式的結(jié)合圖像整形器的設(shè)備的示意圖。為了促進(jìn)理解，已盡可能使用相同元件符號(hào)標(biāo)示這些附圖所共有的相同元件。預(yù)期的是，一個(gè)實(shí)施方式中公開(kāi)的元件可有益地用于其他實(shí)施方式，而不需要具體敘述。詳述本公開(kāi)案總體涉及一種用于處理基于網(wǎng)的基板的方法和設(shè)備。當(dāng)基板在輥之間行進(jìn)時(shí)，基板可被拉伸并且因而扭曲。一旦基板到達(dá)輥處，基板扭曲就會(huì)固定。通過(guò)調(diào)整處理參數(shù)，所扭曲的基板得以處理，而不需要校正扭曲。本文所討論的實(shí)施方式可以實(shí)踐在基于網(wǎng)的設(shè)備(諸如可購(gòu)自美國(guó)加利福尼亞州圣塔克拉拉市應(yīng)用材料公司(AppliedMaterials,Inc.,SantaClara,CA)的Applied設(shè)備中。應(yīng)當(dāng)理解，這些實(shí)施方式同樣可實(shí)踐于其他設(shè)備，包括其他制造商銷售的那些設(shè)備。本公開(kāi)案的實(shí)施方式涉及在柔性基板(諸如較薄塑料基板)上形成光刻圖案。塑料基板在操作期間具有變形的自然趨勢(shì)，這會(huì)導(dǎo)致在掩模平版印刷中圖案層之間的較大重疊錯(cuò)誤。本解決方案的實(shí)施方式提供用于在塑料基板上進(jìn)行無(wú)掩模光刻的解決方案。這些實(shí)施方式涉及通過(guò)輥來(lái)輸送基板，從而將相機(jī)聚焦于輥的前緣，并將一或多個(gè)DMD寫入器指向位于相機(jī)下游位置處的基板。相機(jī)和DMD寫入器兩者指向基板在輥上的部分，使得相機(jī)/基板和DMD寫入器/基板之間距離一致，從而消除由移動(dòng)離開(kāi)焦點(diǎn)的基板所導(dǎo)致的問(wèn)題?；迳系牡谝粓D案層的光刻期間，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記被印刷在裝置之間的切口(kerf)區(qū)域上；所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記用于表示沿著垂直或側(cè)向方向的扭曲。沿縱向方向的任何扭曲都可視為是均勻的。平行線或標(biāo)記沿著縱向方向印刷，以便反映基板游移。第二圖案層的光刻期間，對(duì)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的取樣使用相機(jī)執(zhí)行；基板扭曲從對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的取樣圖像計(jì)算；并且GDSII文件是結(jié)合所計(jì)算的扭曲進(jìn)行更新/形成。來(lái)自GDSII文件的信息被發(fā)送到DMD寫入器以打印第二圖案層。通過(guò)根據(jù)基板扭曲來(lái)使數(shù)字掩模扭曲，就可補(bǔ)償基板扭曲。扭曲在基于網(wǎng)的基板的工藝期間受到監(jiān)視。收集與形成在基板上的每個(gè)產(chǎn)品(諸如單獨(dú)裝置)相關(guān)聯(lián)的扭曲數(shù)據(jù)。扭曲信息可以用來(lái)指示產(chǎn)品質(zhì)量。任何扭曲峰值(spike)都可被標(biāo)記為潛在產(chǎn)量警報(bào)。當(dāng)扭曲在操作過(guò)程中到達(dá)穩(wěn)定狀態(tài)時(shí)，該扭曲的多點(diǎn)拖尾均值(multi-pointtrailingaverage)可以用來(lái)計(jì)算要印刷的GDSII圖像，由此提高整個(gè)基于網(wǎng)的基板的準(zhǔn)確度。由于基板在印刷期間是位于曲面之上，因此圖案間距可從中心朝向曲面的前端和后端拉伸。可以使用數(shù)學(xué)計(jì)算補(bǔ)償GDSII圖像中的拉伸?；蛘?，可以使用具有足夠大的直徑的輥，使得間距拉伸可被忽略。當(dāng)基板置放在輥的凸出表面上時(shí)，用于DMD寫入器的傳統(tǒng)光學(xué)系統(tǒng)具有凹入圖像平面。圖像平面與基板位置之間的誤差會(huì)導(dǎo)致DMD失去其準(zhǔn)確度和清晰度(sharpness)。凸平面圖像整形器可定位在DMD寫入器與輥之間，以便解決這一問(wèn)題。凸平面圖像整形器可為凹凸透鏡、場(chǎng)透鏡或三合透鏡。凸平面圖像整形器使得能夠使用具有較小直徑的輥。圖1是通過(guò)輥102的基于網(wǎng)的基板100的示意圖。當(dāng)輥102如箭頭104所示那樣旋轉(zhuǎn)時(shí)，基板100在箭頭106方上行進(jìn)越過(guò)輥102。在到達(dá)輥102前，基板100并未固定到位，并且因而可能如上所述那樣游移。一旦基板100在輥102上，基板100位于輥102上的部分就不會(huì)再游移，并且因而固定到位。如果在基板100到達(dá)輥102時(shí)，基板100存在任何扭曲，那么扭曲固定到位。圖2A至圖2C是基于網(wǎng)的基板100的示意圖，示出扭曲。圖案202示本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種對(duì)基于網(wǎng)的基板進(jìn)行處理的方法，所述方法包括：檢測(cè)所述基板是扭曲的；以及基于檢測(cè)到的扭曲來(lái)對(duì)所扭曲的基板進(jìn)行光刻處理。

【技術(shù)特征摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】2013.10.22 US 61/894,3281.一種對(duì)基于網(wǎng)的基板進(jìn)行處理的方法，所述方法包括：
檢測(cè)所述基板是扭曲的；以及
基于檢測(cè)到的扭曲來(lái)對(duì)所扭曲的基板進(jìn)行光刻處理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述檢測(cè)包括檢測(cè)在所述基板上的多個(gè)
對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所述檢測(cè)發(fā)生在所述基板與輥接觸時(shí)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，進(jìn)一步包括基于檢測(cè)到的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記來(lái)計(jì)算所
述基板的扭曲。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，進(jìn)一步包括基于所計(jì)算的扭曲來(lái)調(diào)整用于處
理所述基板的光刻條件。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中所計(jì)算的扭曲是基于對(duì)與所述基板上形
成的第一產(chǎn)品相鄰的所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的所述檢測(cè)的扭曲。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中所計(jì)算的扭曲是沿所述基板的長(zhǎng)度來(lái)設(shè)
置的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的平均扭曲。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中所述光刻處理步驟包括使用圖像整形
...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：克里斯多佛·本徹，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：應(yīng)用材料公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：美國(guó);US