【技術實現步驟摘要】
本技術涉及薄膜生產領域，尤其涉及一種原膜基材的清洗機。
技術介紹
目前，PET廣泛運用在光學產品上，對基膜的潔凈度要求非常高。由于很難保證基膜的生產環境完全無塵以及基膜完全無靜電，故基膜在生產過程中，多多少少會吸附一些顆粒，另一方面在BOPET基膜生產過程中由于高溫作用所產生的低分子量物質易在膜面形成低聚物，基膜表面吸附的這些物質會影響到后續加工工序，產生產品質量問題，造成合格率低下，增加了產品成本，若沒及時發現問題則會影響最終產品的質量。上述問題無法在PET生產線上得到完全解決，有公司采用觸媒的方式進行處理，但技術保密且成本昂貴。目前主要采用的是離線處理技術，大體分為三種方式：1、粘塵輥技術：利用膠輥吸附細小粉塵的特點處理，但無法材料基膜表面幾個微米以下大小的粉塵；2、超聲波技術：利用超聲波振動，然后利用潔凈空氣排除，同樣無法處理小顆粒粉塵；3、光學處理方式：利用光學原理分解小分子成分的雜物，但無法分解顆粒稍大的粉塵，并且分解有一定局限性。
技術實現思路
本技術的目的在于提供一種原膜基材的清洗機，以解決現有基膜生產中顆粒和低聚物影響后工序加工質量的問題。為了實現上述的目的，采用如下的技術方案。一種原膜基材的清洗機，包括清洗裝置，所述清洗裝置包括溶劑槽、清洗輥和過濾機構，所述溶劑槽包括內槽和外槽，所述內槽盛滿清洗溶劑，所述外槽里的清洗溶劑液面低于內槽壁，所述清洗輥下部浸泡在內槽的清洗溶劑里，上部與原膜基材接觸，所述過濾機構包括依次連接的入口、濾芯、水泵和出口，所述入口連接外槽底部，所述出口設置在內槽里。清洗...
【技術保護點】
一種原膜基材的清洗機，其特征在于，包括清洗裝置，所述清洗裝置包括溶劑槽、清洗輥和過濾機構，所述溶劑槽包括內槽和外槽，所述內槽盛滿清洗溶劑，所述外槽里的清洗溶劑液面低于內槽壁，所述清洗輥下部浸泡在內槽的清洗溶劑里，上部與原膜基材接觸，所述過濾機構包括依次連接的入口、濾芯、水泵和出口，所述入口連接外槽底部，所述出口設置在內槽里。
【技術特征摘要】
1.一種原膜基材的清洗機，其特征在于，包括清洗裝置，所述清洗裝置包括溶劑槽、清洗輥和過濾機構，所述溶劑槽包括內槽和外槽，所述內槽盛滿清洗溶劑，所述外槽里的清洗溶劑液面低于內槽壁，所述清洗輥下部浸泡在內槽的清洗溶劑里，上部與原膜基材接觸，所述過濾機構包括依次連接的入口、濾芯、水泵和出口，所述入口連接外槽底部，所述出口設置在內槽里。
2.根據權利要求1所述的清洗機，其特征在于，所述清洗輥為PVA海綿輥。
3.根據權利要求2所述的清洗機，其特征在于，所述...
【專利技術屬性】
技術研發人員：尹峰，謝慶堅，劉煜純，陳宏，
申請(專利權)人：廣東可逸智膜科技有限公司，
類型：新型
國別省市：廣東;44
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