冷卻裝置及多室型熱處理裝置制造方法及圖紙

本發明專利技術的目的在于提供一種能夠實現均勻的噴霧冷卻的冷卻裝置及多室型熱處理裝置。冷卻裝置(R)至少具備：多個冷卻噴嘴(2)，配置在容納于冷卻室(RS)的內部的被處理物(X)的周圍，朝向該被處理物噴霧冷卻介質；集流管(3)，與這些多個冷卻噴嘴連通；冷卻泵(4)，向該集流管供給冷卻介質。多個冷卻噴嘴被分為多個組。此外，集流管對應于多個冷卻噴嘴的各組的每組而設置。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及冷卻裝置及多室型熱處理裝置。本申請基于2014年5月29日在日本申請的特愿2014－111545號主張優先權，在此引用其內容。
技術介紹
在下述專利文獻1中，公開了冷卻室和3個加熱室經由中間輸送室連接的多室型熱處理裝置。在該多室型熱處理裝置中，構成為：在中間輸送室的上側設置3個的加熱室，并且在中間輸送室的下側設置冷卻室，中間輸送室內的被處理物通過升降裝置從冷卻室的上側被搬入到該冷卻室內，再從冷卻室排出。進而，在該多室型熱處理裝置中，相對于被搬入至冷卻室的中央的被處理物，從設置在該被處理物側方的多個部位的噴嘴噴射冷卻介質(噴霧)，由此利用冷卻介質的霧(mist)進行冷卻(噴霧冷卻)。在上述各噴嘴中，經由集流管從冷卻介質泵供給冷卻介質。此外，在下述專利文獻2中，公開有具備能夠噴射冷卻介質的噴嘴的淬火裝置；在下述專利文獻3中，公開有具備冷卻介質的噴出機構的熱處理爐；在下述專利文獻4中，公開有氣水冷卻裝置的水集流管。現有技術文獻專利文獻專利文獻1：日本國特開2014－051695號公報專利文獻2：日本國特開昭58－141323號公報專利文獻3：日本國特開平7－90356號公報專利文獻4：日本國特開2004－315920號公報
技術實現思路
專利技術要解決的技術問題在專利文獻1的多室型熱處理裝置中，難以從多個噴嘴相對于被處理物噴射均勻的量的冷卻介質，由此存在難以均勻地對被處理物的各處冷卻的情況。在通過加熱室對被處理物的加熱和冷卻室對被處理物的冷卻而對被處理物實施所希望的熱處理的熱處理裝置中，被處理物的冷卻中的不均勻性是不能忽視并且極其重要的技術問題。本專利技術鑒于上述問題而提出，目的在于提供一種能夠實現比以往更均勻的噴霧冷卻的冷卻裝置及多室型熱處理裝置。用于解決上述技術問題的方案為了實現上述目的，本專利技術的第1方案的冷卻裝置，至少具備：多個冷卻噴嘴，配置在容納于冷卻室的內部的被處理物的周圍，朝向該被處理物噴霧冷卻介質；集流管，與所述多個冷卻噴嘴連通；冷卻泵，向該集流管供給冷卻介質。多個冷卻噴嘴被分為多個組。此外，與多個冷卻噴嘴的各組的每組對應地設置集流管。根據本專利技術的第2方案，在上述第1方案的冷卻裝置中，多個冷卻噴嘴在被處理物的橫向上被分為2個以上的組。此外，根據本專利技術的第3方案，在上述第1或第2方案的冷卻裝置中，在被處理物的側方，多個冷卻噴嘴在上下方向上設置為多層。此外，根據本專利技術的第4方案，在上述第3方案的冷卻裝置中，多個冷卻噴嘴中的最上層的冷卻噴嘴配置在比被處理物的上端更高的位置、并且配置為比其他層的冷卻噴嘴更靠近冷卻室的內側。此外，根據本專利技術的第5方案，在上述第1～第4中的任一方案的冷卻裝置中，集流管設置在被處理物的周圍，并且形成為該集流管與多個冷卻噴嘴的距離為等距離。本專利技術的第6方案的多室型熱處理裝置，具備加熱被處理物的加熱裝置和上述第1～第5中的任一方案的冷卻裝置。專利技術效果根據本專利技術，因為集流管與多個冷卻噴嘴的各組中的每組對應地設置，所以與使用單一的集流管向多個冷卻噴嘴供給冷卻介質的情況相比較，能夠抑制由集流管的壓損引起的各冷卻噴嘴中的冷卻介質的噴射量的不均勻。因此，根據本專利技術，能夠比以往更均勻地相對于被處理物噴射冷卻介質，因此能夠實現比以往更均勻的噴霧冷卻。附圖說明圖1是示出本專利技術的一實施方式的冷卻裝置及多室型熱處理裝置的整體構成的第1縱剖視圖。圖2是示出本專利技術的一實施方式的冷卻裝置及多室型熱處理裝置的整體構成的第2縱剖視圖。圖3是示出本專利技術的一實施方式的冷卻裝置的整體構成的縱剖視圖。圖4是圖2中的Ⅳ-Ⅳ線剖視圖。圖5是圖2中的Ⅴ-Ⅴ線剖視圖。圖6是圖2中的Ⅵ-Ⅵ線剖視圖。具體實施方式以下，參照附圖對本專利技術的一實施方式進行說明。如圖1所示，本實施方式的多室型熱處理裝置100是使冷卻裝置R、中間輸送裝置H以及2個的加熱裝置K1、K2合體的裝置。另外，雖然實際的多室型熱處理裝置具備3個加熱裝置，但因為在圖1中示出了包含冷卻裝置R的中心軸線(在垂直方向上延伸的中心軸線)的縱剖面，所以第3個加熱裝置沒有被示出。即，多室型熱處理裝置100具備冷卻裝置R、中間輸送裝置H以及3個加熱裝置(包含加熱裝置K1、K2)。如圖1～圖6所示，冷卻裝置R是冷卻處理被處理物X的裝置，具備：冷卻腔1、多個冷卻噴嘴2、多個噴霧集流管3(集流管)、冷卻泵4、冷卻排水管5(冷卻水排出管)、冷卻水槽6、冷卻循環管7(冷卻水循環管)以及多個攪拌噴嘴8等等。另外，在圖1中省略了冷卻循環管7的圖示。冷卻腔1是縱型圓筒形的容器(中心軸線為垂直方向的容器)，內部空間為冷卻室RS。該冷卻腔1的上部連接有中間輸送裝置H，在冷卻腔1中形成有使冷卻室RS與中間輸送裝置H的內部空間(輸送室HS)連通的開口1a。在冷卻室RS中，被處理物X(被冷卻物)經由該開口1a從輸送室HS被搬入/搬出。如圖1～圖3所示，多個冷卻噴嘴2被離散配置(配置在多個位置上)在容納于冷卻室RS內的被處理物X的周圍。多個冷卻噴嘴2以朝向被處理物X噴霧(噴射)冷卻介質的方式構成。更具體地說，多個冷卻噴嘴2以如下的方式被離散配置：在被處理物X的周圍，在垂直方向上設有多層(具體地為5層)并且在冷卻腔1(冷卻室RS)的圓周方向上隔開了一定間隔的狀態下，將被處理物X作為整體包圍并且和被處理物X的距離為大致等距離。上述“多層”表示若干個的冷卻噴嘴2被分別設置在垂直方向上不同高度的位置(區域)。此外，本實施方式的多個冷卻噴嘴2被設置在被處理物X的側方。該“側方”并不限定于與被處理物X的側面對置的區域，而是表示在水平方向上與被處理物X相鄰的區域(在水平方向上與被處理物X的配置位置不同的區域)，該區域也可以包含比被處理物X的上端高的位置以及比被處理物X下端低的位置。此外，多個冷卻噴嘴2被分為多個組。多個冷卻噴嘴2在被處理物X的橫向(水平方向)上被分為2個以上的組。雖然在各組中包含規定數量的冷卻噴嘴2，但各組包含的冷卻噴嘴2的數量可以相互相同，也可以不同。即，多個冷卻噴嘴2在冷卻室RS的垂直方向上的每一層被分為組，此外，在冷卻腔1(冷卻室RS)的圓周方向上也被分為多個組。如圖3～圖4所示，在這樣的多個組(噴嘴組)中，單獨地設置有噴霧集流管3。即，對應于多個冷卻噴嘴2的各組來設置噴霧集流管3。更具體地說，如圖4所示，全部的冷卻噴嘴2中屬于最上層的多個冷卻噴嘴2被分為2個噴嘴組，在各個噴嘴組中單獨地設置有噴霧集流管3。另一方面，如圖5所示，屬于最下層以及中間的3層的各層的多個冷卻噴嘴2被分為3個噴嘴組，各個噴嘴組單獨地設置有噴霧集流管3。這樣的各個噴嘴組的各冷卻噴嘴2，其噴嘴軸(冷卻介質的噴射軸)的方向被調節為朝向被處理物X，朝向被處理物X噴霧經由噴霧集流管3從冷卻泵4供給的冷卻介質。此外，如圖1或圖3所示，全部的冷卻噴嘴2中屬于最上層的多個冷卻噴嘴2在垂直方向上被配置在比被處理物X的上端更高的位置。另一方面，屬于最下層的多個冷卻噴嘴2被配置在與被處理物X的下端大致相同的高度。進而，屬于最上層的多個冷卻噴嘴2被配置在比其他層的冷卻噴嘴2更靠內側(冷卻室RS的內側)，即比其他層的冷卻噴嘴2更遠離冷卻腔1的內表面。換言之，最上層的多個冷卻噴嘴2被配置在比其他層的冷卻噴嘴2更接近在冷卻腔1(冷卻室R本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種冷卻裝置，至少具備：多個冷卻噴嘴，配置在容納于冷卻室內部的被處理物的周圍，朝向所述被處理物噴霧冷卻介質；集流管，與所述多個冷卻噴嘴連通；冷卻泵，向所述集流管供給冷卻介質，所述多個冷卻噴嘴被分為多個組，與所述多個冷卻噴嘴的各組的每組對應地設置所述集流管。

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2014.05.29 JP 2014-1115451.一種冷卻裝置，至少具備：多個冷卻噴嘴，配置在容納于冷卻室內部的被處理物的周圍，朝向所述被處理物噴霧冷卻介質；集流管，與所述多個冷卻噴嘴連通；冷卻泵，向所述集流管供給冷卻介質，所述多個冷卻噴嘴被分為多個組，與所述多個冷卻噴嘴的各組的每組對應地設置所述集流管。2.如權利要求1所述的冷卻裝置，其特征在于，所述多個冷卻噴嘴在所述被處理物的橫向上被分為2個以上的組。3.如權利要求1或2所述的冷卻裝...

【專利技術屬性】
技術研發人員：勝俁和彥，磯本馨，永田喬裕，中山公，清水勇助，西谷玄，
申請(專利權)人：株式會社IHI，IHI機械系統股份有限公司，
類型：發明
國別省市：日本;JP